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2025
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03-061.55μm近紅外和2.1μm中紅外片上隔離器應用方面取得進展
本研究中,研究團隊利用離子切片技術,成功地驗證了在硅基底上制備高光學品質鐵石榴石磁光薄膜的可行性,并展示了其在片上光隔離器中的潛在應用。研究團隊采用釔鐵石榴石(YIG)晶體,摻鉍鐵石榴石(BIG)和新開發(fā)的YIG陶瓷作為基材,分別探究了115keV能量和2E16劑量He+離子注入下的離子與缺陷分布,并通過起泡實驗證明了YIG陶瓷與單晶材料通過離子切片技術實現(xiàn)百納米級薄膜制備的可行性。與單晶相比,YIG陶瓷具有生產(chǎn)成本更低、生長周期更短和具備大尺寸制備潛力等優(yōu)勢,更適合基于離子切片實現(xiàn)大面積磁光薄以上信息由企業(yè)自行提供,信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業(yè)負責,化工儀器網(wǎng)對此不承擔任何保證責任。
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