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2023
12-13

有效延長氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器使用壽命的方法
氣溶膠粒徑譜儀被廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測、室內(nèi)空氣質(zhì)量評估以及健康研究等領(lǐng)域。而氣溶膠粒徑譜儀的核心組件之一是粉塵發(fā)生器，它能夠產(chǎn)生不同大小范圍的顆粒供后續(xù)分析使用。然而，由于工作條件、操作不當(dāng)或使用時(shí)間過長等原因，氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器往往會(huì)出現(xiàn)性能下降甚至損壞的問題。1、定期清潔定期清潔是保持氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器正常運(yùn)行的重要步驟。在每次使用后或按設(shè)備制造商建議頻率進(jìn)行清潔操作。首先斷開電源，并確保所有部件冷卻到適當(dāng)溫度。然后拆下與主體相連的管路和連接件，并用干凈軟布擦拭外表面和內(nèi)部霧化裝置
2023
11-22

怎么才算是正確保養(yǎng)納米顆粒采樣器
納米顆粒采樣器是一種用于采集空氣中納米顆粒的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測、實(shí)驗(yàn)室研究等領(lǐng)域。為了保證采樣器的正常運(yùn)行和延長使用壽命，需要對其進(jìn)行定期的保養(yǎng)和維護(hù)。以下是納米顆粒采樣器的保養(yǎng)細(xì)節(jié)：1.清潔采樣器外部：使用軟布或棉簽輕輕擦拭采樣器外部，去除灰塵和污漬。避免使用化學(xué)溶劑，以免損壞設(shè)備表面。2.更換濾膜：根據(jù)采樣器使用說明書的建議，定期更換濾膜。濾膜是采樣器中最重要的部件，負(fù)責(zé)捕捉空氣中的納米顆粒。長時(shí)間使用后，濾膜上會(huì)積累大量的顆粒物，影響采樣效果。因此，定期更換濾膜是保證采樣準(zhǔn)確性的關(guān)鍵
2023
10-24

氣溶膠采樣器主體有哪些部分組成？
氣溶膠采樣器的主體部分通常由以下幾個(gè)主要部分組成：撞擊器：這是氣溶膠采樣器的重要組成部分，它由帶有微小噴孔的鋁合金圓盤及一級過濾器構(gòu)成。圓盤間有密封膠圈，并用三個(gè)彈簧掛鉤固定在一起。當(dāng)空氣進(jìn)入采樣口后，氣流速度逐級增高，不同大小的粒子按空氣動(dòng)力特征分別撞擊在相應(yīng)的采集板上，每級收集到粒子大小范圍取決于該級的噴孔速度和上級的截?fù)鯛顩r。前分離器：在含有10μm粒子的環(huán)境中采樣時(shí)，必須使用前分離器。前分離器是一個(gè)有Φ12.8mm的進(jìn)氣管和三個(gè)出氣管的撞擊室，用于防止粒子的反彈和重復(fù)輸送。采集板：撞擊器
2023
10-19

半自動(dòng)光刻機(jī)的光源系統(tǒng)有什么作用？
半自動(dòng)光刻機(jī)的光源系統(tǒng)在光刻工藝過程中具有非常重要的作用。以下是光源系統(tǒng)的主要作用：提供光線：半自動(dòng)光刻機(jī)需要使用特定波長和能量的光源照射到半導(dǎo)體表面，形成電路圖形。因此，光源系統(tǒng)第一個(gè)重要的作用就是提供光線，為光刻機(jī)提供能量來源，使光刻機(jī)能夠正常工作?？刂乒饩€波長及強(qiáng)度：不同的半導(dǎo)體制程工藝需要不同波長的光線，而光源系統(tǒng)可以控制輸出的光線波長和強(qiáng)度。通過調(diào)整光源系統(tǒng)的參數(shù)，可以實(shí)現(xiàn)不同工藝需求的光線波長和強(qiáng)度的輸出，從而確保光刻機(jī)能夠適應(yīng)不同的制程要求。提高曝光效率：高強(qiáng)度、穩(wěn)定的光源可以提高
2023
09-08

