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2022
12-01

如何使用真空干燥箱才能更長(zhǎng)久
真空干燥箱廣泛應(yīng)用于生物化學(xué)，化工制藥、醫(yī)療衛(wèi)生、農(nóng)業(yè)科研、環(huán)境保護(hù)等研究應(yīng)用領(lǐng)域，作粉末干燥、烘培以及各類玻璃容器的消毒和滅菌用。特別適合于對(duì)干燥熱敏性、易分解、易氧化物質(zhì)和復(fù)雜成分物品進(jìn)行快速高效的干燥處理。那么在使用真空干燥箱需要注意哪些方面？1樣品放置將需干燥物料均勻放入干燥箱內(nèi)樣品架上，推入干燥箱內(nèi)。注意事項(xiàng)：①不可在烘箱加熱狀態(tài)下放置樣品，需在確保加熱關(guān)閉狀態(tài)下放置樣品；②放置樣品時(shí)，上下四周應(yīng)留存一定空間，保持箱內(nèi)氣流暢通；③若樣品在干燥過程中會(huì)產(chǎn)生相態(tài)變化，必須裝在托盤中，避免污
2022
11-04

超聲波清洗機(jī)使用時(shí)有哪些注意事項(xiàng)
超聲波淸洗機(jī)原理主要是將換能器，將功率超聲頻源的聲能，并且要轉(zhuǎn)換成機(jī)械振動(dòng)，通過淸洗槽壁使之將槽子中的淸洗液輻射到超聲波。由于受到輻射的超聲波，使之槽內(nèi)液體中的微氣泡能夠在聲波的作用下從而保持振動(dòng)。凡是液體能浸到且聲場(chǎng)存在的地方都有淸洗作用，其特點(diǎn)適用于表面形狀非常復(fù)雜的零件的淸洗。尤其是采用這一技術(shù)后，可減少化學(xué)溶劑的用量，從而大大降低環(huán)境污染。超聲波清洗機(jī)的使用注意事項(xiàng)1、放置清洗清洗物不直接接觸空腔的底部，請(qǐng)把一不銹鋼籃中的操作。請(qǐng)除去大顆粒，銹渣和其它沉積物，這些物質(zhì)會(huì)引起同樣的傷害到清
2022
11-03

使用1800℃小型箱式爐時(shí)要格外注意這些
1800℃小型箱式爐適用于實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研院所、大專院校供暖，用于一般小型鋼件及淬火、退火、回火等熱處理的元素分析和測(cè)定，還可用于金屬、陶瓷的燒結(jié)、溶解、分析等高溫加熱。外殼采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板，表面噴涂。箱式爐的外殼由薄鋼板折疊焊接而成，其爐膛由高鋁耐火材料制成的箱形爐襯組成。發(fā)熱元件采用鐵鉻鋁合金絲，繞成螺旋狀后擰入爐襯的上、下、左、右線槽內(nèi)。發(fā)熱元件與線槽連接，可直接向爐體散熱。這樣可以有效加快爐子的加熱速度，進(jìn)一步提高溫度控制精度。硅酸鋁纖維氈、硅藻、土磚也用作箱式爐內(nèi)襯與爐殼之間的保
2022
10-18

1200℃開啟式管式爐開爐的操作規(guī)程是怎樣的？
1200℃開啟式管式爐爐管可以配置為60mm或80mmO.D.的高純度剛玉管。爐管兩端安裝了一對(duì)不銹鋼真空法蘭（不銹鋼針閥和寶塔噴嘴接頭），因此樣品可以在真空或大氣保護(hù)下進(jìn)行燒結(jié)。精確的溫控系統(tǒng)包括30條溫升和溫降曲線設(shè)置，其溫控精度達(dá)到+/-1℃。1200℃開啟式管式爐開爐的操作規(guī)程是怎樣的？1、打開管式爐的主電源，啟動(dòng)風(fēng)扇。2、打開面板電源（順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)鎖定旋鈕），啟動(dòng)面板。3、使儀器處于初始狀態(tài)（即PV顯示數(shù)值，SV閃動(dòng)停止）。如果不在此狀態(tài)，按向上鍵重置儀器，使儀器只處于測(cè)量和顯示狀態(tài)。4
2022
10-11

真空蒸鍍的流程工藝
真空蒸鍍，簡(jiǎn)稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料(或稱膜料)并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術(shù)，具有成膜方法簡(jiǎn)單、薄膜純度和致密性高、膜結(jié)構(gòu)和性能等優(yōu)點(diǎn)。真空蒸鍍的流程工藝1、脫脂處理用丙酮或酒精進(jìn)行清洗2、表面處理(必要時(shí))電暈(corona)放電處理，紫外線照射處理等。3、底面涂布/硬化處理(必要時(shí))為了得到精美的蒸鍍膜，有時(shí)必須進(jìn)行底面涂布處理。進(jìn)行底面涂布處理可以得到以下的效果:(1)、改善樹脂與蒸鍍膜之間的密
2022
10-08

