手機版
化工儀器網(wǎng)手機版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關(guān)注視頻號
由于機械加工導(dǎo)致的樣品表層邊緣遭到破壞且所積累的殘余應(yīng)力無法得到釋放，最終造成無法獲得樣品表層納米梯度強化層真實精準(zhǔn)的原位力學(xué)性能。 離子研磨系統(tǒng)可以無應(yīng)力的去除樣品表面層，加工出光滑的鏡面。兼容平面和截面兩種加工方式，為相關(guān)檢測的樣品制備提供了最為有效的解決方案。
突出特點： 1、標(biāo)配平面、截面功能 2、加工效率高 3、樣品尺寸大。
離子研磨儀斷面研磨
● 即使是由硬度以及研磨速度不同的成分所構(gòu)成的復(fù)合材料，也可以制備出平滑的斷面樣品
● 優(yōu)化加工條件，減輕損傷
● 可裝載最大20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品斷面研磨的主要用途
● 制備金屬以及復(fù)合材料、高分子材料等各種樣品的斷面
● 制備用于分析開裂和空洞等缺陷的斷面
● 制備評價、觀察和分析所用的沉積層界面以及結(jié)晶狀態(tài)的斷面
平面研磨（Flat Milling®）的主要用途
● 去除機械研磨中難以消除的細(xì)小劃痕和形變
● 去除樣品的表層
● 消除FIB加工的損傷
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
采購中心