開爾文探針掃描系統(tǒng)的應(yīng)用和特點(diǎn)
開爾文探針系統(tǒng)是一款可以被大多數(shù)客戶所接收的掃描開爾文探針系統(tǒng)，它是在ASKP基礎(chǔ)之上包括了彩色相機(jī)/TFT顯示器、2毫米和50微米探針、外部數(shù)字示波鏡等配置。應(yīng)用范圍：吸附，電池系統(tǒng)，生物學(xué)和生物技術(shù)，催化作用，電荷分析，涂層，腐蝕，沉積，偶極層形成，顯示技術(shù)，教育，光/熱散發(fā)，費(fèi)米級掃描，燃料電池，離子化，MEMs，金屬，微電子，納米技術(shù)，Oleds，相轉(zhuǎn)變，感光染色，光伏譜學(xué)，高分子半導(dǎo)體，焦熱電，半導(dǎo)體，傳感器，皮膚，太陽能電池，表面污染，表面化學(xué)，表面光伏，表面勢，表面物理，薄膜，真空
2023
08-11

納米顆粒探測器的原理介紹
一、納米顆粒儀用物理的方法測試固體顆粒的大小和分布的一種儀器，采用數(shù)字相關(guān)器的納米激光粒度儀，其采用高速數(shù)字相關(guān)器和高性能光電倍增管作為核心器件，具有操作簡便、測試快捷、高分辨、高重復(fù)及測試準(zhǔn)確等特點(diǎn)，是納米顆粒粒度測試的選產(chǎn)品。二、原理分析：(1)采用動(dòng)態(tài)光散射原理和光子相關(guān)光譜技術(shù)，根據(jù)顆粒在液體中布朗運(yùn)動(dòng)的速度測定顆粒大小。具有原理先進(jìn)、精度高的特點(diǎn)，從而保證了測試結(jié)果的真實(shí)性和有效性。(2)高靈敏度與信噪比：本儀器的探測器采用專業(yè)級高性能光電倍增管(PMT)，對光子信號具有高的靈敏度和信
2023
07-11

表面光電壓譜系統(tǒng)是如何測量材料的光電性質(zhì)？
表面光電壓譜系統(tǒng)是一種用于測量材料光電性質(zhì)的儀器。它通過測量材料在外界光照下的電壓響應(yīng)，提供了關(guān)于材料光電行為的重要信息。本文將介紹表面光電壓譜系統(tǒng)的工作原理以及其在測量材料光電性質(zhì)方面的應(yīng)用。該系統(tǒng)的工作原理基于光電效應(yīng)，即光照能夠引起材料中電子的激發(fā)和運(yùn)動(dòng)。當(dāng)光照射到材料表面時(shí)，光子的能量可以被材料中的電子吸收，使其躍遷到更高能級。這些激發(fā)的電子可以導(dǎo)致電荷分離和電流的產(chǎn)生，從而形成電壓信號。系統(tǒng)由光源、光學(xué)系統(tǒng)、樣品臺、電子學(xué)設(shè)備和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)等組成。光源通常使用可調(diào)諧激光器或白光源，能夠
2023
07-07

勻膠機(jī)作用過程
一、勻膠機(jī)是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備，膜的厚度取決于勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。二、勻膠機(jī)有一個(gè)或多個(gè)滴膠系統(tǒng)，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉(zhuǎn)滴膠。隨著晶片尺寸的增大，出現(xiàn)了多點(diǎn)滴膠或膠口移動(dòng)式滴膠。膠膜厚度一般在500—1000nm，同一晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種，并有流量計(jì)進(jìn)行恒量控制。對涂過膠的晶片有上下刮邊功能，去掉晶片正反面多余的光刻膠。主軸轉(zhuǎn)速的穩(wěn)定性和重復(fù)性是決定膠膜厚
2023
07-03

