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寧波普瑞思儀器科技有限公司

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  • 2025

    07-15

    提高水滴角測量儀測量精度和效率的實(shí)用技巧

    水滴角測量儀是用于表征材料表面潤濕性的重要工具,其操作的準(zhǔn)確性直接影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果。以下是提高測量精度和效率的實(shí)用技巧:一、水滴角測量儀實(shí)驗(yàn)前準(zhǔn)備:1.樣品處理:清潔表面:使用酒精、去離子水或超聲波清洗去除油污、灰塵等雜質(zhì),避免污染影響潤濕性。干燥處理:用氮?dú)獯蹈苫蛘婵崭稍?,確保樣品表面無殘留液滴。平整度檢查:樣品表面需平整,避免傾斜導(dǎo)致液滴滾動(dòng)。2.儀器校準(zhǔn):水平校準(zhǔn):調(diào)節(jié)儀器底座水平,防止液滴受重力影響偏移。光學(xué)校準(zhǔn):調(diào)整攝像頭焦距,確保液滴輪廓清晰;使用標(biāo)準(zhǔn)工具校正圖像畸變。光源設(shè)置:選擇背光
  • 2025

    07-11

    如何提升全自動(dòng)鍍層測厚儀的測量穩(wěn)定性與重復(fù)性?

    要提升全自動(dòng)鍍層測厚儀的測量穩(wěn)定性與重復(fù)性,需從設(shè)備、環(huán)境、操作及數(shù)據(jù)處理四方面綜合優(yōu)化,具體措施如下:一、設(shè)備精度優(yōu)化選用高質(zhì)量傳感器:優(yōu)先選擇靈敏度高、穩(wěn)定性強(qiáng)的磁性或渦流傳感器,確保信號(hào)捕捉精準(zhǔn)。例如,采用集成電渦流與電磁感應(yīng)的高靈敏度探頭,可顯著提升測量穩(wěn)定性。定期校準(zhǔn)與維護(hù):建立每日開機(jī)校準(zhǔn)制度,使用標(biāo)準(zhǔn)樣片(如鐵基裸材)進(jìn)行系統(tǒng)校準(zhǔn),確保測量誤差≤3%(厚度值)±1μm。同時(shí),定期檢查探頭磨損情況,及時(shí)更換變形或附著雜質(zhì)的探頭。二、環(huán)境干擾控制遠(yuǎn)離強(qiáng)磁場環(huán)境:避免在電氣設(shè)備密集區(qū)域使
  • 2025

    06-23

    半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)產(chǎn)品原理與結(jié)構(gòu)分享

    半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)是利用等離子體技術(shù)去除半導(dǎo)體制造過程中光刻膠的專用設(shè)備。其核心原理是通過等離子體中的高能粒子與光刻膠發(fā)生物理或化學(xué)作用,實(shí)現(xiàn)高效、精準(zhǔn)的膠層去除。一、半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)產(chǎn)品原理:1.等離子體生成機(jī)制氣體輝光放電:在真空腔體內(nèi)通入工藝氣體,通過高頻電場(RF射頻或微波)激發(fā)氣體電離,形成等離子體。等離子體組成:包含高能電子、離子、自由基、紫外光子和中性分子。2.去膠機(jī)理物理作用:高能粒子(如離子)轟擊光刻膠表面,通過物理濺射破壞膠分子結(jié)構(gòu),適用于厚膠層或硬質(zhì)光刻膠?;瘜W(xué)作用:自由
  • 2025

    06-19

    半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)行業(yè)應(yīng)用場景

    半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)是半導(dǎo)體制造工藝中的關(guān)鍵設(shè)備,主要用于去除光刻膠、殘留物或污染物。它利用等離子體的高能特性,通過物理或化學(xué)作用實(shí)現(xiàn)高效、精準(zhǔn)的去膠和表面處理。一、半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)核心功能與原理:1.核心功能:去膠:去除光刻工藝后殘留的光刻膠(正膠或負(fù)膠)。表面清潔:清除晶圓表面的有機(jī)物、氧化物或顆粒污染物。表面活化:增強(qiáng)晶圓表面活性,提高后續(xù)工藝(如鍍膜、鍵合)的附著力。蝕刻:選擇性去除特定材料(如氧化層),用于精細(xì)圖形處理。2.工作原理:通過等離子體(由氣體電離產(chǎn)生的高能離子和自由基)與光
  • 2025

