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科睿設(shè)備有限公司

8
  • 2023

    03-01

    帶您深入認(rèn)識(shí)氣溶膠稀釋器

    依據(jù)ISO14644-3、潔凈室及相關(guān)受控環(huán)境檢測(cè)技術(shù)分析與應(yīng)用GB/T36066-2018,對(duì)已裝過(guò)濾系統(tǒng)檢漏時(shí)通常采用氣溶膠光度計(jì)法和離散粒子計(jì)數(shù)器(DPC)法。兩種方法均采用氣溶膠發(fā)生器在過(guò)濾系統(tǒng)的上風(fēng)側(cè)注入20~80mg/m3的氣溶膠,通過(guò)氣溶膠光度計(jì)或粒子計(jì)數(shù)器先后測(cè)試過(guò)濾系統(tǒng)上風(fēng)側(cè)和出風(fēng)口的氣溶膠濃度,完成檢漏測(cè)試。粒子計(jì)數(shù)器測(cè)量空氣中懸浮粒子的數(shù)量和粒徑,由于光學(xué)系統(tǒng)的特殊性,必須借助氣溶膠稀釋器才可以測(cè)試高濃度的懸浮顆粒物。氣溶膠稀釋器可以通過(guò)稀釋系數(shù)01:10降低氣溶膠的濃度,
  • 2023

    02-07

    英國(guó)KP開(kāi)爾文探針掃描有哪些特點(diǎn)性能?

    英國(guó)KP開(kāi)爾文探針掃描(KPFM)主要應(yīng)用于化學(xué)領(lǐng)域、電化學(xué)領(lǐng)域和材料領(lǐng)域,開(kāi)展表面無(wú)損分析、樣品表面形貌三維圖繪制、測(cè)量導(dǎo)體材料的表面功函數(shù)或半導(dǎo)體、絕緣表面的表面勢(shì)等。由于KPFM測(cè)量是AFM針尖與樣品之間的接觸電勢(shì)差,因此需要首先說(shuō)明AFM的工作原理。AFM的操作具有三種模式:分別為接觸模式、輕敲模式和非接觸模式。在接觸模式操作中,AFM的針尖接觸樣品表面,針尖和樣品之間排斥力使與針尖相連的懸臂偏轉(zhuǎn),懸臂的偏轉(zhuǎn)被測(cè)量并用作反饋信號(hào)。在其他兩個(gè)模式下,懸臂以接近共振的頻率震動(dòng),由于針尖與樣品
  • 2023

    02-07

    油霧發(fā)生器幾種不同分類應(yīng)用

    一、氣溶膠發(fā)生器,產(chǎn)生遮蔽或毒劑氣溶膠,用于電子干擾或毒害生靈的裝置。有氣懸體發(fā)生器、發(fā)煙罐、榴彈、炮彈、航空等。二、簡(jiǎn)單工作原理介紹:當(dāng)壓縮空氣從輸入口進(jìn)入后,通過(guò)噴嘴下端的小孔進(jìn)入閥座的腔室內(nèi),在截止閥的鋼球上下表面形成差壓。由于泄漏和彈簧的作用,鋼球處于中間位置,壓縮空氣進(jìn)入存油杯的上腔,油面受壓,壓力油經(jīng)吸油管將單向閥的鋼球頂起,鋼球上部管道有一個(gè)方型小孔,鋼球不能將上部管道封死,壓力油不斷流入視油器內(nèi),再滴入噴嘴中,被主管氣流從上面的小孔引射出來(lái),霧化后從輸出口輸出。節(jié)流閥可以調(diào)節(jié)油量
  • 2023

    02-01

    了解ISO16890新標(biāo)準(zhǔn),助您選擇過(guò)濾器!