掃描電遷移率粒徑譜儀在顆粒物測量中的應(yīng)用
顆粒物污染已成為全球環(huán)境和健康問題的重要挑戰(zhàn)之一。為了有效監(jiān)測和評估大氣中的顆粒物濃度和大小分布，科學(xué)家們開發(fā)了各種測量工具和技術(shù)。其中，掃描電遷移率粒徑譜儀（SMPS）作為一種先進(jìn)的儀器，廣泛應(yīng)用于顆粒物測量領(lǐng)域。本文將討論SMPS在顆粒物測量中的應(yīng)用。1、顆粒物粒徑分布測量：掃描電遷移率粒徑譜儀能夠快速、準(zhǔn)確地測量顆粒物的粒徑分布。通過使用一個(gè)可調(diào)節(jié)的電子束，SMPS能夠選擇性地捕獲特定粒徑范圍的顆粒物，并通過測量其在電場作用下的遷移速率來確定粒徑。這使得SMPS能夠提供高分辨率的粒徑分布數(shù)
2023
06-08

納米顆粒探測器對環(huán)境監(jiān)測有何貢獻(xiàn)
納米顆粒探測器是一種新興的環(huán)境監(jiān)測技術(shù)，能夠檢測和分析空氣、水和土壤中的微小顆粒。這些顆?？赡馨卸净蛭ｋU(xiǎn)物質(zhì)，因此對于環(huán)境保護(hù)具有重要意義。本文將介紹納米探測器的原理、應(yīng)用以及對環(huán)境監(jiān)測的貢獻(xiàn)。首先，讓我們來了解一下納米顆粒探測器的工作原理。它們通常由一個(gè)激光器和一個(gè)探測器組成。激光器會(huì)發(fā)射出一束光線，并照射在空氣或液體中。當(dāng)光線與顆粒相遇時(shí)，會(huì)散射回來并被探測器捕捉到。通過計(jì)算捕捉到的反射光強(qiáng)度和方向，可以確定顆粒的大小、形狀和化學(xué)成分。這種方法非常靈敏，可以檢測到直徑僅為幾納米的顆粒。該
2023
06-08

原子層沉積的發(fā)展介紹
一、單原子層逐次沉積，沉積層極均勻的厚度和優(yōu)異的一致性等就體現(xiàn)出來，而沉積速度慢的問題就不重要了。以下主要討論原子層沉積原理和化學(xué)，原子層沉積與其他相關(guān)技術(shù)的比較，原子層沉積設(shè)備，原子層沉積的應(yīng)用和原子層沉積技術(shù)的發(fā)展。二、通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)器并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種方法(技術(shù))。當(dāng)前驅(qū)體達(dá)到沉積基體表面，它們會(huì)在其表面化學(xué)吸附并發(fā)生表面反應(yīng)。在前驅(qū)體脈沖之間需要用惰性氣體對原子層沉積反應(yīng)器進(jìn)行清洗。由此可知沉積反應(yīng)前驅(qū)體物質(zhì)能否在被沉積材料表面化學(xué)吸附是實(shí)
2023
06-02

鹽霧氣溶膠發(fā)生器的粒徑范圍是多少
鹽霧氣溶膠發(fā)生器是一種常見的實(shí)驗(yàn)設(shè)備，被廣泛應(yīng)用于材料表面腐蝕、防護(hù)和涂層等性能測試。其基本原理是將鹽水噴霧加熱，產(chǎn)生水蒸氣并與空氣混合，形成細(xì)小顆粒的鹽霧氣溶膠。這些氣溶膠粒子具有不同的粒徑范圍，對于實(shí)驗(yàn)結(jié)果和應(yīng)用效果具有重要影響。那么，鹽霧氣溶膠發(fā)生器的粒徑范圍是多少呢？首先，我們需要了解氣溶膠粒徑的定義和分類。氣溶膠粒徑是指氣態(tài)物質(zhì)中懸浮的微小顆粒的尺寸大小，通常用直徑表示。根據(jù)粒徑大小，氣溶膠可以分為超細(xì)粒子（10μm）等幾類。其中，氣溶膠的細(xì)粒子和粗粒子對于環(huán)境污染和健康危害具有重要作
2023
05-19

