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2022
04-06

一文帶你快速了解磁控濺射鍍膜機的工作原理
磁控濺射鍍膜機是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。因為是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射鍍膜機原理：磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使
2022
03-14

該如何提高激光直寫技術(shù)的精度呢？
激光直寫技術(shù)是一種近年來應(yīng)用廣泛的超精密加工技術(shù)。該技術(shù)是一種利用強度可變的激光束，在基片表面實施有規(guī)則的高精度掃描。在掃描過程中，光刻基片隨載物平臺而運動。因此影響光刻元件的質(zhì)量取決于載物平臺的定位精度以及運動的穩(wěn)定性，影響光刻元件的快速性取決于系統(tǒng)的響應(yīng)度。基于數(shù)字式伺服的運動控制器是超精密定位系統(tǒng)的關(guān)鍵。由于數(shù)字伺服濾波器是數(shù)字式伺服的運動控制器的核心，從而數(shù)字伺服濾波器的設(shè)計將影響系統(tǒng)的定位精度。數(shù)字伺服濾波器是指系統(tǒng)的閉環(huán)控制與調(diào)節(jié)采用數(shù)字技術(shù)，所有控制調(diào)節(jié)實現(xiàn)軟件化。調(diào)節(jié)器的全部軟件
2022
03-03

傳統(tǒng)常見的超聲波風(fēng)速儀與Sonic超聲波風(fēng)速計優(yōu)勢對比
超聲波風(fēng)速儀的原理是測量超聲波脈沖在兩個探頭之間傳播的時間來計算空氣移動的速度，也就是風(fēng)速。當(dāng)空氣移動時，超聲波在兩個探頭之間的時間會變長或變短。超聲波在空氣里就像水里的魚，水的流動方向，順流而下或逆流而上，會影響魚行進(jìn)的速度。傳統(tǒng)常見的超聲波風(fēng)速儀，它有一個超聲波發(fā)射探頭，三個超聲波接收探頭。這樣，就可以測量在二維平面上3個方向上的風(fēng)速。而Sonic超聲波風(fēng)速儀該系統(tǒng)包括：單軸、雙軸或三軸探頭陣列，以及其他幾種新型探頭陣列設(shè)計。這些設(shè)計減少了流動不對稱和結(jié)構(gòu)構(gòu)件干擾造成的誤差。該系統(tǒng)還提供了必
2022
02-14

勻膠機常用的2種滴膠方式介紹
勻膠機(SpinCoater)用于晶片基底材料的表面光刻膠涂覆。勻膠機由樣品臺、滴膠裝置和空心電動機組成，其工作原理是，通過在樣品臺上產(chǎn)生負(fù)壓將需要旋涂的基底材料吸附在樣品臺上，光刻膠液滴注在基底材料的表面，通過準(zhǔn)確控制電動機的旋轉(zhuǎn)速度，以此來改變離心力的大小，同時通過控制膠液的流量來達(dá)到制備薄膜所需的厚度。常用的滴膠方式分為兩種：即靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。靜態(tài)滴膠是在基片靜止時將光刻膠滴注到基片的中心位置，滴膠量約為1-10ml,但在滿足厚度需求的前提下，滴膠量還應(yīng)根據(jù)光刻膠的黏度和基片的大小來確
2022
01-06

開爾文探針相關(guān)應(yīng)用介紹
開爾文探針提供了一種無損、無觸點的方法來測量各種材料組合的功函數(shù)差。這些探針可具有多種設(shè)計，包括不同的頂端形狀、長度和半徑。為了確定最佳設(shè)計，同時最大限度地減少測試。開爾文探針可以確定材料的接觸電勢差(或功函數(shù)差)。這種探針基于時變電容器，使用兩個電極工作：由功函數(shù)已知的材料制成的可移動探針。由功函數(shù)未知的材料制成的固定樣品。當(dāng)這些電極電連接時，費米能級達(dá)到平衡。功函數(shù)較低的材料中的電子流入功函數(shù)較高的材料中，這種流動產(chǎn)生接觸電勢差，為電容器充電。此外，可移動電極中的振動改變存儲在電容器內(nèi)部的電
2021
12-27

