化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備>HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 北方華創(chuàng)
- 型號(hào) HORIC L200 系列
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2025/6/5 12:37:14
- 訪問次數(shù) 580
產(chǎn)品標(biāo)簽
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1. 產(chǎn)品概述
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)，半導(dǎo)體客戶端機(jī)臺(tái)裝機(jī)量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機(jī)臺(tái)。可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案.優(yōu)異的工藝技術(shù)支持。
2. 設(shè)備用途/原理
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 系統(tǒng)，半導(dǎo)體客戶端機(jī)臺(tái)裝機(jī)量大。可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機(jī)臺(tái)。高可靠性、穩(wěn)定性 Higher reliability and stability。安全性能高：設(shè)備及所使用的元件符合國標(biāo)和國際標(biāo)準(zhǔn)。可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案。優(yōu)異的工藝技術(shù)支持。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 4、6、8 英寸，適用材料硅、碳化硅、硅基氮化鎵。適用工藝 氮化硅、氧化硅、多晶硅、摻雜多晶硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃。適用域 科研、化合物半導(dǎo)體。
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