電子束蒸發(fā)鍍膜儀的百科介紹
一、1、樣品襯底在蒸鍍前可以通過離子槍進(jìn)行清潔。2、樣品臺的三維轉(zhuǎn)動(dòng)(平面內(nèi)和垂直于平面)。3、可以注入氣體(特別是氧氣)，并且可控制其壓強(qiáng)。4、蒸鍍厚度控制：頻率：10-4Hz；沉積速度分辨率：0.001nm/s；沉積厚度分辨率：0.01nm/s；沉積厚度可重復(fù)性：±1sxrate。二、1、真空度三、直徑4英寸基片，片內(nèi)均勻性優(yōu)于±3%，片間均勻性優(yōu)于±2%，重復(fù)性優(yōu)于±2%。四、真空蒸發(fā)鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。該設(shè)備被廣泛應(yīng)用于在基底上制備均勻材料薄膜，從而對基底表面進(jìn)行改性
2023
05-10

如何優(yōu)化脈沖激光外延制備系統(tǒng)的生長速率和晶體質(zhì)量
激光外延制備系統(tǒng)是一種重要的半導(dǎo)體材料生長技術(shù)，可以用于制備高質(zhì)量、高純度的晶體材料。以下是優(yōu)化脈沖激光外延制備系統(tǒng)的生長速率和晶體質(zhì)量的幾個(gè)關(guān)鍵步驟：1、優(yōu)化反應(yīng)室氣氛：反應(yīng)室氣氛對晶體生長速率和質(zhì)量有很大影響。合適的氣氛可以提高晶體生長速率和質(zhì)量，并且可以降低晶體缺陷密度。使用高純度氣體或氣體混合物可以減少雜質(zhì)和不良反應(yīng)。2、控制溫度梯度：溫度梯度是晶體生長過程中一個(gè)非常重要的因素。合適的溫度梯度可以促進(jìn)晶體的生長并減少晶體的缺陷。在反應(yīng)室中設(shè)置均勻的加熱器和冷卻器可以控制溫度梯度。3、控制
2023
05-04

如何檢查真空快速退火爐的氣密性？
真空快速退火爐廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、粉末冶金等領(lǐng)域。在設(shè)備運(yùn)行過程中，為了保證其正常工作，必須對其氣密性進(jìn)行檢查。本文將介紹如何對真空退火爐進(jìn)行氣密性檢查。氣密性是指物體不透氣的能力。在真空退火爐中，氣密性指的是系統(tǒng)的真空狀態(tài)是否穩(wěn)定，并且系統(tǒng)內(nèi)外壓力差異是否小于一定范圍。因此，我們需要通過以下步驟來檢查氣密性。第一步：準(zhǔn)備工作檢查前需要關(guān)閉真空退火爐，并確保其處于常溫下。同時(shí)，需要準(zhǔn)備柿子水或其他檢漏劑。第二步：覆蓋檢漏劑用柿子水或其他檢漏劑涂抹到所有可能漏氣的部位，例如接頭、管道、閥門、觀察
2023
04-21

光刻機(jī)的應(yīng)用和原理概述
一、掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。其中曝光機(jī)就是利用紫外線通過模版去除晶圓表面的保護(hù)膜的設(shè)備。一片晶圓可以制作數(shù)十個(gè)集成電路，根據(jù)模版曝光機(jī)分為兩種：模版和晶圓大小一樣，模版不動(dòng)。模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機(jī)聚焦部分移動(dòng)。二、利用模版去除晶圓表面的保護(hù)膜。將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護(hù)膜的部分被腐蝕掉后形成電路。用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)。其中模版隨曝光機(jī)移動(dòng)的方式，模版相對曝光機(jī)
2023
04-10