使用箱式爐時(shí)要注意這些
箱式爐的控制系統(tǒng)與爐子融為一體，爐襯由真空成型的高純度氧化鋁高分子輕質(zhì)材料制成。采用高溫合金電阻絲（含鉬，爐絲表面溫度可達(dá)1400℃）或硅碳棒作為加熱元件；控制面板上裝有智能溫度調(diào)節(jié)器、控制電源開關(guān)、主加熱工作/停止按鈕、電壓、安培表、電腦接口，以便隨時(shí)觀察系統(tǒng)的工作狀態(tài)。本產(chǎn)品采用可靠的集成電路，具有良好的工作環(huán)境和抗干擾性。爐殼最高溫度≤45℃時(shí)，工作環(huán)境大為改善。微電腦程序控制，可編程曲線，全自動(dòng)加熱/冷卻，運(yùn)行中可修改溫度控制參數(shù)和程序，靈活、方便、易操作。箱式爐采用閉環(huán)技術(shù)觸發(fā)可控硅模
2022
09-07

如何檢查退火爐的氣密性
退火爐是通過熱處理可以改變鋼的組織結(jié)構(gòu)，從而改善鋼的性能。熱處理可以顯著提高鋼的機(jī)械性能，延長(zhǎng)機(jī)器零件的使用壽命。退火爐是冷軋連續(xù)熱鍍鋅生產(chǎn)線中的重要設(shè)備，爐內(nèi)氣氛直接影響產(chǎn)品的表面質(zhì)量。爐內(nèi)氣氛的好壞在很大程度上取決于爐子本身的氣密性。連續(xù)退火爐氣密性檢查的難點(diǎn)主要在于爐體面積大，管道復(fù)雜，可能出現(xiàn)泄漏的部位繁多。對(duì)氣密性的檢查要常規(guī)化、制度化。1、確定氣密性檢查的重點(diǎn)部位這些重點(diǎn)部位一般包括：1)檢修時(shí)更換設(shè)備的部位。檢修時(shí)動(dòng)過的爐體和管道部分，都要作為檢查的關(guān)鍵部位。2)開啟過的頂蓋、底蓋
2022
09-07

熱噴涂和噴焊有區(qū)別嗎？熱噴涂鍍膜設(shè)備告訴你
表面工程是指對(duì)材料表面進(jìn)行預(yù)處理后，改變金屬表面或非金屬表面的形貌、化學(xué)成分、微觀結(jié)構(gòu)和結(jié)構(gòu)，獲得表面特征的表面涂層、表面改性或各種表面工程固體復(fù)合處理技術(shù)。表面工程技術(shù)分為三大類：表面合金化、表面涂層和薄膜涂層技術(shù)和表面處理。表面合金化：包括噴焊和堆焊、離子注入、轉(zhuǎn)化膜技術(shù)、擴(kuò)散滲透、激光熔鍍、熱滲透鍍等表面鍍膜和膜鍍技術(shù)：包括電化學(xué)沉積、化學(xué)沉積、氣相沉積、熱噴涂、電沉積電鍍、化學(xué)轉(zhuǎn)化處理、刷鍍、化學(xué)鍍、氣相沉積、涂層和堆焊、金屬染色、熱浸鍍等表面處理：包括激光電子束熱處理技術(shù)、噴丸、軋制和
2022
08-12

高真空蒸發(fā)鍍膜儀需要怎樣的維護(hù)和保養(yǎng)？
高真空蒸發(fā)鍍膜儀可提供大100A鍍膜電流，大蒸發(fā)溫度高達(dá)1800℃，可滿足各種普通金屬和部分非金屬的蒸發(fā)。真空室采用高純石英，易于觀察鍍膜過程，易清洗；結(jié)合分子泵組，可達(dá)到5x10-4pa的極限真空度，有效保證氣相沉積膜的純度和附著力。全自動(dòng)程序控制，彩色觸摸屏界面，操作簡(jiǎn)單，可鍍金（AU）、鉑（PT）等非氧化性貴金屬，也可鍍銥（IR）、鉻（CR）、鋁(AL)等細(xì)小顆粒易氧化膜材料。特別適用于場(chǎng)發(fā)射電鏡、透射電鏡樣品制備和非晶碳包覆膜/TEM網(wǎng)格支撐膜的制作，也可為薄膜應(yīng)用等材料領(lǐng)域提供理想的鍍
2022
08-09

