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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>其它實驗室常用設(shè)備>鍍膜機>CY-MSH1000-III-RFRFRF-SS 高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀

CY-MSH1000-III-RFRFRF-SS 高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀

參考價 350000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CY-MSH1000-III-RFRFRF-SS
  • 產(chǎn)地 鄭州
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/12/3 13:42:38
  • 訪問次數(shù) 62

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州市*開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的研發(fā)團隊?wèi){借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款*材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界*好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團隊為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的誠信、實力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認(rèn)可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。


管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機,切斷機,拋光機

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 30萬-50萬
應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣 真空腔體 直徑≦100mm的平面樣品均可
樣品臺尺寸 直徑≦100mm的平面樣品均可 磁控靶 普通永磁靶,可調(diào)角度
靶材尺寸 直徑2英寸,厚度≦3mm, 濺射功率 濺射功率

高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備

三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶為4英寸,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購;所配電源為三個500W射頻電源,射頻電源可用于非金屬薄膜的制備,三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。

鍍膜儀具有一路高精度質(zhì)量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標(biāo)配渦輪分子泵組,極限真空可達(dá)1.0E-4Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制,在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進一步提高您的實驗效率。

高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號

CY-MSH1000-III-RFRFRF-SS

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

8KW

系統(tǒng)真空

≦5×10-3Pa

樣品臺

外形尺寸

Φ632*570

可調(diào)轉(zhuǎn)速

0-20rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

Φ4英寸,圓形平面把,3個

冷卻模式

循環(huán)水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ1000mm,高度800mm

腔體材質(zhì)

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

開啟方式

前開式

氣體控制

1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量

真空系統(tǒng)

配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速3000L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

濺射電源

射頻電源功率500W, 三套

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

設(shè)備尺寸

2020*1785*1860mm

設(shè)備重量

500kg






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