磁控濺射鍍膜機(jī)的應(yīng)用優(yōu)勢體現(xiàn)在哪里
磁控濺射鍍膜機(jī)是一種廣泛應(yīng)用于制備高質(zhì)量薄膜的儀器，其具有許多應(yīng)用優(yōu)勢。以下將詳細(xì)闡述該鍍膜機(jī)的應(yīng)用優(yōu)勢。一，具有快速、可靠、高效的鍍膜效果。該機(jī)器采用高能量的離子束轟擊材料表面，使原料在真空環(huán)境中蒸發(fā)，產(chǎn)生高純度、均勻、致密、硬度高的薄膜，并具有優(yōu)良的附著力和穩(wěn)定性。這種薄膜不僅可以用于保護(hù)、裝飾和改性，還可以用于制造新材料和開發(fā)新技術(shù)。二，具有高度可控性。通過調(diào)節(jié)離子束能量、材料的化學(xué)成分、沉積速率等參數(shù)，可以制備出具有不同特性和功能的薄膜。例如，可以制備出透明導(dǎo)電膜、防反光膜、硬質(zhì)涂層、磁
2023
04-03

快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)主要有哪些特點(diǎn)
快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)是一種用于處理火災(zāi)的裝置，它利用化學(xué)反應(yīng)迅速滅火，并防止火勢擴(kuò)大。該系統(tǒng)通常包括一個(gè)罐裝化學(xué)淬滅劑的壓力罐和一個(gè)自動(dòng)噴頭裝置。當(dāng)火災(zāi)發(fā)生時(shí)，系統(tǒng)通過火災(zāi)探測器檢測到火災(zāi)，然后自動(dòng)釋放化學(xué)淬滅劑，并利用噴頭將其噴出，以達(dá)到滅火和防止火勢擴(kuò)大的目的。化學(xué)淬滅劑通常是具有高壓縮能和化學(xué)反應(yīng)性的化學(xué)物質(zhì)，可以迅速抑制火焰并降低溫度。這種系統(tǒng)常用于需要快速滅火的場所，如油氣、化工和電子設(shè)備制造等行業(yè)中的生產(chǎn)場所?？焖倩瘜W(xué)淬滅系統(tǒng)是一種特殊的消防系統(tǒng)，它可以快速、有效地滅火，保護(hù)人們的生命和
2023
03-28

開爾文測試儀的簡單介紹
一、原理分析：(1)開爾文四線檢測(KelvinFour-terminalsensing)也被稱之為四端子檢測(4T檢測，4Tsensing)、四線檢測或4點(diǎn)探針法，它是一種電阻抗測量技術(shù)，使用單獨(dú)的對載電流和電壓檢測電極，相比傳統(tǒng)的兩個(gè)終端(2T)傳感能夠進(jìn)行更精確的測量。(2)開爾文四線檢測被用于一些歐姆表和阻抗分析儀，并在精密應(yīng)變計(jì)和電阻溫度計(jì)的接線配置。也可用于測量薄膜的薄層電阻。四線檢測的關(guān)鍵優(yōu)點(diǎn)是分離的電流和電壓的電極，消除了布線和接觸電阻的阻抗。二、作用過程概述：(1)惠斯通電橋(
2023
03-06

激光直寫技術(shù)的研究與進(jìn)展
激光直寫技術(shù)是一種無需掩模、適用面廣、性價(jià)比高的微納米加工手段，目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用于微機(jī)電系統(tǒng)、掩模板、微流控、微納光學(xué)器件、超材料等微納米制造領(lǐng)域。隨著納米技術(shù)的飛速發(fā)展，器件和結(jié)構(gòu)變得越來越小，面對的場景也越來越復(fù)雜多樣。為了滿足這些新的發(fā)展需求，新一代激光直寫系統(tǒng)采用了激光與物質(zhì)非線性相互作用的新原理，在技術(shù)上實(shí)現(xiàn)了兩個(gè)突破：1、突破了衍射極限的限制，實(shí)現(xiàn)了超衍射加工；2、打破了受體材料僅能使用有機(jī)光刻膠的限制，實(shí)現(xiàn)了在各種材料也包括有機(jī)光刻膠上的激光直寫。這些突破賦予了激光直寫技術(shù)許多新的

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