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冠乾科技(上海)有限公司
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SiC外延片測試方案2023/03/15
SiC由于其禁帶寬度大、熱導率高、電子的飽和漂移速度大、臨界擊穿電壓高和介電常數(shù)低等特點,在高頻、高功率、耐高溫的半導體功率器件和紫外探測器等領(lǐng)域有著廣泛的應用前景,特別是在電動汽車、電源、航天等領(lǐng)域備受歡迎。外延材料是實現(xiàn)器件制造的關(guān)鍵,主要技術(shù)指標有外延層厚度、晶格布局,材料結(jié)構(gòu),形貌以及物理性質(zhì),表面粗糙度和摻雜濃度等。本文闡述了SiC外延表面常見的測試手段。本解決方案詳細闡述了如何檢測SiC外延層厚度、晶格布局,材料結(jié)構(gòu),形貌以及物理性質(zhì),表面粗糙度和摻雜濃度。如果需要查看完整的文章,請
三維光學輪廓儀在光學領(lǐng)域的解決方案2021/03/11
光學元件在各個領(lǐng)域都有廣泛應用,對光學元件的表面加工精度提出越來越高的要求。如何檢測光學元件的加工精度,從而用于優(yōu)化加工方法,保證終元器件的性能指標,是光學元件加工領(lǐng)域的關(guān)鍵問題之一。光學元件的加工精度包括表面質(zhì)量和面型精度,這些參數(shù)會影響其對光信號的傳播,進而影響終器件的性能。此外,各種新型光學元件也需要檢測其表面輪廓,比如非球面,衍射光學元件,微透鏡陣列等。除了終光學元件的加工精度以外,各種光學元件加工工藝也需要檢測中間過程的三維形貌以保證終產(chǎn)品的精度,包括注塑、模壓的模具,光學圖案轉(zhuǎn)印時的
布魯克公司發(fā)布完整的掃描電化學顯微鏡解決方案2021/03/11
完整的SECM電化學顯微鏡解決方案布魯克*的PeakForceSECM™模塊是完備商用解決方案,在基于原子力顯微鏡的掃描電化學顯微鏡上實現(xiàn)了小于100納米的空間分辨率。通過創(chuàng)新性探針設計,可實現(xiàn)納米級分辨率的基于原子力顯微鏡的掃描電化學顯微鏡目前已廣泛應用于新興研究領(lǐng)域,如化學動力學,生物化學信號傳導和環(huán)境化學等。此外,此技術(shù)可以納米級橫向分辨同時獲取形貌、電化學、電學和機械性能等圖譜。PeakForceSECM™充分利用峰值力模式的優(yōu)勢從根本上重新定義了在液下能實現(xiàn)哪些電學和化學過程的納米尺度
各種金屬牌號3D打印技術(shù)應用2021/03/10
SLMSolutions代表了創(chuàng)新性、技術(shù)性、高效性的全套解決方案。來自不同行業(yè)的客戶均選擇SLMSolutions的設備生產(chǎn)復雜的零部件。從義齒到渦輪葉片,設備的應用領(lǐng)域極其廣泛。這些產(chǎn)品均符合一個共同的要求:滿足穩(wěn)定性、表面質(zhì)量或生物相容性的高標準。而且設備的適用范圍還在擴大,基本上囊括了所有幾何結(jié)構(gòu)。粉末種類具體類型舉例材料特性典型應用領(lǐng)域鋁合金AlSi10Mg優(yōu)異的抗腐蝕性良好的導電性動態(tài)斷裂韌性高優(yōu)異的導熱性能航空航天汽車行業(yè)機械工程熱交換器件鎳基合金HX強度高延展性好優(yōu)異的高溫抗氧化
布魯克三維光學輪廓儀在光學領(lǐng)域的一些應用2020/12/08
光學元件在各個領(lǐng)域都有廣泛應用,對光學元件的表面加工精度提出越來越高的要求。如何檢測光學元件的加工精度,從而用于優(yōu)化加工方法,保證終元器件的性能指標,是光學元件加工領(lǐng)域的關(guān)鍵問題之一。光學元件的加工精度包括表面質(zhì)量和面型精度,這些參數(shù)會影響其對光信號的傳播,進而影響終器件的性能。此外,各種新型光學元件也需要檢測其表面輪廓,比如非球面,衍射光學元件,微透鏡陣列等。除了終光學元件的加工精度以外,各種光學元件加工工藝也需要檢測中間過程的三維形貌以保證終產(chǎn)品的精度,包括注塑、模壓的模具,光學圖案轉(zhuǎn)印時的
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