    06-13

    手持光譜儀操作規(guī)范:校準(zhǔn)流程、數(shù)據(jù)管理與故障排查實(shí)用指南

    一、校準(zhǔn)流程準(zhǔn)備工作:確保儀器表面清潔,特別是測量窗口,避免污垢影響精度。使用廠家提供的校準(zhǔn)樣片,確保標(biāo)準(zhǔn)樣品可追溯至國際標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)備預(yù)熱:打開儀器,預(yù)熱至推薦溫度,一般需5-10分鐘,確保設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。校準(zhǔn)操作:在操作界面選擇校準(zhǔn)模式,將標(biāo)準(zhǔn)樣品放置在測量位置,確保緊密貼合,減少空氣間隙。對每個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品至少進(jìn)行三次測量,記錄平均值。調(diào)整與驗(yàn)證:根據(jù)測量數(shù)據(jù)調(diào)整校準(zhǔn)系數(shù),如靈敏度、能量偏移等。應(yīng)用校正算法,如線性回歸,提高準(zhǔn)確性。使用另一套標(biāo)準(zhǔn)樣品驗(yàn)證校準(zhǔn)效果,確保結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)值一致。記錄與標(biāo)記:詳
  • 2025

    05-26

    半導(dǎo)體等離子清洗機(jī)具有6種檢測功能

    半導(dǎo)體等離子清洗機(jī)是一種用于清潔和表面處理的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、電子封裝、光伏、醫(yī)療器械等領(lǐng)域。其6種檢測功能通常用于確保設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性、清洗效果的可靠性以及工藝參數(shù)的準(zhǔn)確性。以下是常見的6種檢測功能及其作用:1.射頻(RF)功率檢測功能:實(shí)時(shí)監(jiān)測等離子體的射頻功率,確保功率輸出穩(wěn)定。作用:射頻功率直接影響等離子體的能量和清洗效果,功率不穩(wěn)定可能導(dǎo)致清洗不均勻或表面損傷。通過檢測功率,可以及時(shí)發(fā)現(xiàn)設(shè)備故障或參數(shù)偏差,避免生產(chǎn)損失。應(yīng)用場景:半導(dǎo)體晶圓清洗、金屬表面活化等。2.氣體流量檢
  • 2025

    05-21

    半導(dǎo)體等離子清洗機(jī)的清洗原理

    半導(dǎo)體等離子清洗機(jī)是一種利用等離子體技術(shù)對半導(dǎo)體材料表面進(jìn)行清潔和處理的設(shè)備。其核心原理是通過等離子體中的高能粒子與材料表面相互作用,去除污染物、活化表面或改變表面性質(zhì)。一、等離子體的產(chǎn)生等離子體是物質(zhì)的第四態(tài)(固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后),由帶電粒子(電子、離子)和中性粒子(原子、分子)組成。在等離子清洗機(jī)中,等離子體通常通過以下方式產(chǎn)生:1.氣體輝光放電:在低壓環(huán)境下,向反應(yīng)腔體中通入工藝氣體(如氧氣、氬氣、氮?dú)獾龋?。通過高頻電場(如射頻RF或微波)激發(fā)氣體,使其電離形成等離子體。氣體分子被電離為
  • 2025

    05-20

    等離子風(fēng)棒的脈沖式放電與臭氧控制策略

    等離子風(fēng)棒利用脈沖式放電技術(shù),通過高壓發(fā)生器產(chǎn)生高強(qiáng)度脈沖電場,使離子發(fā)生器將氣體分子電離并加速,形成高速離子風(fēng)。這種脈沖式放電方式具有能耗低、放電效率高的特點(diǎn),能在短時(shí)間內(nèi)產(chǎn)生大量正負(fù)離子,有效中和物體表面靜電,同時(shí)利用壓縮氣流清除灰塵和微粒。然而,脈沖放電過程中可能產(chǎn)生臭氧,需采取有效控制策略。在臭氧控制方面,首先需優(yōu)化放電參數(shù),如脈沖頻率、峰值電壓和脈寬,以降低臭氧生成量。研究表明,短脈沖放電相比交流正弦高頻電源,能顯著提高臭氧生成效率,但同時(shí)也需平衡臭氧濃度與能耗。其次,可結(jié)合臭氧分解技
  • 2025

    04-27

    等離子除膠機(jī)使用意義有哪些?

