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L2002 ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 邁可諾技術(shù)有限公司
  • 品牌 Ossila/歐西拉
  • 型號(hào) L2002
  • 產(chǎn)地 英國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/7/2 14:33:46
  • 訪問(wèn)次數(shù) 306

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半導(dǎo)體化工領(lǐng)域?qū)I(yè)實(shí)驗(yàn)設(shè)備供應(yīng)商:邁可諾是一家富有創(chuàng)新精神的高科技公司,專業(yè)提供光電半導(dǎo)體化工實(shí)驗(yàn)室所需設(shè)備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)并營(yíng)銷質(zhì)量可靠的、安全易用的技術(shù)產(chǎn)品及優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務(wù),幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎(chǔ)是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協(xié)助他們實(shí)現(xiàn)高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。




勻膠機(jī),光刻機(jī),顯影機(jī),等離子清洗機(jī),紫外臭氧清洗機(jī),紫外固化箱,壓片機(jī),等離子去膠機(jī),刻蝕機(jī),加熱板

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,綜合

ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner為實(shí)驗(yàn)室級(jí)表面處理設(shè)備,通過(guò)高功率紫外光源(主波長(zhǎng)185nm/254nm)激發(fā)臭氧反應(yīng),實(shí)現(xiàn)高效無(wú)損傷清潔。系統(tǒng)操作流程簡(jiǎn)明:放置樣品于溫控托盤(pán)→關(guān)閉艙門(mén)→設(shè)置清洗時(shí)長(zhǎng)(≤59分59秒)→啟動(dòng)運(yùn)行,即可快速分解有機(jī)污染物為揮發(fā)性物質(zhì),獲得超潔凈表面(接近原子級(jí)清潔度)。

核心功能特性

  1. 廣譜清洗能力

    • 適用基材:石英、硅、氧化硅、氮化硅、金、鎳、鋁、砷化鎵、礬土、玻璃、不銹鋼等

    • 去除污染物:光刻膠、樹(shù)脂、人體皮膚油脂、溶劑殘留、表面油漬、助焊劑、單分子膜等

  2. 多功能工藝應(yīng)用
    支持表面親水性改良、薄膜沉積預(yù)處理、AFM/STM探針清洗、光學(xué)元件清潔、表面氧化處理、紫外固化及滅菌消毒等9類工藝。

  3. 工程優(yōu)化設(shè)計(jì)

    • 抽屜式樣品臺(tái)(直徑153mm,最大承載厚度12mm)

    • LCD雙顯界面(實(shí)時(shí)顯示已用時(shí)間/剩余時(shí)間)

    • 四燈管陣列配置(燈管尺寸150×15mm)

    • 安全聯(lián)鎖機(jī)制(運(yùn)行中艙門(mén)鎖定防護(hù))

ossila紫外臭氧清洗機(jī)UV Ozone Cleaner技術(shù)參數(shù)說(shuō)明

  1. 紫外燈類型:配置4支合成石英紫外燈管

  2. 波長(zhǎng)輸出:雙波段185nm與254nm協(xié)同作用

  3. 燈管尺寸:?jiǎn)沃С叽?50mm(長(zhǎng))×15mm(直徑)

  4. 驅(qū)動(dòng)參數(shù):4000V高壓供電,工作電流30mA

  5. 電源規(guī)格:標(biāo)準(zhǔn)版230V/0.6A/50Hz,可選配110V/1.2A/60Hz版本

  6. 使用壽命:T80標(biāo)準(zhǔn)下2000小時(shí),常規(guī)實(shí)驗(yàn)室使用周期8-10年

  7. 設(shè)備尺寸:長(zhǎng)300mm×寬204mm×高227mm

  8. 安全防護(hù):三重保護(hù)(機(jī)械聯(lián)鎖、超溫報(bào)警、自動(dòng)斷電)


紫外臭氧清洗原理:

紫外臭氧清洗是一種光敏氧化過(guò)程,其中短波紫外線輻射被有機(jī)分子吸收以將其從表面分離  (通過(guò)與臭氧分子的化學(xué)反應(yīng))。這是一種非常好的技術(shù), 用于清洗基材表面的樹(shù)脂,清潔 溶劑的殘留物,助焊劑,油以及表面消毒等,所有這些有機(jī)污染物都會(huì)影響樣品表面的性能。 與其他清潔技術(shù)(例如氧等離子體處理) 不同,紫外臭氧清洗不會(huì)導(dǎo)致樣品表面損傷。

紫外臭氧系統(tǒng)使用高強(qiáng)度紫外光源, 用 185nm 和 254nm 兩種波長(zhǎng)的光照射目標(biāo)表面。系統(tǒng) 內(nèi)存在的分子氧(O2) 通過(guò)波長(zhǎng)小于 200 nm 的紫外線輻射分離產(chǎn)生兩個(gè)氧自由基(O•)。這 些自由基中的每一個(gè)隨后可以與另外的分子氧反應(yīng)產(chǎn)生臭氧(O3)分子。未被殘余氧吸收 的 200nm 以上的 UV 輻射,會(huì)被基材表面上存在的有機(jī)化學(xué)污染物強(qiáng)烈吸收,一旦被吸收, 這會(huì)導(dǎo)致活性或有機(jī)自由基的產(chǎn)生。這些反應(yīng)性有機(jī)物質(zhì)在與不穩(wěn)定的臭氧分子接觸時(shí),會(huì) 導(dǎo)致?lián)]發(fā)性物質(zhì)如 CO2 ,H2O ,N2  和短鏈有機(jī)化合物的形成。這些揮發(fā)性化合物可以很容 易地從表面上分解吸收, 保持基材的清潔。

 

 

 

 

 



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