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2022
05-13

直流等離子磁控濺射鍍膜儀使用須知
直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一種小型直流（DC）等離子磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括所有必需的附件，如500W（600V）直流電源、2英寸磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。主要由濺射真空室、磁控濺射靶材、樣品臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機和真空測量裝置組成。高真空濺射可用于制備金屬、半導體、絕緣體等薄膜材料。具有設備簡單、易控制、涂布面積大、附著力強等優(yōu)點，可用于大專院校和科研院所的薄膜材料的研究和制備。直流等離子磁控濺射鍍膜儀濺射鍍膜的原理是異常輝光放電中的稀有氣體產(chǎn)生的等離子體在電場作
2022
05-10

箱式爐需要怎樣的安全保護？
采用新型保溫材料的箱式爐具有體積小、重量輕、保溫效果好、升溫速度快等優(yōu)點。面板材質(zhì)為不銹鋼；外形美觀，操作簡單，維護方便，爐后設有可控煙囪；適用于煤、焦化產(chǎn)品和化工原料的化學分析。五面加熱（左、右、前、后、下）可獲得均勻的溫度場。1、雙熱電偶雙儀表控溫檢測，確保不發(fā)生超溫實驗事故。2、爐膛材料采用高純氧化鋁纖維（表面涂有美國進口高溫氧化鋁涂層，可提高加熱效率、反射率、爐膛清潔度，延長使用壽命）。3、采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和風冷系統(tǒng)，使殼體表面溫度低于60℃。4、爐體頂部有排氣孔，可將爐腔內(nèi)的腐蝕性氣體
2022
04-22

等離子清洗機使用時需要注意些什么？
等離子清洗機廣泛應用于等離子清洗、蝕刻、等離子電鍍、等離子鍍膜、等離子灰化和表面改性。通過它的處理，可以提高材料表面的潤濕性，從而可以對多種材料進行涂層、電鍍等操作，增強附著力和結(jié)合力，同時去除有機污染物、油或油脂。等離子清洗裝置包括四個主要部件：激發(fā)電源、真空泵、真空室和反應氣源。激勵源是為氣體放電提供能量的電源，可以采用不同的頻率；真空泵的主要作用是去除副產(chǎn)品，包括旋片機械泵或增壓泵；以及在真空室中進行放電電離的電極。反應氣體轉(zhuǎn)化為等離子體。反應氣體通常為氬氣、氧氣、氫氣、氮氣和四氯化碳等單
2022
04-14

使用涂覆機之后應該怎么對其進行清洗
涂覆機的使用和維護能否穩(wěn)定可靠地運行已經(jīng)成為設備維護人員關(guān)注的焦點，涂覆機的清洗也受到用戶的關(guān)注。涂覆機的清洗方法主要有三種:一、傳統(tǒng)的清洗方法。用二氯甲烷、DMF等揮發(fā)性溶劑清洗混合頭。這種方法清洗*，成本低，但最大的問題是污染環(huán)境。因為是化學品，揮發(fā)性，有毒，不可回收，違背了現(xiàn)在提倡的綠色環(huán)保趨勢，所以使用有限，逐漸不被市場接受，慢慢淘汰。二、高壓水清洗。雖然這種方法無毒、成本低、操作簡單，但行業(yè)內(nèi)普遍存在清洗不*的問題;同時，高壓水清洗會浪費水資源，產(chǎn)生大量工業(yè)廢水，不是很好的清洗方法。三
2022
04-12

研磨拋光機系列都適用于哪些場合？
研磨拋光機系列主要用于石英晶體片、硅片、鍺片、LCD光學鏡片、led藍寶石基板、藍寶石手機玻璃窗、石英基板、投影儀玻璃平臺、印刷電路曝光玻璃板、陶瓷片、功能陶瓷基板、陶瓷、CNC刀片、時鐘玻璃、外殼表面、背光導光板、手機五金件、后視鏡、電磁爐微晶玻璃、ITO導電玻璃太陽能電池硅片、大理石平臺、活塞環(huán)、移印鋼板、金屬閥片、peek閥片、陶瓷閥片、硬質(zhì)合金密封圈及各種泵用機械密封（碳化硅、碳化鎢和石墨）、高速鋼和鎢刀片、縱切刀片、銅、鋁片,鉬片,不銹鋼片,塑膠模具鋼,五金裝飾板,鐵氧體磁芯,鈮酸鋰,
2022
04-07

