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Wafer XRD

2025-05-30

產(chǎn)      地:
暫無
所在地區(qū):
上海上海市
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Wafer XRD用于全自動晶圓揀選、生產(chǎn)和質(zhì)量控制


特點(diǎn)

  • 適用于3到8寸晶圓。也可根據(jù)要求提供其他尺寸

  • FOUP、載具或單個晶圓臺

  • 跨槽晶圓識別為可選功能

  • 易于集成到任何工藝生產(chǎn)線中

  • 測量速度:每個樣品<10秒

  • 典型標(biāo)準(zhǔn)偏差(傾斜度):例如Si 100<0.003°

  • MES和SECS/GEM接口

  • 銅靶微焦點(diǎn)風(fēng)冷X射線光管(**30W)或細(xì)焦點(diǎn)水冷X射線光管(**1.5kW)

  • 符合CE標(biāo)準(zhǔn)的安全控制裝置

  • 通過3色燈塔指示狀



材料

Si、SiC、GaAs、GaN、藍(lán)寶石(Al?O?)、Ge、AIN、石英、InP和100s等。


可選插件

  • 電阻率測量范圍:0.01至0.020Ωcm

  • 自動識別晶圓數(shù)據(jù)矩陣碼、二維碼、條形碼或類似代碼

  • 未拋光晶圓和鏡面的距離測量


Wafer XRD

年產(chǎn)1,000,000片晶圓





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