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管徑單位換算（毫米到DN值的計算）2010/06/11

不銹鋼管中：“Φ”和“DN”一般都用來表示直徑，區(qū)別是：“Φ”標識普通圓的直徑，或管材的外徑乘以壁厚，如：Φ25×3標識外徑25mm，壁厚為3mm的管材；“DN”：標識管材和閥門等管件的公稱直徑，通常接近于內(nèi)徑。是為了工程安裝配套而建立的標準術(shù)語。Φ是表示外徑,而DN指內(nèi)徑DN：公稱直徑Ф：外徑現(xiàn)在的管子一般都是以英寸為單位，毫米只是一個比較近似、好記的數(shù)。比如DN50的管子應(yīng)該是2英寸，1英寸=25.4mm，2英寸應(yīng)該是50mm，這時還要看管子的壁厚，一般螺旋管都在5mm以上，以5mm為例，D

真空質(zhì)譜計及其應(yīng)用與發(fā)展（一）2010/02/26

真空質(zhì)譜計及其應(yīng)用與發(fā)展（作者：錢永生）（一）質(zhì)譜學是研究如何使中性樣品形成離子，并使這些具有不同質(zhì)荷比的離子在特定的電磁場中運動，從而將它們分離的科學。它是一門應(yīng)用性很強的技術(shù)科學。質(zhì)譜儀器是建立在分子（原子）電離技術(shù)和離子光學理論基礎(chǔ)上的。處在今天發(fā)展水平上的質(zhì)譜儀器，不只是一種分析譜儀，而且已成為有力的研究手段。它被廣泛應(yīng)用于真空科學、表面物理、反應(yīng)動力學和固體研究，以及同位素分析、原子質(zhì)量精測、化學分析、有機分析等領(lǐng)域。質(zhì)譜學的建立可以追溯到本世紀初，早在1918年，Dempster首先

熱陰極與冷陰極電離規(guī)計量學特性比較研究2009/12/11

本文介紹了3個熱陰極電離規(guī)和2個反磁控型冷陰極電離規(guī)的計量學特性實驗研究結(jié)果。實驗設(shè)備是一臺高真空基礎(chǔ)標準,實驗范圍為10-7～10-3Pa,實驗氣體為N2、Ar、He和H2。在連續(xù)72h觀測中,熱陰極電離規(guī)在N2、Ar和He中的穩(wěn)定性優(yōu)于反磁控規(guī),但在H2中則所有規(guī)的穩(wěn)定性相似。在6個月的重復校準中,所有規(guī)在N2、Ar和He中的長期穩(wěn)定性相似,但在H2中反磁控規(guī)的長期穩(wěn)定性優(yōu)于熱陰極電離規(guī)。對于不同的氣體,反磁控規(guī)的非連續(xù)性出現(xiàn)在不同的壓力點。在很寬的壓力范圍內(nèi),熱陰極電離規(guī)的相對靈敏度變化較

光纖密封轉(zhuǎn)接的氦質(zhì)譜檢漏技術(shù)研究2009/12/03

光纖密封轉(zhuǎn)接的氦質(zhì)譜檢漏技術(shù)研究（轉(zhuǎn)載）胡茂中，楊丹，廖旭東，白國云（西北核技術(shù)研究所，西安710024）摘要：為解決光纖進入鋼制容器時造成的泄漏問題，密封轉(zhuǎn)接是一種有效方法。分析了光纖轉(zhuǎn)接器灌膠密封結(jié)構(gòu)及其缺陷，證實了轉(zhuǎn)接器內(nèi)部存在某些特殊的漏孔。研究了光纖密封轉(zhuǎn)接的高靈敏度氦質(zhì)譜檢漏工藝技術(shù)，利用光纖多層保護結(jié)構(gòu)形成集氣空間，實現(xiàn)了光纖轉(zhuǎn)接器內(nèi)部漏率的定量檢測,系統(tǒng)檢測靈敏度高達1.0×10－11Pa?m3/s。關(guān)鍵詞：光纖轉(zhuǎn)接；氦質(zhì)譜檢漏；漏孔定位中圖分類號：文獻標識碼：文章編號：Rese

分子泵是否“無油”？2009/12/03

分子泵是否“無油”？分子泵是否“無油”？這是一個老問題了。從工作機理來說，分子泵對油蒸汽的壓縮比很高，即使前級有油蒸汽存在，高真空室通常無法檢測到油蒸汽，所以，往往被稱為“無油”泵。其實，上述說法只有在分子泵操作步驟合理時才能成立。分子泵處于停止狀態(tài)，泵的軸承（磁懸浮軸承除外）和前級泵（干式前級泵除外）的潤滑油蒸汽可能擴散到高真空室。1）停泵狀態(tài)：氣體的擴散速度與壓強平方成反比。停泵狀態(tài)，只要壓強＞50Pa，對大部分用戶來說，油蒸汽的擴散可以忽略，可以認為“無油”。2）制動過程：分子泵制動過程中