    等離子除膠機(jī)在多個(gè)領(lǐng)域中具有重要的使用意義,以下是對其使用意義的詳細(xì)闡述:一、高效清潔快速去除光刻膠:除膠機(jī)利用等離子體的高能量狀態(tài),能夠迅速分解和去除光刻膠等有機(jī)污染物,顯著提高清潔效率。廣泛適用性:不僅適用于光刻膠的去除,還可用于清洗半導(dǎo)體制造過程中的其他有機(jī)物污染,如蠟、樹脂、化學(xué)污染物等。二、高精度與均勻性精確控制:等離子除膠機(jī)通過精確控制氣體流量、壓力、功率和處理時(shí)間等參數(shù),可以實(shí)現(xiàn)對清潔過程的精確控制,確保清潔效果的一致性和可重復(fù)性。均勻清潔:等離子體能夠滲透到微小的縫隙和復(fù)雜的圖案
  • 2025

    04-23

    等離子除膠機(jī)的具體使用方法

    等離子除膠機(jī)是一種利用等離子體技術(shù)去除材料表面殘留膠層的設(shè)備,基本原理:通過產(chǎn)生高能量的等離子體(如氧、氬、氟等氣體的電離狀態(tài)),與膠層中的有機(jī)分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或物理轟擊,使膠層分解、揮發(fā)或剝離,從而實(shí)現(xiàn)無殘留的清潔效果。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子、光學(xué)、航空航天等領(lǐng)域。等離子除膠機(jī)的使用步驟:1.開機(jī)前準(zhǔn)備檢查設(shè)備狀態(tài):確認(rèn)電源、氣路、真空系統(tǒng)連接正常。檢查電極、反應(yīng)腔是否清潔,無雜質(zhì)或殘留物。參數(shù)設(shè)置:根據(jù)膠層類型和材料特性,設(shè)置以下參數(shù):氣體類型:常用氧氣或氬氣,部分特殊膠層需氟化氣體。溫度:
  • 2025

    04-17

    等離子除膠核心原理:等離子體激發(fā)與表面改性的協(xié)同作用

    在等離子除膠技術(shù)中,等離子體激發(fā)與表面改性的協(xié)同作用是去除材料表面膠質(zhì)的關(guān)鍵所在。等離子體激發(fā)是等離子除膠的基礎(chǔ)。通過高頻交流電源在真空環(huán)境中產(chǎn)生電弧放電,使氣體(如氧氣、氮?dú)猓╇婋x形成等離子體。等離子體包含自由電子、正離子以及中性粒子,具有較高的能量密度和反應(yīng)活性。這些高能粒子在電場作用下,對材料表面進(jìn)行轟擊。物理轟擊作用使膠質(zhì)物質(zhì)受到?jīng)_擊和振動(dòng),破壞其與基材之間的結(jié)合力,讓膠質(zhì)變得松散,部分膠質(zhì)直接從表面脫落。表面改性則是等離子除膠的核心效果。等離子體中的活性粒子(如氧原子)與膠質(zhì)發(fā)生化學(xué)反
  • 2025

    03-24

    探索晶圓等離子清洗機(jī)的操作技巧

    以下是一些晶圓等離子清洗機(jī)的操作技巧:1.準(zhǔn)備工作清潔維護(hù)設(shè)備:在操作前,確保等離子清洗機(jī)內(nèi)部干凈無雜物,定期清理設(shè)備內(nèi)部,防止顆粒物或其他污染物影響清洗效果。檢查部件狀態(tài):檢查設(shè)備的氣體管道、電極、真空系統(tǒng)等關(guān)鍵部件是否處于良好狀態(tài),有無泄漏、損壞等問題。比如查看電極是否有磨損或腐蝕,真空系統(tǒng)的密封性是否良好等。準(zhǔn)備清洗材料:根據(jù)晶圓的具體情況和清洗要求,選擇合適的清洗氣體和輔助材料。例如,對于去除有機(jī)污染物,可選用氧氣;對于去除金屬污染物,可能需要使用氫氣或氬氣等。2.參數(shù)設(shè)置時(shí)間控制:根據(jù)
  • 2025

