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近日，那諾中國在“上海交通大學(xué)電子信息與電氣工程學(xué)院掩模板兆聲清洗機(jī)采購項(xiàng)目”的競標(biāo)中，順利中標(biāo)，這無疑是對NANO-MASTER綜合實(shí)力的又一次肯定！

本套設(shè)備是NANO-MASTER, INC. 開發(fā)的獨(dú)立立柜式單晶圓/掩模版清洗機(jī)SWC-4000，可用于清洗晶圓片、光盤、光學(xué)元件、陶瓷基底，或其它類似的平底部件?？梢赃_(dá)到去除污染物、殘留物、或微塵顆粒等。系統(tǒng)的主要功能包含DI水的兆聲清洗、多四路的化學(xué)試劑清洗，以及帶異丙醇的高速甩干等。因此該系統(tǒng)對于單片清洗而言具有優(yōu)異的基底清洗能力，并且整個(gè)工藝處理時(shí)間可以控制在4分鐘內(nèi)。

SWC-4000把所有的清洗需要集成到一個(gè)緊湊的立柜中，旋轉(zhuǎn)清洗單元(SWC)、兆聲脈沖射流清洗器(PJC) 、和試劑容器以及所有的閥及傳感器都全部包含到該系統(tǒng)。Labview可編程的觸摸屏用戶界面位用于控制旋涂儀的操作。在工序執(zhí)行階段，產(chǎn)品的程序數(shù)、旋轉(zhuǎn)速度、剩余時(shí)間等信息都先顯示在用戶界面的屏幕上?？刂破鲿詣铀愠黾铀俣然驕p速度并提供不同的速度時(shí)間梯度。SWC-4000可以存儲多達(dá)25 套產(chǎn)品程序，每一套程序可以支持20個(gè)操作步驟，而在每一個(gè)步驟中可以設(shè)定以下參數(shù)：RPM轉(zhuǎn)速（維持的轉(zhuǎn)速）、RAMP加速梯度（多快時(shí)間達(dá)到那個(gè)速度）、Dwell運(yùn)行時(shí)間（維持想要的速度的時(shí)間有多長）。

SWC-4000使用真空托盤固定晶圓片，并能夠在可控的時(shí)間周期內(nèi)以的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，因而可以保證操作具有超高的可重復(fù)性及設(shè)置的靈活性。掩模版是通過機(jī)械托盤來固定的，操作具有高度的可重復(fù)性并可設(shè)置。托盤可以互換。