    2018年以來(lái),ISO16890已經(jīng)完全取代之前EN779,成為空氣過(guò)濾器分類的國(guó)際有效測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)。ISO16890的導(dǎo)入標(biāo)志著行業(yè)范式的轉(zhuǎn)變。ISO16890是根據(jù)對(duì)不同粒徑顆粒物(PM)的過(guò)濾效率對(duì)空氣過(guò)濾器進(jìn)行分類,這使我們更加直觀地看到空氣過(guò)濾器產(chǎn)品與空氣污染物的直接聯(lián)系,同時(shí)也更加的清晰室內(nèi)空氣質(zhì)量(IAQ)與人體健康關(guān)聯(lián)。ISO16890與EN779標(biāo)準(zhǔn)與EN779相比,根據(jù)ISO16890進(jìn)行的測(cè)試程序更有區(qū)分度,ISO16890根據(jù)三種不同粒徑的顆粒物分組計(jì)算過(guò)濾器的過(guò)濾水平:PM
  • 2023

    01-17

    光刻機(jī)百科介紹

    一、光刻機(jī)(lithography)又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。二、組成步驟:利用模版去除晶圓表面的保護(hù)膜、將晶圓浸泡在腐化劑中,失去保護(hù)膜的部分被腐蝕掉后形成電路、用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)、模版和晶圓大小一樣,模版不動(dòng)、模版和集成電路大小一樣,模版隨曝光機(jī)聚焦部分移動(dòng)。三、曝光機(jī)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ),世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此
  • 2022

    12-30

    三維風(fēng)速儀的基礎(chǔ)原理介紹

    一、應(yīng)用原理:(1)該儀器利用發(fā)送聲波脈沖,測(cè)量接收端的時(shí)間或頻率(多普勒變換)差別來(lái)計(jì)算風(fēng)速和風(fēng)向的測(cè)量傳感器或測(cè)量?jī)x器。(2)是超聲波檢測(cè)技術(shù)在氣體介質(zhì)中的一種應(yīng)用它是利用超聲波在空氣中傳播速度受空氣流動(dòng)(風(fēng))的影響來(lái)測(cè)量風(fēng)速的。屬于無(wú)慣性測(cè)量,故能準(zhǔn)確測(cè)出自然風(fēng)中陣風(fēng)脈動(dòng)的高頻成分,結(jié)合現(xiàn)代計(jì)算機(jī)技術(shù),可在更高層次上揭示自然風(fēng)的特性對(duì)于提高抗風(fēng)減災(zāi)能力和風(fēng)資源的合理利用有重大意義。(3)具有重量輕、沒(méi)有任何移動(dòng)部件、堅(jiān)固耐用的特點(diǎn),而且不需維護(hù)和現(xiàn)場(chǎng)校準(zhǔn),能同時(shí)輸出風(fēng)速和風(fēng)向。客戶可根據(jù)需
  • 2022

    10-24

    半自動(dòng)光刻機(jī)的基礎(chǔ)應(yīng)用

    一、光刻機(jī)是掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。二、分類:手動(dòng):指的是對(duì)準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式,是通過(guò)手調(diào)旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來(lái)完成對(duì)準(zhǔn),對(duì)準(zhǔn)精度可想而知不高了;半自動(dòng):指的是對(duì)準(zhǔn)可以通過(guò)電動(dòng)軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧;自動(dòng):指的是從基板的上載下載,曝光時(shí)長(zhǎng)和循環(huán)都是通過(guò)程序控制,自動(dòng)光刻機(jī)主要是滿足工廠對(duì)于處理量的需要。三、技術(shù)指標(biāo):(1)支持基片的尺寸范圍,分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光
  • 2022

    08-08

    優(yōu)勢(shì)眾多的超聲波風(fēng)速計(jì)有沒(méi)有潛在問(wèn)題呢?

    相對(duì)于傳統(tǒng)的機(jī)械式測(cè)風(fēng)設(shè)備,超聲波風(fēng)速計(jì)有自己的優(yōu)勢(shì):沒(méi)有旋轉(zhuǎn)或移動(dòng)的部件,可靠性提高明顯,幾乎不需要維護(hù)。機(jī)械式風(fēng)速儀的風(fēng)杯和風(fēng)向標(biāo)都有自身的慣性,測(cè)量部件本身就變成了一個(gè)天然存在的濾波器,使得快速變化的風(fēng)速被濾掉測(cè)量不到。而超聲波風(fēng)速儀不會(huì)有這個(gè)問(wèn)題,要測(cè)量那些快速變化的陣風(fēng),包括風(fēng)向的瞬間變化都可以測(cè)量得到。一個(gè)好的超聲波風(fēng)速計(jì),可以幫助人們解決風(fēng)速儀結(jié)冰的困擾。相對(duì)于機(jī)械式,超聲波風(fēng)速儀可以設(shè)計(jì)更理想的加熱方案,從根本上解決冰凍問(wèn)題。因此,抗冰凍是很多業(yè)主選擇超聲波風(fēng)速儀的重要理由。那么
  • 2022

    08-08

    你知道探針臺(tái)有哪些類型?

