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德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第9年

18721247059

KLA/科磊
薄膜測(cè)量系統(tǒng)
微組裝系統(tǒng)
Deposition沉積系統(tǒng)
Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng)
測(cè)量?jī)x器
Hall Effect
Etching/等離子蝕刻系統(tǒng)
Thin Film薄膜沉積系統(tǒng)
美國(guó)杜邦Dupont
Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng)
Probe station/探針臺(tái)
Reflow Oven /回流焊
紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)
快速退火爐
生命科學(xué)
PIE scientific
JFP microtechnic
OAI
Unitemp
  • MCP-T380 通用便攜式電阻率儀

    MCP-T380 通用便攜式電阻率儀由OAI設(shè)計(jì)與制造。操作簡(jiǎn)便。顯示設(shè)計(jì)清晰。低電阻率測(cè)量通俗易懂。

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/15 10:18:09 對(duì)比
    OAI電阻率儀MCP-T380
  • Model 30 準(zhǔn)直紫外光源及曝光系統(tǒng)

    Model 30 準(zhǔn)直紫外光源及曝光系統(tǒng)由OAI設(shè)計(jì)與制造。恒定強(qiáng)度控制器傳感器可檢測(cè)到強(qiáng)度的任何變化,并立即調(diào)整燈的輸出,誤差優(yōu)于 ±2% 。若有需...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/10 13:29:19 對(duì)比
    OAI紫外光源曝光系統(tǒng)準(zhǔn)直紫外光源及曝光系統(tǒng)
  • Model 32 UV LED 光源

    Model 32 UV LED 光源由OAI設(shè)計(jì)與制造。OAI 推出第二代紫外發(fā)光二極管(UV LED)光源。我們?nèi)碌?LED 光源系列秉持著與久負(fù)盛名的汞弧...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/10 13:28:31 對(duì)比
    OAIUV光源UV LED 光源
  • MCP-T710 電阻儀

    MCP-T710 電阻儀由OAI設(shè)計(jì)與制造。借助新功能實(shí)現(xiàn)一鍵自動(dòng)測(cè)量,自動(dòng)保持和定時(shí)模式。擴(kuò)展的測(cè)量范圍,10??~10?Ω。

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/10 11:04:41 對(duì)比
    OAI電阻率儀MCP-T710
  • Model 659 紫外線光強(qiáng)與能量計(jì)

    Model 659 紫外線光強(qiáng)與能量計(jì)由OAI設(shè)計(jì)與制造。適用于所有晶圓步進(jìn)光刻機(jī)的 659 型紫外線光強(qiáng)與能量計(jì) 。

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/9 14:36:40 對(duì)比
    OAI紫外線光強(qiáng)與能量計(jì)
  • Model 656 紫外線光強(qiáng)與能量計(jì)

    Model 656 紫外線光強(qiáng)與能量計(jì)由OAI設(shè)計(jì)與制造。適用于所有接觸式 / 近接式掩模對(duì)準(zhǔn)器和泛光曝光系統(tǒng)。

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/9 14:22:44 對(duì)比
    OAI紫外線光強(qiáng)與能量計(jì)
  • Model 308 紫外線光度計(jì)

    Model 308 紫外線光度計(jì)由OAI設(shè)計(jì)與制造OAI 308型紫外線光度計(jì)是一款可靠的精密儀器,用于測(cè)量紫外線強(qiáng)度。308型適用于多種行業(yè)和應(yīng)用場(chǎng)景,專(zhuān)為任...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/9 13:45:10 對(duì)比
    OAI紫外線光度計(jì)
  • 太陽(yáng)能電池高性能測(cè)試夾具

    太陽(yáng)能電池高性能測(cè)試夾具由OAI設(shè)計(jì)與制造用于各類(lèi)太陽(yáng)能電池的可靠性測(cè)試,獨(dú)立式、多匯流條式、雙面式、無(wú)匯流條式以及切片電池測(cè)試夾具等。

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/8 16:37:09 對(duì)比
    OAI光伏測(cè)試系統(tǒng)太陽(yáng)能電池
  • 太陽(yáng)能功率計(jì)

    太陽(yáng)能功率計(jì)由OAI設(shè)計(jì)與制造連續(xù)波太陽(yáng)能模擬器是用于模擬太陽(yáng)光,以便對(duì)太陽(yáng)能電池等相關(guān)設(shè)備進(jìn)行性能測(cè)試的儀器。

