今日焦點
查看更多2023年7月11日-13日,亞洲激光、光學、光電行業(yè)的年度盛典——慕尼黑上海光博會在國家會展中心(上海)隆重舉辦。隨著國內(nèi)經(jīng)濟的強力復(fù)蘇,上海慕尼黑光博會強勢回歸,展覽面積再創(chuàng)新高,總面積達80000平方米,展出面積較上一屆增長26%,吸引了全球1100余家光電行業(yè)企業(yè)入駐,為80000名海內(nèi)外觀眾搭建了一個高效、創(chuàng)新、優(yōu)質(zhì)的溝通平臺。
本屆展會,冠乾科技(上海)有限公司亮相6號館1F120,冠乾科技Grant Technology一直以來追求優(yōu)秀品質(zhì)的產(chǎn)品、專業(yè)的應(yīng)用和完善的售后服務(wù)。這次展會,也吸引眾多游客駐足來了解。
展會現(xiàn)場
水平式激光干涉儀
水平式激光干涉儀,是一種使用動態(tài)分析方法的斐索型激光干涉儀。該干涉儀具備良好的抗振性能,可以在有空氣擾動,輕微振動的環(huán)境下檢測。這使得該干涉儀在傳統(tǒng)相移技術(shù)無法進行測試的環(huán)境中,仍能提供精密可靠的計量檢測,這種具有可模塊化組合和低成本等特點的無損檢檢測干涉儀是工業(yè)加工現(xiàn)場檢測需求的新方向。
平面平晶檢測干涉儀
平面平晶檢測干涉儀采用組合式激光干涉儀作為核心部件,包括光源、主機、成像以及鏡頭和相移等四大模塊。
采用更加簡便操作的俯式測量,突破了一等平面平晶限制,且其采樣點可達上百萬像素,能客觀反映被測平面全貌。而且應(yīng)用廣泛:比如計量領(lǐng)域平面平晶檢測,半導(dǎo)體工業(yè)晶片檢測,光學加工窗口玻璃檢測等, 具有廣闊的市場前景。
紅外原子力顯微鏡
Dimension IconIR是一款集合了納米級紅外光譜(nanoIR)技術(shù)和掃描探針顯微鏡(SPM)技術(shù)的系統(tǒng)。它整合了數(shù)十年的技術(shù)創(chuàng)新和研究成果,可以在單一平臺上提供納米級紅外光譜、物理和化學性能表征。該系統(tǒng)具有超高的單分子層靈敏度和化學成像分辨率,在保留Dimension Icon ® 最佳的AFM測量能力的同時,還提供了極大的樣品尺寸靈活性。
傅立葉變換紅外(FTIR)光譜儀
INVENIO 是布魯克推出的研究級傅立葉變換紅外(FTIR)光譜儀的入門級產(chǎn)品。INVENIO 產(chǎn)品的創(chuàng)新技術(shù)及其智能精巧的設(shè)計為新一代傅立葉變換紅外光譜儀樹立了 標準。新的光路設(shè)計將帶來優(yōu)異的信噪比、較寬的光譜范圍(覆蓋從遠紅外至紫外/可見光譜區(qū))和高的靈活性,適用于各種復(fù)雜的實驗配置。可選的集成平板電腦觸控界面讓 您擁有簡單的工作流程和舒適的操作體驗。 布魯克的MultiTect™ 檢測器技術(shù)支持多達5個全自動室溫檢測器。結(jié)合獨立的 DigiTect™ 檢測器位與支持快速 MIR 測量的 Transit™ 通道,INVENIO 內(nèi)部可配備多達 7個自動檢測器,讓您的日常工作變得更加舒心。
X射線衍射儀
D8 ADVANCE X射線衍射儀,采用創(chuàng)造性的達芬奇設(shè)計,通過TWIN-TWIN光路設(shè)計,成功實現(xiàn)了BB聚焦幾何下的定性定量分析和平行光幾何下的薄膜掠入射GID分析、薄膜反射率XRR分析的全自動切換,而無需對光。通過TWIST TUBE技術(shù),使用戶可以在1分鐘內(nèi)完成從線光源應(yīng)用(常規(guī)粉末的定性定量分析、薄膜的GID、XRR)到點光源應(yīng)用(織構(gòu)、應(yīng)力、微區(qū))的切換,讓煩人的光路互換、重新對光等問題從此成為歷史!
高精度的測角儀可以保證在全譜范圍內(nèi)的每一個衍射峰(注意不是一個衍射峰)的測量峰位和標準峰位的誤差不超過0.01度,布魯克AXS公司提供全球保證!
先進的林克斯陣列探測器可以提高強度150倍,不僅答復(fù)提高設(shè)備的使用效率, 而且大幅提高了設(shè)備的探測靈敏度。
冠乾科技(上海)有限公司,是專為用戶提供先進可靠的設(shè)備及儀器技術(shù)的平臺。我們致力于為客戶更精準地把握工藝過程,得到精確的檢測結(jié)果而服務(wù)。縮短您等待,重復(fù)實驗,和供應(yīng)商爭論的時間,避免帶來的重大損失。
該廠商推薦產(chǎn)品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其他方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。