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查看更多2019年7月16日,我司成功中標西安電子科技大學等離子增強化學氣相沉積設(shè)備采購招標項目。
本項目選用NANO-MASTER設(shè)計生產(chǎn)的NPE-4000系統(tǒng),該系統(tǒng)為緊湊型設(shè)計PC 控制的獨立式下游式PECVD系統(tǒng),占地面積僅為26”x44”(包含自動Load Lock 單元),不銹鋼立柜。
本設(shè)備有以下主要突出優(yōu)勢:
- 根據(jù)客戶的具體應(yīng)用和需求,配置NANO-MASTER設(shè)計的中空陰*密度離子源。帶淋浴頭的平面離子源,具有離子密度高、電子溫度低以及腔體占空比低的特點,從而帶來高速、超低損傷,以及快速反應(yīng)周期的優(yōu)勢,以實現(xiàn)低損傷高速率的沉積。
- 配置NANO-MASTER先進的OES&EPD光發(fā)射譜終點監(jiān)測功能,可以涵蓋所有可見光波長范圍,并通過LabView 軟件控制該終點監(jiān)測系統(tǒng)。
- 系統(tǒng)標準配置的RF 射頻電源為13.56MHz 600W 電源,配套自動調(diào)諧器給離子源供電,并配套300W低頻電源用于薄膜應(yīng)力控制。
- 系統(tǒng)標準配置的真空泵組包含渦輪分子泵和機械泵,極限真空可達到6x10-7Torr。渦輪分子泵與腔體之間的直連設(shè)計,系統(tǒng)可獲得優(yōu)異的真空傳導(dǎo)率,20分鐘可達到10-6Torr量級的高工藝真空,12小時達到10-7Torr腔體極限真空。腔體壓力調(diào)節(jié)通過PC自動控制渦輪速度而全自動調(diào)節(jié),快速穩(wěn)定。
- 系統(tǒng)可支持單片或25片Cassette的Auto L/UL的升級,可實現(xiàn)自動進樣、對準、出樣,在不間斷工藝腔體真空的情況下連續(xù)處理樣片。Load Lock 腔體配套獨立的真空系統(tǒng)和真空計,通過PC全自動監(jiān)控。
近,那諾中國中標喜訊頻傳,這離不開客戶對NAN0-MASTER綜合實力的認可與信任。在未來,我們將會繼續(xù)秉承初心,用科技的力量實實在在助力客戶,實現(xiàn)更高水平的薄膜生長刻蝕技術(shù)。
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