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/8 16:01:46 對(duì)比
    OAI光伏測(cè)試系統(tǒng)太陽(yáng)能功率計(jì)
  • CPV 聚光太陽(yáng)模擬器

    CPV 聚光太陽(yáng)模擬器由OAI設(shè)計(jì)與制造CPV(Concentrated Photovoltaic)即聚光光伏技術(shù),它利用光學(xué)元件將太陽(yáng)光集中到面積較小的光伏電...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/8 14:32:59 對(duì)比
    OAI光伏測(cè)試系統(tǒng)
  • 集成式 IV光伏測(cè)試系統(tǒng)

    集成式 IV光伏測(cè)試系統(tǒng)由OAI設(shè)計(jì)與制造它通過(guò)提供優(yōu)化的脈沖寬度和電壓掃描速率,以匹配任何類(lèi)型太陽(yáng)能電池的高電容和較慢的介電響應(yīng)速度。

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/4 16:39:42 對(duì)比
    OAI光伏測(cè)試系統(tǒng)
  • AML 原位對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合機(jī)

    AML 原位對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造晶圓鍵合技術(shù)已在微系統(tǒng)技術(shù)(MST)、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、III-V 族(半導(dǎo)體)、集成電路(ICs)及光電子器...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/4 15:12:33 對(duì)比
    OAI晶圓鍵合機(jī)
  • AAA 標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)模擬器

    AAA 標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)模擬器由OAI設(shè)計(jì)與制造該太陽(yáng)能模擬器采用*的均勻光束光學(xué)系統(tǒng),包括專(zhuān)有鍍膜反射鏡、濾光片和光束均勻性積分器,能夠提供高精度、準(zhǔn)直的光束,且工作...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/4 14:18:28 對(duì)比
    OAI均勻光束光學(xué)系統(tǒng)
  • Model 6020 全自動(dòng)掩模曝光機(jī)

    Model 6020 全自動(dòng)掩模曝光機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造用于重新分布層(RDL)面板級(jí)封裝和玻璃面板曝光的大尺寸基板生產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)器或泛光曝光系統(tǒng)。

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/4 11:06:15 對(duì)比
    OAI光刻機(jī)掩膜曝光機(jī)
  • Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

    Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造可用于半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、傳感器、優(yōu)良晶圓級(jí)封裝(WLP)、化合物半導(dǎo)體、發(fā)光二極管(LED...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/4 10:46:38 對(duì)比
    OAI光刻機(jī)掩膜曝光機(jī)
  • Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī)

    Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造2000SM型可顯著減少因常規(guī)晶圓操作而產(chǎn)生的顆粒污染。在OAI 2000SM型和2000FL型系...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/4 10:41:02 對(duì)比
    OAI光刻機(jī)
  • Model 800E 增強(qiáng)型半自動(dòng)紫外掩膜曝光機(jī)

    Model 800E 增強(qiáng)型半自動(dòng)紫外掩膜曝光機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造在半導(dǎo)體行業(yè),OAI 擁有 40 余年產(chǎn)品研發(fā)和制造經(jīng)驗(yàn),以專(zhuān)為研發(fā)及半自動(dòng)生產(chǎn)設(shè)計(jì)的光刻設(shè)備...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/4 10:40:27 對(duì)比
    OAI光刻機(jī)
  • Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)

    Model 212 紫外掩膜曝光機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造一種用于大面積基板的低成本研發(fā)工具。這是一款多功能工具,既能適配較小尺寸的基板和掩模,也能輕松升級(jí)以處理更大...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/4 10:39:06 對(duì)比
    OAI光刻機(jī)
  • Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)

    Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造OAI 系統(tǒng)能夠處理各種常規(guī)形狀和不規(guī)則形狀的多種基板。高效光源在多種光譜范圍內(nèi)可提供均勻的紫外線曝光。

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/7/4 10:38:11 對(duì)比
    OAI光刻機(jī)
  • 光刻曝光分析儀

    45年來(lái),OAI始終是紫外能量測(cè)試儀器領(lǐng)域的*應(yīng)用商,其儀器用于半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、晶圓封裝和晶圓植球行業(yè)中光刻工藝的可靠,精確校準(zhǔn)控制。Model 659是一...

    型號(hào): Model 659 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/2/23 13:53:48 對(duì)比
    光刻曝光曝光分析儀

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