小型真空管式爐各部分結(jié)構(gòu)都有怎樣的優(yōu)勢特點？
小型真空管式爐是一種高性能、節(jié)能的新型電爐，具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐溫均勻度高、高溫區(qū)、可選氣氛和真空爐型等特點，主要應用于冶金、玻璃、熱處理、鋰電池正負極、新能源、模具等行業(yè)。它不僅可以抽真空，還可以氣體保護。該結(jié)構(gòu)使爐管拆裝方便，操作簡單。用戶可直接將密封腔移出爐體，加快冷卻過程。透明的石英管腔可以直接看到樣品的燒結(jié)狀態(tài)。法蘭采用卡箍式快速接頭，省去了取料和卸料時的繁瑣操作。爐管工件用上下6組進口電阻絲穿過爐膛。溫度場均勻，內(nèi)外溫差可控制在3度左右。氣動
2022
03-28

超聲波霧化模塊無需加熱即可霧化水或水溶液
超聲波霧化模塊是根據(jù)超聲波霧化原理工作的組件。因為通常作為加濕機產(chǎn)品的核心部件，所以也叫超聲波霧化配件，簡稱霧化配件。壓電陶瓷片（俗稱超聲波霧化片）安裝在盛水容器底部，驅(qū)動控制電路產(chǎn)生與霧化片諧振頻率一致的驅(qū)動電壓。當應用于霧化片時，霧化片會產(chǎn)生振蕩能量。振蕩能量沿垂直于霧化器表面的方向在水中傳播。在水深適當?shù)那闆r下，能量傳播軸上的水面中心會鼓起一個水柱。大量小的張力波出現(xiàn)在水柱前端，大大降低了隆起水面的表面張力，水面被表面張力波的波長劃分為許多小區(qū)域，每個區(qū)域似乎沒有相互結(jié)合，獨立地變成一個個
2022
03-22

等離子鍍膜設備發(fā)揮的作用還真不少
等離子鍍膜設備是一種小型射頻（RF）等離子磁控濺射鍍膜儀器系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括所有必需的配件，如300W（13.5mhz）射頻電源、2"磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。它是制作一些金屬和非金屬的又好又便宜的實驗幫手。在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的重要因素。因此，在評價薄膜樣品的性能時，需要對薄膜樣品在不同厚度下的性能進行測試。等離子鍍膜設備集成了真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)，可在高真空蒸發(fā)室中完成薄膜蒸發(fā)，并將蒸發(fā)后的樣品在手套內(nèi)的高純惰性氣體氣氛中儲存、制備和檢測盒子。蒸
2022
03-18

操作輥壓機出現(xiàn)波動會是什么原因
輥壓機由機架、兩個輥系、傳動裝置、扭矩支承、輥罩、進料裝置、液壓(加壓)系統(tǒng)、主軸承潤滑系統(tǒng)、干油潤滑系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、拆輥裝置等部份組成。在中控操作的過程中，輥壓機出現(xiàn)波動大致可概括為三方面原因：一是物料因素的影響；二是輥壓機電氣/機械方面故障所致；三是工藝流程上的影響因素。1物料因素的影響1.1通過輥壓機的物料細粉量過多因細粉的密實度低，其間夾雜著氣體。當細粉量過多物料經(jīng)過高壓力區(qū)被擠壓后密實度會增高，但細粉中夾雜的氣體會聚集成氣泡，在高壓力作用下氣泡被擠壓破裂，從而導致輥壓機振動。其次細粉之
2022
03-15

1100℃微型箱式爐的使用需要注意這三點
1100℃微型箱式爐采用電阻絲作為加熱元件，K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。下拉式爐門結(jié)構(gòu)，方便客戶放樣；爐體采用氧化鋁微晶纖維。溫度可達1100℃，可連續(xù)工作1000℃，控溫精度±1℃；能耗500W還配備通風接口，可在氧氣或惰性氣體下使用。該爐具有體積小、重量輕、溫場平衡、升降溫速度快、節(jié)能等優(yōu)點，此外，該設備還可置于手套箱內(nèi)，在真空和可控氣氛下進行樣品燃燒，是大專院校、科研院所及工礦企業(yè)進行高溫燒結(jié)、金屬退火及質(zhì)量檢測的理想產(chǎn)品。電阻絲為發(fā)熱體，采用雙層外殼結(jié)構(gòu)，智能溫控系統(tǒng)，該爐采用氧
2022
03-09

