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高精密光學(xué)鍍膜機膜厚可以通過時間精確控制，滿足設(shè)計工藝要求，省去了晶控和光控環(huán)節(jié)，為客戶節(jié)省了大量的膜厚儀耗材；可以產(chǎn)生高折射率氮化物薄膜，提高薄膜的硬度；低溫成膜，可用于多種用途；自動調(diào)節(jié)氣體流量的裝置，保持穩(wěn)定的靶電壓，保證成膜質(zhì)量。
高精密光學(xué)鍍膜機的模塊化設(shè)計可與等離子體清洗單元、磁控濺射單元、等離子體增強化學(xué)反應(yīng)單元、原子層沉積單元和等離子體化學(xué)反應(yīng)刻蝕單元組合，擴展為集群式微納加工中心，覆蓋半導(dǎo)體微納結(jié)構(gòu)加工的襯底清洗、薄膜沉積(包括超薄膜)和圖形化刻蝕的全過程。滿足嚴(yán)格的薄膜沉積均勻性規(guī)范，減少高應(yīng)力薄膜的缺陷，提高產(chǎn)量，降低成本。ICP輔助磁控濺射的光學(xué)膜層低吸收、低應(yīng)力，加工各種帶通膜和截止膜，如面狀、中遠紅外高透射比膜；磁控濺射各種金屬，如銅、鋁、鉻、金、銀、SUS等。已經(jīng)被開發(fā)來改善深孔涂層。該涂層具有良好的臺階覆蓋性，適用于MEMS芯片封裝。
1、保證了高精度光學(xué)器件的高通量和可靠的批量生產(chǎn)。
2、保持優(yōu)異的膜特性，例如均勻性、熱穩(wěn)定性和吸濕性。
3、能夠滿足消費電子產(chǎn)品、汽車傳感器和電信配件中過濾器專用涂層的規(guī)格。
4、新穎的濺射配置和雙旋轉(zhuǎn)磁控管的組合提供了競爭優(yōu)勢，例如工藝穩(wěn)定性、低的粒子數(shù)、最少的維護時間和擁有成本。
5、采用載體系統(tǒng)，其生產(chǎn)靈活性使其生產(chǎn)率提高了50%。
6、配備原位單色或?qū)拵Ч鈱W(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，用于監(jiān)控沉積和薄膜工藝，即使對于數(shù)百層的層壓設(shè)計，也可以避免頻繁的校準(zhǔn)和測試運行。
7、高精密光學(xué)鍍膜機可以沉積非常致密且無位移的層，該層幾乎沒有固有粗糙度和低至±0.2%的均勻性。
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