EZI UV Nanoimprint System PL400

特點(diǎn)：

? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理

? 低于10納米分辨率，產(chǎn)率高達(dá)99％

? 一步自動(dòng)釋放功能，可防止分離過(guò)程中模具/基材損壞，使壓印產(chǎn)量大化

? 支持各種類(lèi)型的硬模和軟模

? 可變模具和基材尺寸，靈活方便

? 可編程PLC，通過(guò)自定義參數(shù)進(jìn)行過(guò)程控制，帶觸摸屏用戶(hù)界面

? 對(duì)準(zhǔn)功能選項(xiàng)

? 多種工藝，適用于各種應(yīng)用光學(xué)器件，顯示器，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)，生物醫(yī)學(xué)器件，半導(dǎo)體IC，化學(xué)合成和*材料等

? 專(zhuān)有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對(duì)硬度或厚度沒(méi)有限制，并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容

EZ Imprinting處理器參數(shù)：

基材尺寸:  4“標(biāo)準(zhǔn)（尺寸較小，形狀不規(guī)則）

印記區(qū) :   與晶圓尺寸相同。

模板尺寸   4”,2” and 1”