    03-20

    晶圓等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體制造的實(shí)際應(yīng)用

    晶圓等離子清洗機(jī)的核心原理基于等離子體的神奇特性。當(dāng)氣體被施加足夠的能量,其內(nèi)部的分子開始電離,形成由自由電子、離子和活性自由基構(gòu)成的等離子體。這種等離子體具有高的化學(xué)活性,能夠與晶圓表面的各類雜質(zhì)進(jìn)行反應(yīng)。例如,對于常見的有機(jī)物雜質(zhì),等離子體中的活性氧離子會(huì)迅速與之結(jié)合,通過氧化反應(yīng)將其轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性的二氧化碳和水,從而輕松去除這些頑固的有機(jī)污染物。而對于一些無機(jī)雜質(zhì),如金屬顆粒,等離子體中的離子轟擊作用則發(fā)揮著關(guān)鍵效能,高能離子如同密集的“炮彈”,將金屬顆粒從晶圓表面剝離,使其脫離附著,進(jìn)而達(dá)
  • 2025

    03-12

    X射線膜厚儀在引線框架膜厚測試中的應(yīng)用

    X熒光膜厚儀(XRF膜厚儀)是一種基于X射線熒光光譜分析技術(shù)的非破壞性檢測設(shè)備,能夠快速、精確地測量材料表面鍍層的厚度及成分。在半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域,引線框架(LeadFrame)作為芯片與外部電路連接的關(guān)鍵部件,其表面鍍層(如銀、金、鎳、鈀、錫等)的質(zhì)量和厚度直接影響導(dǎo)電性、焊接性能和耐腐蝕性。以下是X熒光膜厚儀在引線框架鍍層測試中的具體應(yīng)用及優(yōu)勢:一.應(yīng)用場景1.鍍層厚度測量引線框架通常需要多層鍍層(如Ag/Ni/Pd/Au等組合),X熒光膜厚儀可同時(shí)測量各鍍層的厚度,無需破壞樣品。適用于關(guān)鍵鍍層
  • 2025

    03-07

    全自動(dòng)鍍層測厚儀的技術(shù)原理與應(yīng)用領(lǐng)域

    全自動(dòng)鍍層測厚儀是一種高精度、高效率的測量設(shè)備,其技術(shù)原理主要基于X射線熒光法、渦流法或磁感應(yīng)法等。技術(shù)原理:X射線熒光法:通過向被測物體表面發(fā)射X射線,激發(fā)其表面元素產(chǎn)生熒光信號(hào),再通過探測器收集反射回來的熒光信號(hào),經(jīng)過智能軟件算法推算出鍍層厚度。這種方法具有測量精確、速度快、操作簡單等優(yōu)點(diǎn),特別適用于檢測微小樣品或復(fù)雜形狀的鍍層。渦流法:利用高頻交變電流在線圈中產(chǎn)生電磁場,當(dāng)探頭靠近被測物體表面時(shí),導(dǎo)體中的渦流會(huì)對探頭產(chǎn)生影響,通過測量這種影響的變化來推算鍍層厚度。該方法適用于測量導(dǎo)電性涂層
  • 2025

    02-27

    揭秘接觸角測量儀的工作原理與操作技巧

    接觸角測量儀是表征材料表面潤濕性的核心科學(xué)儀器,它通過測量液滴在固體表面形成的接觸角,為材料表面能、界面張力等關(guān)鍵參數(shù)提供量化依據(jù)。以下是對接觸角測量儀工作原理與操作技巧的揭秘:工作原理接觸角測量儀的工作原理主要基于光學(xué)原理。當(dāng)液滴被放置在固體表面上時(shí),由于表面張力的作用,液滴會(huì)形成一個(gè)特定的形狀。接觸角測量儀通過高分辨率相機(jī)捕捉液滴在固體表面的圖像,然后利用軟件分析這些圖像,計(jì)算出液滴的接觸角。接觸角是指液體與固體接觸時(shí),氣-液-固三相邊界處形成的夾角,它反映了液體對固體表面的潤濕性能。操作技
  • 2025