真空測量技術(shù)2009/11/30

測量容器中或某部分空間氣體的稀薄程度（即真空度）的技術(shù)。真空測量技術(shù)在真空電子器件工藝、固態(tài)電子器件工藝、集成電路工藝、表面分析技術(shù)等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。真空度常用容器中氣體的總壓強P來表示。氣體壓強的測量單位是牛頓/米2，簡稱帕（Pa），傳統(tǒng)上氣體壓強單位采用毫米汞柱，后來發(fā)現(xiàn)汞的同位素組成不是*的，故在1971年計量會議規(guī)定1標準大氣壓＝101325.0帕＝760托（Torr）1毫米汞柱（mmHg）和1托相近，兩者相差約千萬分之一。壓強的另一單位是巴（bar），1巴＝106達因/厘米2＝105帕

真空開關(guān)的發(fā)展與應(yīng)用概況2009/11/03

人類從事將真空作為滅弧和絕緣介質(zhì)的應(yīng)用研究，到現(xiàn)在已有一百多年的歷史。早在1893年，美國人里頓豪斯（Rittenhause）就設(shè)計出*1只真空滅弧室并以的形式發(fā)表；1920年，瑞典佛加（Birka）公司研制出世界上*臺真空開關(guān)；1926年，加里福尼亞工學院的索倫森（Sornsen）教授發(fā)表了真空開關(guān)的試驗結(jié)果，并預言應(yīng)用真空開關(guān)的時代不久就會到來。由于當時的真空技術(shù)還很落后，使得真空開關(guān)在工業(yè)上的實際應(yīng)用被大大推遲了。到1950年前后，隨著真空技術(shù)以及相關(guān)技術(shù)如冶金技術(shù)等的發(fā)展，真空滅弧室的制

濺射鍍應(yīng)用及工作原理2009/11/02

濺射鍍應(yīng)用及工作原理磁控濺射鍍膜設(shè)備：磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種多功能、率的鍍膜設(shè)備?？筛鶕?jù)用戶要求配置旋轉(zhuǎn)磁控靶、中頻孿生濺射靶、非平衡磁控濺射靶、直流脈沖疊加式偏壓電源等，組態(tài)靈活、用途廣泛，主要用于金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件鍍鋁、銅、鉻、鈦金、銀及不銹鋼等金屬膜或非金屬膜及滲金屬DLC膜，所鍍膜層均勻、致密、附著力強等特點，可廣泛用于家用電器、鐘表、工藝美術(shù)品、玩具、車燈反光罩以及儀器儀表等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。a旋轉(zhuǎn)磁控濺射鍍膜機；旋轉(zhuǎn)磁控濺射鍍膜技術(shù)，是國內(nèi)外的磁

為什么必須要真空？2009/10/19

現(xiàn)代社會從收音機到攜帶,計算機及電視都離不開集成電路,而集成電路的生產(chǎn)和發(fā)展都離不開真空。水蒸氣遇冷會變成水滴。如果不是水蒸氣而換成鋁或其他材料,則同樣原理就是真空鍍氣。高真空中通過加熱使鋁蒸發(fā),鋁蒸氣飛到目標表面而成膜。如果不是在真空狀態(tài),則鋁會燃燒起來。用久的螢光燈兩邊會發(fā)黑,這是濺射成膜的現(xiàn)象。惰性氣體Ar在燈管中經(jīng)過放電而成離子狀態(tài)。高速的Ar離子撞擊其他材料后使其蒸發(fā)。濺射成膜法不利用加熱而是利用使氣體分子離子化而完成。除此之外,通過各種氣體的化學反應(yīng)而成膜（CVD）的方法也被廣泛使用

NPT螺紋,PT螺紋,G螺紋和公制螺紋的含義和區(qū)別2009/09/30

NPT，PT，G都是管螺紋。NPT是National（American）PipeThread的縮寫，屬于美國標準的60度錐管螺紋，用于北美地區(qū)．國家標準可查閱GB/T12716-1991。PT是PipeThread的縮寫，是55度密封圓錐管螺紋，屬惠氏螺紋家族，多用于歐洲及英聯(lián)邦國家．常用于水及煤氣管行業(yè)，錐度規(guī)定為1:16．國家標準可查閱GB/T7306-2000。G是55度非螺紋密封管螺紋，屬惠氏螺紋家族．標記為G代表圓柱螺紋．國家標準可查閱GB/T7307-2001。另外螺紋中的1/4、1

