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《硅片薄膜厚度的測試 光學(xué)反射法》意見征求
2020年10月14日 09:00:06
來源：化工儀器網(wǎng) 點擊量：6806
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，薄膜厚度測量是單晶硅晶圓表面介電材料和光刻膠等薄膜厚度及平整度質(zhì)量控制的重要手段，測量方法也有很多，包括有光譜反射法、邁克爾遜干涉儀、橢圓偏振法、X 射線干涉法、β射線反射散射法、顏色比較法等。
【化工儀器網(wǎng) 政策標(biāo)準(zhǔn)】為了防止在外延過程中的自摻雜，通常會在硅片背表面生產(chǎn)一層氧化膜作為背封膜，而膜厚及其均勻性以對多晶層的質(zhì)量及均勻性會直接影響集成電路后續(xù)工藝的成品率，故而需要對該工藝進行有序規(guī)范。
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，薄膜厚度測量是單晶硅晶圓表面介電材料和光刻膠等薄膜厚度及平整度質(zhì)量控制的重要手段，測量方法也有很多，包括有光譜反射法、邁克爾遜干涉儀、橢圓偏振法、X 射線干涉法、β射線反射散射法、顏色比較法等，但很多方法在使用中受到許多條件的限制，測試過程也很復(fù)雜，不能滿足實際生產(chǎn)快速準(zhǔn)確的要求。為了改變這一情形，有研半導(dǎo)體材料股份有限公司根據(jù)《國家標(biāo)準(zhǔn)管理委員會關(guān)于下達第一批推薦性國家標(biāo)準(zhǔn)計劃的通知》的要求，起草編制了《硅片薄膜厚度的測試 光學(xué)反射法》。
為確保標(biāo)準(zhǔn)的科學(xué)性、適用性和可行性，起草組是按照GB/T 1.1-2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則 第1部分：標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定起草的，并引用了GB/T 14264《半導(dǎo)體材料術(shù)語》和GB/T 25915.1《潔凈室及相關(guān)受控環(huán)境 第1部分：空氣潔凈度等級》。
閱讀標(biāo)準(zhǔn)征求意見稿后可知，《硅片薄膜厚度的測試 光學(xué)反射法》規(guī)定了采用光學(xué)反射法測試硅片表面二氧化硅或多晶薄膜層厚度的方法，該方法需要用到的儀器設(shè)備包括有光源、具有可以接收反射光束的光譜儀、光纖和組合鏡頭、樣品臺和控制系統(tǒng)。
為確保實驗順利進行，標(biāo)準(zhǔn)中還指出了應(yīng)對干擾因素的贏多方法：環(huán)境中強光、磁場、溫度、濕度等波動對測試結(jié)果會造成影響，故而推薦在6級或以上的潔凈實驗室中進行實驗操作；樣品的表面粗糙度對測試結(jié)果存在影響，應(yīng)對其做鏡面拋光處理；樣品表面的薄膜與作為樣品襯底的材料有時候不能擬合出理想的曲線，需要在兩者之間加一層其他材料；若測試薄膜的厚度不夠，達不到一個周期的反射率振蕩，可通過調(diào)節(jié)入射波長等條件達到理想的擬合曲線。
本標(biāo)準(zhǔn)將作為推薦性國家標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布實施，相信其能有利于薄膜測試的簡化和規(guī)范薄膜厚度的評價標(biāo)準(zhǔn)，促進行業(yè)的統(tǒng)一和對產(chǎn)品質(zhì)量的把控，并助集成電路國有化的研究與發(fā)展一臂之力。
更多詳情請點擊：《硅片薄膜厚度的測試 光學(xué)反射法》征求意見稿
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