箱式爐在維護時有哪些特殊需要注意的事項
箱式爐主要供合金鋼制品、各種金屬機件正火、淬火、退火等熱處理之用，或金剛石等切割刀片進行高溫燒結(jié)用途。廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材等領(lǐng)域的生產(chǎn)及實驗。熱電偶將爐溫轉(zhuǎn)變成電壓信號后，加在微電腦溫度控制調(diào)節(jié)儀上。調(diào)節(jié)儀將此信號與程控設定相比較，輸出一個可調(diào)信號。再用可調(diào)信號控制觸發(fā)器，再有觸發(fā)器觸發(fā)調(diào)壓器，達到調(diào)節(jié)電爐電壓和電爐溫度的目的。箱式爐的維護注意事項1.爐子使用或長時間不用后，要在120℃左右烘烤1小時，在300℃左右烘烤2小時后使用，以
2022
03-07

使用1200℃開啟式管式爐要注意的細節(jié)還真不少
1200℃開啟式管式爐具有基礎(chǔ)溫度低、沉積速度快、成膜質(zhì)量好、針孔少、不易開裂等優(yōu)點；在此過程中，由于等離子體中的高速電子撞擊中性反應氣體分子，中性反應氣體分子會變成碎片或處于活化狀態(tài)，容易發(fā)生反應；在射頻的幫助下，含有薄膜原子的氣體在局部形成等離子體，等離子體具有很強的化學活性，易于反應在基板上沉積所需的薄膜；高真空系統(tǒng)由兩級旋片真空泵和分子泵組成，真空度可達0.001pa；數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)由多通道質(zhì)量流量計和流量顯示儀表組成，實現(xiàn)氣體流量的精確測量和控制；每條燃氣管道均配備高壓止回閥，確
2022
01-21

使用管式爐一定要遵循的注意事項
管式爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負極材料，新能源，磨具等行業(yè)，測定材料在一定氣溫條件下的專業(yè)設備。爐型結(jié)構(gòu)簡單，操作容易，便于控制，能連續(xù)生產(chǎn)。管式爐使用的注意事項注意一電爐操作工應具備國家相應電氣設備操作資格，并熟讀隨機儀表說明書等技術(shù)文件!溫度系統(tǒng)操作:用戶開關(guān)板給電爐送電，此時程序表得電，按溫度儀表(如右圖)說明書設定儀表(如P、I、D參數(shù))，按工藝要求編制加熱程序，打開加熱旋鈕,使加熱功率到達6KW。加熱功率可按下式計算:加熱功率=儀表電壓×儀表電流正常加熱電流約為:22A，加
2021
10-09

小型磁控射頻濺射鍍膜儀的理想性能值得你來體驗
就像把石頭扔進平靜的湖水會濺出水一樣，用高速離子轟擊固體表面會使近表面的原子（或分子）從固體表面逃逸。這種現(xiàn)象稱為濺射現(xiàn)象。濺射意味著具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面以發(fā)射原子。早期的人們認為，這種現(xiàn)象源于目標的局部加熱。然而，人們發(fā)現(xiàn)濺射和蒸發(fā)有本質(zhì)區(qū)別，人們逐漸認識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結(jié)果。小型磁控射頻濺射鍍膜儀磁控濺射利用磁場束縛電子的運動，提高電子的電離率。與傳統(tǒng)濺射相比，具有“低溫”和“高速”兩大特點。磁控射頻濺射鍍膜儀具有小型化、標準化的特點。磁控管靶有1英寸和2英
2021
09-14

高真空蒸發(fā)鍍膜儀可實現(xiàn)多層涂裝混合涂裝
高真空蒸發(fā)鍍膜儀采用前開門真空室設計，室高增加到500mm。樣品臺與蒸發(fā)源之間的距離有較大的調(diào)節(jié)范圍，可適應多種蒸發(fā)要求，避免樣品在蒸發(fā)源中高處損壞。高真空蒸發(fā)鍍膜儀配有四套鎢舟蒸發(fā)源和水冷銅電極。每個蒸發(fā)源支持100A的大電流和1800°C的加熱溫度，可實現(xiàn)多層涂裝或多種材料混合涂裝。型腔采用上樣品臺，樣品臺可旋轉(zhuǎn)、加熱、升降，所有操作均可通過觸摸屏集成控制。設備真空系統(tǒng)為兩級旋片泵和渦輪分子泵組成的兩級真空系統(tǒng)，可提供潔凈無油的高真空環(huán)境。該設備配有氣動閥門系統(tǒng)。通過操作系統(tǒng)的自動控制，用戶
2021
08-10