金剛石線切割的優(yōu)勢(shì)以及需要提高的幾個(gè)方面
金剛石線可以分為電鍍金剛石線和樹脂金剛石線。金剛石切割線是通過一定的方法，將金剛石鍍覆在鋼線上制成，通過金剛石切割機(jī)，金剛石切割線可以與物件間形成相對(duì)的磨削運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)切割的目的。金剛石線切割機(jī)采用金剛石線單向循環(huán)或往復(fù)循環(huán)運(yùn)動(dòng)的方式，使金剛石線與被切割物件間形成相對(duì)的磨削運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)切割的目的。金剛石切割線相比傳統(tǒng)工藝有三大優(yōu)勢(shì)：1)金剛石線切割漏損少，壽命長(zhǎng)，切割速度快，切割效率高，提升產(chǎn)能；2)品質(zhì)受控，單片成本低，金剛石線切割造成的損傷層小于砂漿線切割，有利于切割更薄的硅片；3)環(huán)保
2022
08-03

雙溫區(qū)管式爐這幾個(gè)操作小妙招你可以掌握一下
雙溫區(qū)管式爐可裝載四個(gè)不同材質(zhì)的蒸發(fā)坩堝舟，可同時(shí)將兩個(gè)蒸發(fā)坩堝源送入管式爐內(nèi)進(jìn)行CO蒸發(fā)或反應(yīng)蒸發(fā)?？蓪?shí)現(xiàn)快速加熱，通過在每個(gè)溫區(qū)設(shè)置不同的加熱溫度，形成不同的溫度梯度，實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)沉積。雙通道進(jìn)料系統(tǒng)可在程序控制下推拉兩個(gè)裝有不同蒸發(fā)材料的坩堝，實(shí)現(xiàn)共蒸發(fā)或反應(yīng)蒸發(fā)，特別適用于多層二維晶體材料的制備。雙溫區(qū)管式爐內(nèi)部有兩個(gè)溫區(qū)，可在300℃以內(nèi)產(chǎn)生不同的溫度梯度；采用PID控制。溫控儀可設(shè)置30段升溫、降溫程序，每個(gè)溫區(qū)可單獨(dú)控制；采用KF快速法蘭密封，只需一個(gè)卡箍即可完成法蘭連接，放料、取料方
2022
07-25

你真的懂雙靶磁控濺射儀嗎？
磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、沉積薄膜均勻性好、成分接近靶材成分等優(yōu)點(diǎn)。傳統(tǒng)濺射技術(shù)的工作原理是：在高真空條件下，入射離子（ar+）在電場(chǎng)作用下轟擊靶材，使靶材表面的中性原子或分子獲得足夠的動(dòng)能，與靶材表面分離，沉積在基板表面形成薄膜。但是，電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的影響而漂移，導(dǎo)致濺射效率低。短的電子轟擊路徑也會(huì)導(dǎo)致襯底溫度升高。為了提高濺射效率，在靶材下方安裝了強(qiáng)磁體，中心和圓周分別有N極和S極。由于洛倫茲力的作用，電子被束縛在靶材周圍并繼續(xù)做圓周運(yùn)
2022
07-14

多功能試樣表面處理機(jī)制膜時(shí)可以設(shè)置三種模式
多功能試樣表面處理機(jī)是一種用于掃描電鏡和電子探針的樣品制備設(shè)備，可用于真空碳蒸鍍、真空鍍膜和離子濺射，在高純氬氣保護(hù)下也可用于各種離子處理。本設(shè)備處理后的樣品既可用于樣品的外觀觀察，也可用于成分分析，尤其是成分的定量分析。本儀器配備機(jī)械泵和分子泵，分子泵系統(tǒng)特別適用于對(duì)真空度要求高、真空環(huán)境好的用戶。多功能試樣表面處理機(jī)將硅片放入真空反應(yīng)系統(tǒng)，通入少量氧氣，加1500V高壓，高頻信號(hào)發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號(hào)，從而形成強(qiáng)電磁場(chǎng)石英管中，氧氣被電離，形成由氧離子、活性氧原子、氧分子和電子混合而成的等離子體
2022
07-13

小小的蠕動(dòng)泵能夠應(yīng)用在哪些行業(yè)
蠕動(dòng)泵是一種可控制流速的液體輸送裝置，具有輸送精度高、較強(qiáng)的耐腐蝕性、剪切作用小、操作簡(jiǎn)單及易于維護(hù)等優(yōu)勢(shì)，所以廣泛應(yīng)用在科研、制藥、化工、環(huán)保、飲料、食品、印刷等各領(lǐng)域。其在科研實(shí)驗(yàn)室常被用于細(xì)胞組織輸送、標(biāo)本脫色、灌注、液體色譜分析以及酸性或堿性溶液輸送等。實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域蠕動(dòng)泵在小體積流體分配和計(jì)量方面具有很好的重復(fù)性精度。無(wú)需安裝任何閥，消除了流體常見的阻塞及虹吸現(xiàn)象。實(shí)驗(yàn)室研發(fā)過程中常見的應(yīng)用場(chǎng)合有：細(xì)胞組織輸送、標(biāo)本脫色、灌注、液體色譜分析以及酸性或堿性溶液輸送。食品、化工領(lǐng)域許多現(xiàn)有泵管
2022
07-05