    手動(dòng)探針臺(tái):手動(dòng)探針臺(tái)是手動(dòng)控制的,這意味著晶圓載物臺(tái)、顯微鏡以及定位器/操縱器都是由使用者手動(dòng)移動(dòng)的。因此一般是在沒(méi)有很多待測(cè)器件需要測(cè)量或數(shù)據(jù)需要收集的情況下使用手動(dòng)探針臺(tái)。該類探針臺(tái)的優(yōu)點(diǎn)之一是只需要最少的培訓(xùn),易于配置環(huán)境和轉(zhuǎn)換測(cè)試環(huán)境,并且不需要涉及額外培訓(xùn)和設(shè)置時(shí)間的電子設(shè)備、PC或軟件。由于其靈活和可變性高的特點(diǎn),非常適合研發(fā)人員使用。半自動(dòng)探針臺(tái):半自動(dòng)探針臺(tái)是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)領(lǐng)域的分析儀器,于2004年3月17日啟用。支持4,5,6寸wafer分辨率0.25um提供4
  • 2022

    08-01

    使用鹽霧氣溶膠發(fā)生器,需要遵守哪些要求

    鹽霧氣溶膠發(fā)生器因其自身的優(yōu)勢(shì)廣泛應(yīng)用于制藥行業(yè)過(guò)濾器的檢漏。其用于潔凈室和密閉系統(tǒng)高效和較高效空氣過(guò)濾器系統(tǒng)的檢測(cè)。還可以在潔凈空氣和密閉工業(yè)部門用于氣流流型、自凈時(shí)間測(cè)定和泄漏測(cè)試。使用惰性氣體(通常是CO2)通過(guò)加熱器推動(dòng)油氣化。在介紹氣溶膠光度計(jì)的它配合氣溶膠發(fā)生器,一起對(duì)高效過(guò)濾器檢漏。因?yàn)橐诟咝н^(guò)濾器的上游增加發(fā)塵,就需要使用到氣溶膠發(fā)生器,使用的是堅(jiān)固耐用的不銹鋼結(jié)構(gòu),寬大的填充口,獨(dú)立的噴嘴控制。如過(guò)濾器驗(yàn)證商,政府和商用核設(shè)施,制藥廠,醫(yī)藥設(shè)施等領(lǐng)域都能得到應(yīng)用。使用鹽霧氣溶
  • 2022

    07-18

    磁控濺射的基本概念和基本原理

    一、磁控濺射概述磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),而上世紀(jì)70年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。二、基本概念濺射:用荷能粒子轟擊固體表面時(shí),固體表面原子受到荷能粒子碰撞,有可能獲得足夠的能量和動(dòng)量,并從表面逸出的現(xiàn)象。濺射鍍膜:
  • 2022

    07-11

    脈沖激光沉積制備高性能薄膜的應(yīng)用熱點(diǎn)

    近年來(lái),由于脈沖激光技術(shù)的發(fā)展日趨成熟,脈沖激光沉積(PLD)在薄膜制備領(lǐng)域的應(yīng)用已經(jīng)成為研究的熱點(diǎn)。由于脈沖激光具有高能量峰值以及短脈寬,燒蝕靶材時(shí)會(huì)濺射出大量復(fù)雜的微納粒子形成等離子體,等離子體在真空或背景氣體中經(jīng)過(guò)定向膨脹后到達(dá)基底,在基底上形成產(chǎn)物,因此利用PLD技術(shù)可以在基底上沉積特定成分和微納結(jié)構(gòu)的薄膜。脈沖激光沉積技術(shù)能夠制備類型廣泛且性能優(yōu)異的功能薄膜,因此目前被廣泛地應(yīng)用到光電、新能源、生物、超導(dǎo)、電子封裝、催化、傳感等領(lǐng)域。1、光電領(lǐng)域近年來(lái),PLD制備二維薄膜在光電領(lǐng)域的研
  • 2022

    07-04

    磁控濺射鍍膜機(jī)常見(jiàn)故障有哪些?一定要注意!