    02-20

    等離子清洗機(jī)在汽車內(nèi)飾行業(yè)中的應(yīng)用

    等離子清洗機(jī)(plasma)在汽車內(nèi)飾行業(yè)中的應(yīng)用引言隨著汽車工業(yè)的快速發(fā)展,消費(fèi)者對汽車內(nèi)飾的質(zhì)量和美觀要求越來越高。汽車內(nèi)飾不僅需要具備良好的功能性,還需在視覺和觸感上提供舒適的體驗(yàn)。傳統(tǒng)的清洗方法往往難以去除材料表面的污染物,影響后續(xù)的粘接、涂裝等工藝。等離子清洗機(jī)作為一種先進(jìn)的表面處理技術(shù),在汽車內(nèi)飾行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用,有效提升了產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。等離子清洗技術(shù)簡介等離子清洗是一種利用等離子體對材料表面進(jìn)行處理的清潔技術(shù)。等離子體是由氣體分子在電場作用下電離產(chǎn)生的離子、電子和中性粒子
  • 2025

    02-20

    ICP光譜儀測試金屬硅中雜質(zhì)元素

    1、實(shí)驗(yàn)?zāi)康谋緦?shí)驗(yàn)旨在使用電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP-OES)對金屬硅樣品中的雜質(zhì)元素進(jìn)行定量分析。通過實(shí)驗(yàn),掌握ICP-OES的基本操作流程,了解金屬硅中常見雜質(zhì)元素(如鐵、鋁、鈣、鈦等)的檢測方法,并評(píng)估儀器的檢測限、精密度和準(zhǔn)確度。2、實(shí)驗(yàn)設(shè)備與材料2.1設(shè)備1.ICP-OES光譜儀:配備霧化器、等離子體炬管、檢測器和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)。2.電子天平:精度為0.0001g。3.微波消解儀:用于樣品處理。4.超聲波清洗器:用于清洗實(shí)驗(yàn)器具。5.移液器:用于移取液體。6.容量瓶:用于配制標(biāo)準(zhǔn)
  • 2025

    01-07

    與傳統(tǒng)的濕化學(xué)清洗方法相比,寬幅等離子清洗機(jī)優(yōu)勢明顯

    隨著全球能源結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)型和環(huán)境保護(hù)的日益重要,光伏產(chǎn)業(yè)作為清潔能源的重要組成部分,得到了越來越多的關(guān)注。在光伏產(chǎn)業(yè)鏈中,太陽能電池片的質(zhì)量直接影響到整個(gè)光伏系統(tǒng)的性能和發(fā)電效率。因此,提高太陽能電池片的制造工藝和質(zhì)量成為了光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。在這個(gè)過程中,寬幅等離子清洗機(jī)作為一種高效、環(huán)保的清洗設(shè)備,為光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了有力的支持。寬幅等離子清洗機(jī)是一種新型的表面處理設(shè)備,采用等離子體技術(shù)對材料表面進(jìn)行清洗、活化和改性。與傳統(tǒng)的濕化學(xué)清洗方法相比,具有以下優(yōu)勢:1、高效:采用高能等離子體對材料表
  • 2025

    01-03

    奧林巴斯手持光譜儀:核心技術(shù)與應(yīng)用領(lǐng)域深度解析

    奧林巴斯手持光譜儀,以其的技術(shù)性能和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,成為了眾多行業(yè)的分析工具。其核心技術(shù)的先進(jìn)性與創(chuàng)新性,為其在科研、工業(yè)、環(huán)境監(jiān)測等多個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用提供了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。奧林巴斯手持光譜儀采用先進(jìn)的X射線熒光(XRF)技術(shù),通過發(fā)射高能X射線激發(fā)樣品表面原子,使其發(fā)出特征性的二次X射線(熒光)。根據(jù)這些熒光的波長和強(qiáng)度,儀器能夠準(zhǔn)確分析出元素的組成和含量。這一技術(shù)不僅實(shí)現(xiàn)了快速響應(yīng),僅需短短數(shù)秒即可完成測量與分析,還具備無損檢測的特點(diǎn),不會(huì)對樣品造成破壞,保證了材料的完整性。在應(yīng)用領(lǐng)域方面,奧林巴斯
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