有關(guān)磁控濺射鍍膜機的主要優(yōu)勢介紹
磁控濺射鍍膜機是一種普適鍍膜機，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜，亦可鍍鐵磁材料。主要用于實驗室制備有機光電器件的金屬電極及介電層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。磁控濺射鍍膜機主要優(yōu)勢：1、實用性：1.1、設(shè)備集成度高，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，可以放置于實驗桌面上即可；1.2、通過更換設(shè)備上下法蘭可以實現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換，實現(xiàn)一機多用；2、方便性：2.1、設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安
2021
12-22

有關(guān)脈沖激光沉積的發(fā)展歷程介紹
脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕，是一種利用激光對物體進(jìn)行轟擊，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。發(fā)展歷程：脈沖激光沉積的發(fā)展與探究，處處受制。事實上，當(dāng)時的激光科技還未成熟，可以得到的激光種類有限；輸出的激光既不穩(wěn)定，重復(fù)頻率亦太低，使任何實際的膜生成過程均不能付諸實行。因此，PLD在薄膜制作的發(fā)展比其它技術(shù)落后。以分子束外延（MBE）為例，制造出來的薄膜質(zhì)素就優(yōu)良得多。往后十年，由于激光科技的急速發(fā)展，提升了PLD的競爭能力。與早前的紅寶石激光器相比，當(dāng)時的
2021
11-25

磁控濺射的工作原理及產(chǎn)品優(yōu)勢
磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用，產(chǎn)生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，
2021
11-22

選購勻膠機需要注意的幾個細(xì)節(jié)
勻膠機其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。勻膠機是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備，膜的厚度取決于勻膠機的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。從其原理來說，可以看出選購勻膠機需要注意的幾個細(xì)節(jié)：1、旋轉(zhuǎn)速度轉(zhuǎn)速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標(biāo)示的轉(zhuǎn)速和電機的實際轉(zhuǎn)速誤差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲得準(zhǔn)確的實驗數(shù)據(jù)的。
2021
11-20

氣溶膠發(fā)生器使用難題方案
在許多實際試驗中,需要使用氣溶膠發(fā)生器,以固定的粒徑分布連續(xù)穩(wěn)定地產(chǎn)生濃度可調(diào)的氣溶膠粒子。氣溶膠主要是用特殊的噴嘴設(shè)計的。壓縮空氣通過一個圓形槽被吹入霧化液體。噴氣口與液體之間的剪切力在所謂的環(huán)形間隙中充分分散,形成微小的氣溶膠粒子,慣性對撞機體積較大。當(dāng)氣溶膠顆粒返回液體容器時,輸出顆粒尺寸主要分布在0.1到10微米之間。適用于醫(yī)療器械檢驗機構(gòu)、疾病預(yù)防控制中心、醫(yī)院、制藥企業(yè)、高效過器生產(chǎn)企業(yè)等潔凈室、高效過濾器的檢漏。然而新手在使用儀器時都會遇到一些問題，下面我們來仔細(xì)說說。氣溶膠發(fā)生器
2021
03-10

Palas®如何輔助影響天氣？
Palas®如何輔助影響天氣？Palas®與科學(xué)研究所并肩進(jìn)行技術(shù)創(chuàng)新北京市人工影響天氣辦公室（北京市人影辦）負(fù)責(zé)北京地區(qū)人工影響天氣業(yè)務(wù)、科研和管理，日常主要業(yè)務(wù)包括為北京地區(qū)人工增雨、人工防雹等，曾為2008年北京奧運會等重大活動提供氣象保障。辦公室近期購置了定制的Palas®Promo®2000氣溶膠光譜儀。我們與來自人影辦的高級工程師進(jìn)行了訪談，他從事大氣中云微物理過程的研究。本文將與您分享Palas®儀器與研究機構(gòu)一同探索科研的體驗。Palas®Promo®2000氣溶膠光譜儀從德國到

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