管式爐在使用過程中該如何對(duì)減壓閥進(jìn)行通氣？
管式爐爐管內(nèi)的壓力應(yīng)保持在1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，不得低于1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓或大于0.02MPa。這種方法可以保證爐管內(nèi)的壓力在這個(gè)范圍內(nèi)，氣瓶必須配備減壓閥。建議選擇0-0.6mpa范圍的減壓閥。不要選擇大范圍的減壓閥（如0-2.5mpa），這樣不準(zhǔn)確，容易爆裂石英管。減壓閥開到0-0.05mpa為宜，不能超過0.05Mpa。當(dāng)管式爐爐溫超過1000℃時(shí)，不允許在爐管內(nèi)進(jìn)行真空燒結(jié)。最好保持微正壓狀態(tài)，保護(hù)燒結(jié)氣氛。建議長(zhǎng)時(shí)間使用的石英管溫度不超過11??00℃。如果您擔(dān)心氣壓太高或燃燒物有氣體排放，可以
2022
06-23

箱式爐淬火前需要做哪些準(zhǔn)備工作？
箱式爐采用雙層外殼結(jié)構(gòu)和PID程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)，可控硅控制。該爐采用氧化鋁多晶纖維材料制成，雙層爐殼之間裝有風(fēng)冷系統(tǒng)，可快速升降溫。外殼整體密封，蓋板用硅膠泥密封，爐門用硅膠墊片密封，氣體通過流量計(jì)后進(jìn)出后室。多爐進(jìn)出口，可預(yù)抽真空，可通氬、氮?dú)?、氧氣、惰性氣體等。爐具有溫度場(chǎng)平衡、表面溫度低、升降溫速度快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，是大專院校、科研院所、工礦企業(yè)進(jìn)行氣氛保護(hù)燒結(jié)和氣氛還原的理想產(chǎn)品。1、可接觸氣體：所有惰性氣體、氮?dú)狻鍤?、氧氣、二氧化碳、水蒸氣等?、外觀設(shè)計(jì)：采用人性化設(shè)計(jì)，美觀大
2022
06-15

管式爐使用前需要做好哪些準(zhǔn)備工作？
管式爐是在沉底材料上生長(zhǎng)優(yōu)質(zhì)石墨烯、碳納米管和碳化硅的專用設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、納米材料、碳纖維、碳化硅、涂層等新材料和新工藝。它在使用前需要做好哪些準(zhǔn)備工作呢？1、設(shè)計(jì)溫度升降曲線。升溫速率不得高于10℃/min，降溫速率應(yīng)低于15℃/min。2、清潔環(huán)境。3、每周開始使用時(shí)，檢查機(jī)械泵油路是否在標(biāo)線以上，取下兩端蓋板，用吸塵器清潔剛玉爐管。4、將樣品舟推入剛性管式爐中間（恒溫長(zhǎng)度10cm）。5、塞住兩個(gè)絕緣爐塞，使第二個(gè)爐塞的末端與爐體側(cè)面齊平。6、安裝燃?xì)鉅t法蘭，確認(rèn)墊片落入凹槽內(nèi)。管式
2022
06-10

你知道真空蒸鍍儀常見的蒸發(fā)源有幾種嗎
真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)品圖蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)品圖程
2022
06-08

說起超聲波霧化模塊的優(yōu)點(diǎn)那可真是太多了
噴涂一直存在于我們的生活中，長(zhǎng)期以來(lái)被用于多種用途，包括噴涂裝飾性和保護(hù)性涂料。因此，它是材料科學(xué)家制備薄膜的又一工具。在噴涂中，噴嘴尺寸、噴涂形狀、噴嘴到基材的距離、噴涂速度和噴涂過程中基材的加熱都是可控的參數(shù)，以達(dá)到理想效果。使用超聲波霧化模塊，可使噴霧溶液均質(zhì)化，霧滴大小得到有效控制（噴嘴頻率會(huì)影響霧滴大?。?，可分布微霧量，從而保證成分和結(jié)構(gòu)的均勻性和所得薄膜和圖案的準(zhǔn)確性。材料浪費(fèi)保持在低限度，設(shè)備操作人員的風(fēng)險(xiǎn)很小。超聲波霧化模塊的工作原理是利用超聲波換能器將高頻聲波轉(zhuǎn)化為機(jī)械能，再轉(zhuǎn)
2022
05-13

磁控濺射的種類有幾種
電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng)。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大

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