關(guān)于渦輪分子泵的工作原理2009/09/17

渦輪分子泵的抽氣原理分子泵輸送氣體應(yīng)滿足二個必要條件：1）.渦輪分子泵必須在分子流狀態(tài)下工作。因為當將一定容積的容器中所含氣體的壓力降低時，其中氣體分子的平均自由程則隨之增加。在常壓下空氣分子的平均自由程只有0.06μm，即平均看一個氣體分子只要在空間運動0.06μm，就可能與第二個氣體分子相碰。而在1.3Pa時，分子間平均自由程可達4.4mm。若平均自由程增加到大于容器壁間的距離時，氣體分子與器壁的碰撞機會將大于氣體分子之間的碰撞機會。在分子流范圍內(nèi)，氣體分子的平均自由程長度遠大于分子泵葉片之

真空鍍鋁紙與薄膜的氣體透過率測試方法2009/09/14

時下，阻隔性包裝材料被廣泛地應(yīng)用在食品、醫(yī)藥等領(lǐng)域。在阻隔包裝中經(jīng)常使用到的有鋁箔復合材料和真空鍍鋁材料。真空鍍鋁材料替代鋁箔復合材料不僅降低了生產(chǎn)成本，也減小了鋁材消耗量，因此這種低成本和環(huán)保性的材料得到了生產(chǎn)廠家和使用廠家的一致認可。真空鍍鋁材料大體可分為兩類：真空鍍鋁紙和真空鍍鋁薄膜。真空鍍鋁薄膜主要有：VMPET聚酯鍍鋁薄膜、VMCPP流延聚丙烯鍍鋁薄膜、VMBOPP雙向拉伸聚丙烯鍍鋁薄膜、VMCPE聚乙烯鍍鋁薄膜和VMPVC聚氯乙烯鍍鋁薄膜。這些材料均是以高分子膜作為基材，在其表面鍍鋁

PCG410—金秋九月，**（INFICON杭州） 2009/09/08

PCG410—金秋九月，**，詳情請垂詢：INFICONPCG410型復合皮拉尼與電容膜片技術(shù)，測量范圍從5×10E-4至1500毫巴（3.8×10E-4至1125乇），量程大，精度高，可重復強。與對流增強型皮拉尼不同，PCG可任意方向安裝，便于靈活地添加探頭。

冷陰極潘寧離子源基本工作原理2009/08/31

冷陰極潘寧放電原理可以用如圖1所示的結(jié)構(gòu)來說明,一個圓筒作為陽極,在其兩端放兩電極,一般接相同電位作為陰極,將整個放電系統(tǒng)放入軸向磁場中?？臻g中殘存的電子、離子,在電磁場的作用下,產(chǎn)生輪滾線運動,電子運動軌跡大大延長,導致它與中性氣體分子的碰撞幾率增大,提高了電離效率,使得這種結(jié)構(gòu)在很低的氣壓下也能發(fā)生放電。圖1潘寧放電原理圖根據(jù)磁感應(yīng)強度B和氣體密度n的大小可以將潘寧放電分成幾類:①在氣壓很低、磁場很弱時不發(fā)生自持放電。②低氣壓放電模式,此時放電的基本特點是:由于磁場內(nèi)電子橫越磁場的速率遠比離

負偏壓對磁控濺射氧化鋁薄膜的影響2009/08/20

1、實驗實驗使用東方蓋德公司生產(chǎn)的纏繞式直流磁控濺射設(shè)備進行磁控濺射薄膜沉積的研究，基材為普通的36μm的PET薄膜，所用陰極靶為高純Al靶（純度為99.999%）。濺射工作氣體為純度為99.99%的氬氣（Ar），反應(yīng)氣體為純度為99.99%的氧氣（O2），真空室本底真空度為10-3Pa，工作氣壓為10-1Pa。氬氣離子化提供轟擊靶材的離子，氧氣提供氧化反應(yīng)的分子（原子）。在實驗過程中，基材－靶的距離固定在10cm，本底氣壓抽至7.0×10－3Pa，濺射前對靶先進行10分鐘的預濺射，以便清除靶表

