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2016
07-06等離子鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法
等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi),等離子鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn),可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)2016
06-032016
05-032016
04-272016
04-27真空鍍膜技術(shù)的原理在各大行業(yè)里的應(yīng)用
1、真空鍍膜機(jī)PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。2、真空鍍膜機(jī)PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類,真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類,相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。近十多年來,真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的,它已經(jīng)成為當(dāng)今的表面處理方式之一。我們通常所說的2016
01-112016
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