多功能試樣表面處理機能賦予材料新的表面性能
多功能試樣表面處理機是一種用于掃描電子顯微鏡和電子探針樣品制備的設備?？稍诟呒儦鍤獗Ｗo下進行多種離子處理。也可以對碳和金屬進行真空蒸鍍。該設備處理的樣品既可用于樣品的形貌觀察，也可用于成分分析。尤其是成分的定量分析更適合。該設備采用分子泵和機械泵組成的高真空單元系統(tǒng)。試樣以三種方式移動：平面旋轉(zhuǎn)、傾斜旋轉(zhuǎn)和傾斜進動。多功能試樣表面處理機功能可以賦予材料新的表面特性。這些特性隨時間逐漸衰減的特性稱為老化。一般認為，等離子體表面處理對材料的影響涉及到表面活化、交聯(lián)、表面蝕刻等多個復雜過程。表面活化賦
2021
07-26

熱噴涂鍍膜設備都有哪些得天獨厚的優(yōu)勢？
熱噴涂鍍膜設備濺射鍍膜是將基體和靶材置于真空腔內(nèi)，用電子或高能激光轟擊靶材，使表面成分以原子團或離子的形式濺射出來，沉積在表面基板，通過成膜工藝形成薄膜。粉末壓制燒結(jié)法和粉末熱等靜壓法常用于小尺寸平面靶材的生產(chǎn)。前者制作的靶材純度較低，而后者制作工藝復雜，特別是在合金靶材的生產(chǎn)中，成分不*均勻。靶材的大尺寸和高利用率是涂層領(lǐng)域的新趨勢，熱噴涂鍍膜設備等離子噴涂的諸多特點顯示出其在生產(chǎn)大尺寸、高利用率靶材方面的*優(yōu)勢。1、等離子噴涂火焰溫度高，熱量集中，幾乎可以熔化所有高熔點粉末材料，可根據(jù)工件表
2021
07-15

說說高真空蒸發(fā)鍍膜儀的適用范圍
高真空蒸發(fā)鍍膜儀是一種高真空蒸鍍機，特別適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。本機配備四只蒸鍋，每只蒸鍋均配有擋板，如果改變部分配置，還可以實現(xiàn)有機材料的蒸鍍，可以滿足發(fā)光器件和有機太陽能電池的研究需求，是一種涂裝效果理想的實驗設備。原理：基于電阻蒸發(fā)原理，利用大電流對鉬舟或鎢藍或固定支架上的鍍膜材料進行加熱，使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在鍍膜樣品上，以獲得最佳鍍膜效果。采用大抽速、高壓縮比、自然風冷卻復合分子泵，保證電鍍時蒸發(fā)源和樣品排出的氣體能被快
2021
07-07

雙溫區(qū)管式爐的使用必須嚴格按照操作手冊進行
雙溫區(qū)管式爐采用精密鋼板制作，表面靜電噴塑，外形美觀。工作室由剛玉管制成，加熱元件根據(jù)溫度需要匹配（硅碳棒或硅鉬棒），保溫材料為輕質(zhì)保溫保溫加硅酸鋁耐火纖維棉，與電爐配套的溫控部分采用PID可調(diào)智能儀表控制可對多個程序段進行編程控制產(chǎn)品的燒成過程，并具有過流、限流、過熱等保護功能。雙溫區(qū)管式爐主要用于高校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的開發(fā)、晶體硅襯底涂層、金屬材料擴散焊和真空或氣氛中熱處理等設備必須按照操作規(guī)范使用，還應注意以下幾點：1、檢查氣路是否暢通或泄漏。
2021
06-29

立式真空水淬爐技術(shù)及應用的研究
立式真空水淬爐是源于鈦合金材料在航天航空領(lǐng)域大量使用而研發(fā)制造的，主要針對α+β型鈦合金材料真空加熱之后快速淬火(固溶處理)的一種新型熱處理設備。大家都知道，鈦的密度為4.51g/cm3，鈦合金很輕，如Ti-6Al-4V的密度僅為4.42g/cm3，鈦合金材料經(jīng)固溶處理再時效強化后的比強度遠高于高強度鋁合金、鎂合金、高溫合金和高強度結(jié)構(gòu)鋼，甚至與超高強度鋼相當，因此被廣泛應用于航空航天、船舶、生物醫(yī)用、化工、汽車等領(lǐng)域。如美國F-22戰(zhàn)機上鈦合金的用量已高達41%，而鋁合金和鋼的用量分別只有15

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