    當(dāng)磁控濺射鍍膜機(jī)出現(xiàn)故障后應(yīng)先要向使用者了解故障的現(xiàn)象,之后要親自開(kāi)機(jī)觀察故障,這樣才能更準(zhǔn)確、更快、更合理地排除故障。排除故障應(yīng)先檢測(cè)低真空是否正常(機(jī)械泵、羅茨泵、管道、下室、蒸發(fā)室),低真空正常后再開(kāi)主泵,主泵正常后檢測(cè)下室真空中是否正常,下室真空正常再開(kāi)高閥進(jìn)行高真空檢測(cè)檢漏,直至達(dá)到真空,極限真空、保真空、恢復(fù)真空,如極限真空和保真空正常,而恢復(fù)真空和真空不正常則可能主泵有問(wèn)題。今天給大家列舉一些磁控濺射鍍膜機(jī)使用過(guò)程中常見(jiàn)的故障和解決方法,希望能幫助大家!一、當(dāng)正在鍍膜時(shí)真空度突然下
  • 2022

    06-07

    超聲波風(fēng)速計(jì)的概述和優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)

    一、超聲波風(fēng)速計(jì)概述超聲波風(fēng)速儀最早于1950年代被開(kāi)發(fā)出來(lái)它的原理是測(cè)量超聲波脈沖在兩個(gè)探頭之間傳播的時(shí)間來(lái)計(jì)算空氣移動(dòng)的速度,也就是風(fēng)速。當(dāng)空氣移動(dòng)時(shí),超聲波在兩個(gè)探頭之間的時(shí)間會(huì)變長(zhǎng)或變短。超聲波在空氣里就像水里的魚(yú),水的流動(dòng)方向,順流而下或逆流而上,會(huì)影響魚(yú)行進(jìn)的速度。二、超聲波風(fēng)速計(jì)特點(diǎn)1.沒(méi)有旋轉(zhuǎn)或移動(dòng)的部件,易于安裝,結(jié)構(gòu)堅(jiān)固,幾乎不需要維護(hù)。2.采樣頻率高,測(cè)量數(shù)據(jù)準(zhǔn)確,可以測(cè)量3D風(fēng)速數(shù)據(jù),完整地描述測(cè)量點(diǎn)的風(fēng)速湍流。3.測(cè)風(fēng)范圍廣。
  • 2022

    05-23

    球磨測(cè)厚儀的具體操作如下所示

    球磨測(cè)厚儀適用于測(cè)定涂在平整試板上的濕膜厚度,但在現(xiàn)場(chǎng)或工廠也可以用于只向一個(gè)方向彎曲的工件表面,只要底材在兩同心輪間不彎曲變形以至影響儀器的測(cè)定即可。當(dāng)結(jié)果評(píng)定時(shí),使用每個(gè)標(biāo)度的線性中心區(qū)段,即使用標(biāo)度總量程的80%左右的區(qū)段,精度高。主要用于測(cè)定涂漆表面濕膜的厚度并可大致估計(jì)膜干時(shí)的大致厚度,該儀器既可用在實(shí)驗(yàn)室又可用于生產(chǎn)控制。主要用于測(cè)量色漆、清漆等各種涂料在施工時(shí)涂層厚度的工具。各種涂料施工后,立即將濕膜測(cè)厚儀穩(wěn)定垂直地放在平整的工件涂層表面,即可測(cè)得涂層厚度。球磨測(cè)厚儀具體操作如下:
  • 2022

