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EPEE系列 等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

EPEE系列 等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

1、單片和多片式架構(gòu),滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求

Advanced single-chip and multi-chip design, meet the needs of mass production and R&D

2、高效傳輸系統(tǒng),智能軟件調(diào)度算法

Efficient transport system, intelligent software scheduling

3、高效遠(yuǎn)程等離子體清洗系統(tǒng),優(yōu)異的顆粒控制

Efficient remote plasma cleaning system, superior particle control

4、支持氣態(tài)硅烷、液態(tài) TEOS 和碳膜等工藝

Supporting SiH4 base ,TEOS base deposition and Carbon process

5、支持在線膜厚和清洗終點實時監(jiān)測

Supporting on-line film thickness and dry-clean endpoint detection


技術(shù)參數(shù)

1、晶圓尺寸 4/6/8 英寸兼容

2、適用材料 氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅、非晶碳

3、適用工藝 氧化硅圖形化襯底層、鈍化層、絕緣層、掩膜層

4、適用領(lǐng)域 科研、化合物半導(dǎo)體、新興應(yīng)用、集成電路








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