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器件的制造是通過一系列精確控制的加工過程完成的。為了保證每一道工序都能正確進行，每一道工序都有多種測量和監(jiān)測技術(shù)，其中光學(xué)測量因其非接觸、無損、無污染的特點而被廣泛應(yīng)用。光學(xué)測量的一個重要內(nèi)容是薄膜的特性——如厚度和光學(xué)特性。目前常用的光學(xué)測量技術(shù)按其原理可分為光吸收法、干涉監(jiān)測法、偏振光分析法等。橢偏儀采用偏振光分析法（又稱橢偏法），是通過偏振光在材料表面反射后改變相應(yīng)的偏振態(tài)來測量材料的光學(xué)性質(zhì)。
橢偏儀根據(jù)測試原理的不同可分為消光型和光度型。一般可分為PCSA消光橢偏儀、旋轉(zhuǎn)偏振器橢偏儀、相位調(diào)制橢偏儀、橢偏儀、紅外橢偏儀、成像橢偏儀和廣義橢偏儀。它是一種用于檢測薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)和材料微觀結(jié)構(gòu)的光學(xué)測量裝置。因為它不與樣品接觸，不損壞樣品并且不需要真空，所以橢偏儀成為一種有吸引力的測量設(shè)備。
1、可以高精度測量非常薄的薄膜（1nm），比干涉法高1~2個數(shù)量級。
2、是一種無損測量。它不需要專門準(zhǔn)備樣品或損壞樣品。它比稱量法和定量化學(xué)分析法等其他精密方法更簡單。
3、可同時測量薄膜的厚度、折射率和吸收率。因此，它可以用作分析工具。
4、對一些表面結(jié)構(gòu)、表面過程和表面反應(yīng)非常敏感，是研究表面物理的一種方法。
橢偏儀可以測量的材料包括半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、有機物、金屬和多層材料。涉及半導(dǎo)體、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學(xué)鍍膜、平板顯示、科研、生物、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。
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