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Nisene化學芯片開封機的優(yōu)勢體現(xiàn)分析

來源:似空科學儀器(上海)有限公司   2019年10月21日 09:54  
 1.etEtch pro CuProtect為不同的構裝類型可充分地編輯程序和存放100組蝕刻程序。JetEtch pro CuProtect在產業(yè)呈現(xiàn)的準確性和功能性是令人期待的;

2.一條高亮度六線字母數字的顯示在所有情況排煙柜的照明下保證很好的可見性;

3.蝕刻劑混合選擇確保準確性及重復率,1ml~6ml/sec 的酸量選擇能提供更好的腐蝕效果;

4.JetEtch pro CuProtect 酸混合選擇:JetEtch pro CuProtect軟件可以使用硝酸、硫酸或混合酸,另含13組混酸比率;

5.通常使用的治具會與設備一同提供;通常情況不需要樣品制備;

6.蝕刻劑流向選擇:渦流蝕刻和脈沖蝕刻,JetEtch pro CuProtect廢酸分流閥;

7.酸和廢酸存儲在標準化的酸瓶中;

8.不會有機械損傷或影響焊線;不會有腐蝕性損傷或影響外部引腳;可以選擇硝酸、冷硫酸進行沖洗或不沖洗;

9.無需等待,*腐蝕一顆樣品多只要1~2分鐘;

10.設備小巧,只需很小的空間擺放;安全蓋凈化:安全、簡單、牢靠;

11.主要可設置的試驗參數包括:采用刻蝕酸的種 類、刻蝕酸的比例、蝕刻溫度、蝕刻時間、酸的流量(酸的用量)、清洗的時間等。

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