    05-18

    深能級(jí)瞬態(tài)譜儀主要具有以下功能特色

    深能級(jí)瞬態(tài)譜儀是半導(dǎo)體領(lǐng)域研究和檢測(cè)半導(dǎo)體雜質(zhì)、缺陷深能級(jí)、界面態(tài)等的重要技術(shù)手段!測(cè)試功能:電容模式、定電容模式、電流模式、(雙關(guān)聯(lián)模式)、光激發(fā)模式、FET分析、MOS分析、等溫瞬態(tài)譜、Trapprofiling、俘獲截面測(cè)量、I/V,I/V(T)、C/V,C/V(T)、TSC/TSCAP、光子誘導(dǎo)瞬態(tài)譜、DLOS。測(cè)試根據(jù)半導(dǎo)體P-N結(jié)、金-半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容(△C~t)技術(shù)和深能級(jí)瞬態(tài)譜的發(fā)射率窗技術(shù)測(cè)量出的深能級(jí)瞬態(tài)譜,是一種具有很高檢測(cè)靈敏度的實(shí)驗(yàn)方法,能檢測(cè)半導(dǎo)體中微量雜
  • 2022

    05-05

    納米壓印系統(tǒng)應(yīng)用及方法介紹

    納米壓印系統(tǒng)是一種用于數(shù)學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器。生物大分子的納米圖案變化對(duì)于組織工程具有非常重要的意義,如何將在生物活性前提下實(shí)現(xiàn)生物大分子的納米圖案仍然是一個(gè)科學(xué)挑戰(zhàn)。利用納米壓印過(guò)程的生物相溶性,可以將生物大分子DNA、蛋白質(zhì)等直接進(jìn)行納米圖案化,進(jìn)而研究其在生物醫(yī)療和組織工程領(lǐng)域的應(yīng)用。納米壓印方法:包括步驟:提供集成模具;所述集成模具包括平面板以及緊密固定在所述平面板上的多個(gè)具有納米圖案的單元模具;提供襯底;在所述襯底表面形成光刻膠層;將所述集成模具壓在所述光刻膠層
  • 2022

    04-22

    皮可安培計(jì)的工作原理及使用注意事項(xiàng)

    皮可安培計(jì)轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表(galvanometer)裝有一分流器(shunt)以降低敏感度,它只能用于直流,但加一整流器(rectifier)也可用于交流。基本簡(jiǎn)介:?測(cè)量電路中電流強(qiáng)度的儀器,也叫安培表、電流表。主要類型有轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表、轉(zhuǎn)動(dòng)鐵片式電流表、熱偶式電流表以及熱線式電流表轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式電流表(galvanometer)裝有一分流器(shunt)以降低敏感度,它只能用于直流,但加一整流器(rectifier)也可用于交流。皮可安培計(jì)工作原理:一般可直接
  • 2022

    04-19

    多功能磁控濺射儀功能強(qiáng)大,性價(jià)比高

    多功能磁控濺射儀在所有的小型高真空鍍膜設(shè)備中,此設(shè)備功能強(qiáng)大,性能價(jià)格比非常好。鍍膜方式包含了熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā)和磁控濺射沉積。由于它的模塊化設(shè)計(jì),使得多數(shù)研發(fā)人員用起來(lái)非常方便,針對(duì)各種樣品易于轉(zhuǎn)換沉積條件,是研究人員不可獲缺的鍍膜工具!系統(tǒng)主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。主要性能指標(biāo):極限壓力≤2.0x10-5Pa;基片結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)6個(gè)工位;樣品尺寸:Ф30mm,可放置6片;運(yùn)動(dòng)方式:0-360°;加熱:最高溫度600
  • 2022

    04-11

    磁濺射鍍膜機(jī)的磁控濺射種類及工藝

    磁濺射鍍膜機(jī)是一種普適鍍膜機(jī),用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系??慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜,亦可鍍鐵磁材料。磁濺射鍍膜機(jī)主要用于實(shí)驗(yàn)室制備有機(jī)光電器件的金屬電極及介電層,以及制備用于生長(zhǎng)納米材料的催化劑薄膜層。真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù),在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。這里主要講一下由濺射鍍膜技術(shù)發(fā)展來(lái)的磁控濺射鍍膜的原理及相應(yīng)工藝的研究。濺射屬于PDV(物理氣相沉積)三種基本
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