捷尼賽思 原子層沉積
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 Beneq
- 型號 捷尼賽思
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2025/6/5 19:55:57
- 訪問次數(shù) 340
產(chǎn)品標(biāo)簽
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| 價格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
|---|
材料選擇
多種 ALD 材料可供選擇，可滿足您的要求。 多年來，Beneq 一直是用于研發(fā)和工業(yè)生產(chǎn)的卷對卷原子層沉積系統(tǒng)的先驅(qū)。我們的常用材料包括 Al?O?、TiO?、ZnO、ZnS、SiO? 或可根據(jù)要求提供的任何其他材料。
功能亮點
卷筒紙寬度：最大420mm
ALD鍍膜厚度：最大100nm
動態(tài)沉積速率 （Al2O3）： 10 nm *m/min
過程溫度：最高 250°C
定制
在最大420mm的卷筒紙寬度下，Genesis ALD適用于實驗室研發(fā)或中試規(guī)模生產(chǎn)。 設(shè)計用于將 ALD 薄膜處理到聚合物或金屬等柔性基材上。通過與我們的合作伙伴 E+R Group（卷對卷真空鍍膜機公司）合作，我們?yōu)榭蛻籼峁└鼘挼木硗布埡蜕a(chǎn)線集成的可選設(shè)計。
市場和應(yīng)用
用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。
各種類型鋰離子和固態(tài)電池的陰極和陽極的鈍化
用于柔性太陽能電池的導(dǎo)電層和封裝
用于柔性電子產(chǎn)品的防潮層
采購中心
化工儀器網(wǎng)