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電子工業(yè)氣體:
高純度硅烷氣體雜質(zhì)組份的檢測
一:應(yīng)用領(lǐng)域：
硅烷在大規(guī)模集成電路（LSI）、超大規(guī)模集成電路（VLSI）和半導(dǎo)體器件制造中，用于氣相外延生長、化學(xué)氣相淀積等工藝（工序）。
1. 外延（生長）混合氣 在半導(dǎo)體工業(yè)中，在仔細選擇的襯底上選用化學(xué)氣相淀積的方法，生長一層或多層的材料所用的氣體叫做外延氣體。常用的硅外延氣體有二氯二氫硅、四氯化硅和硅烷等。主要用于外延硅淀積，多晶硅淀積，氧化硅膜淀積，氮化硅膜淀積，太陽能電池和其他光感受器的非晶硅膜淀積等。外延生長是一種單晶材料淀積并生長在襯底表面上的過程。
2. 化學(xué)氣體淀積（CVD）用混合氣 CVD是利用揮發(fā)性化合物，通過氣相化學(xué)反應(yīng)沉積某種單質(zhì)或化合物的一種方法，即應(yīng)用氣相化學(xué)反應(yīng)的一種成膜的方法。依據(jù)成膜種類，使用的化學(xué)氣相淀積（CVD）氣體也不同。
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