如何有效的降低真空系統(tǒng)漏氣率的措施2009/08/20

真空系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)真空系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)是影響真空系統(tǒng)密封性和系統(tǒng)漏氣率的關(guān)鍵，真空系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)合理與否，將直接影響系統(tǒng)的密封性和系統(tǒng)的漏氣率。1、盡可能地避免出現(xiàn)小曲率半徑的死角，要光滑過渡查剎于打麈拋光、清洗清掃。2、抽空管道、送氣管道等與真空室相連接的管道，采用圓弧過渡，使氣路暢通無阻，但要考慮清洗清掃的方便性。3、認真設(shè)計真空室內(nèi)各種連接件的結(jié)構(gòu)，使氣路暢通，避免氣路堵塞。4、打磨拋光真空系統(tǒng)內(nèi)表面，表面越光亮就越不易氣體吸附，越容易獲得真空。5、盡可能減小真空室的體積，縮短管路系統(tǒng)。密封形式的選擇密

低真空變壓熱處理技術(shù)的特點和工藝特點2009/08/03

——轉(zhuǎn)自真空技術(shù)網(wǎng)1、低真空變壓熱處理技術(shù)的特點用低真空變壓原理制造的SLV型和WLV型爐，可克服“老三爐”（老式箱式爐、井式爐和鹽浴爐）存在的缺點，擁有真空爐和可控氣氛爐的一些優(yōu)點，可實現(xiàn)無氧化加熱，又可實現(xiàn)可控氣氛加熱，售價低、維修易。此外，此項技術(shù)還擁有自動改變爐壓的功能，從而達到快速排氣和提高滲碳、滲氮速度之目的。現(xiàn)把其特點介紹如下：1.1、工作原理上世紀80年代初，在研制高速鋼工具氧氮共滲技術(shù)時，開始用低真空原理制造設(shè)備和試驗配套工藝（即低壓氧氮共滲技術(shù)），工件在設(shè)定的低真空上限下限范

電離真空計的校準的注意事項2009/07/30

真空計按測量性質(zhì)可分為真空計和相對真空計。所謂真空計就是通過測量物理量本身確定壓力的一種真空計,例如U型壓力計、壓縮式真空計就是真空計。通過測量與壓力有關(guān)的物理量并與真空計比較來確定壓力的真空計稱為相對真空計。我們校準的電離真空計、電容薄膜真空計、熱傳導真空計,都是相對真空計。電離真空計電離規(guī)管的結(jié)構(gòu)為一個圓筒型三極管,它有三個電極:陰極F發(fā)射電子;柵極A加速電子,收集極C收集離子。一般陰極加零電位,柵極加正電位,收集極加負電位。它的優(yōu)點主要是能夠測量氣體與蒸氣的全壓強;反應(yīng)迅速,可連續(xù)讀數(shù)和遠

真空干燥（vacuum drying）2009/07/30

真空干燥過程就是將被干燥物料置放在密閉的干燥室內(nèi)，用真空系統(tǒng)抽真空的同時對被干燥物料不斷加熱，使物料內(nèi)部的水分通過壓力差或濃度差擴散到表面，水分子在物料表面獲得足夠的動能，在克服分子間的相互吸引力后，逃逸到真空室的低壓空間，從而被真空泵抽走的過程。真空干燥能夠方便地回收有用和有害的物質(zhì)，而且能做到密封性良好。從環(huán)境保護的意義上講，有人稱真空干燥為“綠色干燥”。在真空狀態(tài)下，物料濕氣的沸點降低、汽化過程加速，因此就特別適合于對溫度敏感而且易分解的物料。真空干燥主要在低真空區(qū)域內(nèi)進行。糧食水分在汽化

多弧離子鍍與磁控濺射，蒸發(fā)鍍之間的區(qū)別2009/07/29

多弧離子鍍與磁控濺射，蒸發(fā)鍍之間的區(qū)別（轉(zhuǎn)載自光學在線）是轉(zhuǎn)載的說法，有不對的地方請擔待并指正。三者的區(qū)別在于工作原理不同蒸發(fā)鍍：通過蒸發(fā)鍍加熱使膜材蒸發(fā)。蒸發(fā)鍍有電阻加熱式、電子束加熱式、感應(yīng)加熱式。磁控濺射鍍：磁控靶是靜止電磁場，磁場為曲線形，以磁場改變電子運動方向，是展于高密度的等離子體異常輝光放電。其特點是濺射能量低，基本溫度低。多弧離子鍍：多弧靶是電弧蒸發(fā)源，是冷陰極電弧放電型自持自離化的固體蒸發(fā)源。其特點是離子能量高，沉積速率高，膜層改密性高，單固性好。蒸發(fā)鍍主要做玻璃和塑膠，俺不懂