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 Nanobase50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統(tǒng)采用透射式光路設(shè)計(jì),提高了產(chǎn)品的靈敏度和穩(wěn)定性。*的振鏡掃描技術(shù)能夠在臺(tái)面固定不動(dòng)的情況下實(shí)現(xiàn)快速二維成像掃描。該技術(shù)在聯(lián)用光電流成像系統(tǒng)載臺(tái)時(shí)優(yōu)勢(shì)明顯,并且可擴(kuò)展增加熒光壽命檢測(cè)系統(tǒng)。

     XperRam C series是基礎(chǔ)款,采用一個(gè)532nm激光器激發(fā),集成了奧林巴斯顯微鏡,可以測(cè)量樣品的Raman/PL的光譜信號(hào)和mapping(Image)圖像。光譜信號(hào)強(qiáng),掃描速度快,。

50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統(tǒng)

 

系統(tǒng)光路

 

 

 

拉曼成像mapping

 

 

                                      (a)     MoS2 sample microscope image                 (b)50x50µm size 0.3µm step Intensity  image

                                        (c)     30x30µm size 0.1µm step Intensity image    (d)30x30µm size 0.1µm step Frequency image

 

 

 

產(chǎn)品特點(diǎn)

  •  
  •  
  • 具有優(yōu)異的掃描分辨率和重復(fù)性

(激光掃描分辨率< 0.02 um & 重復(fù)性< 0.1 μm)

  • 體相全息光柵光譜儀(光透過率>90%,比反射式光柵高30%,信號(hào)傳輸效率更高)
  • 具有Raman/PL等多種測(cè)量模式,可擴(kuò)展為光電流成像功能
  • 結(jié)構(gòu)緊湊,模塊化設(shè)計(jì)
  • 掃描速度快,掃描范圍大200µm x 200µm范圍內(nèi)高速成像 & 2D Mapping

應(yīng)用領(lǐng)域

石墨烯,二維材料,生物樣本,半導(dǎo)體工業(yè),碳納米管,碳材料,太陽能電池,儲(chǔ)能材料,納米纖維分布,探測(cè)器光電性能檢測(cè),晶圓體分析,制藥分析,納米材料檢測(cè),生物細(xì)胞成像,微塑料檢測(cè),金剛石微粉檢測(cè)。

 

基本參數(shù)

 

激光器

  • 一個(gè)CW DPSS激光器
  • 激光器波長(zhǎng):405nm/532nm/633nm(532nm通用型號(hào))
  • 輸出:大100mW

顯微鏡

  • 奧林巴斯顯微鏡:BX4X, BX5X, BX61 (正置)
  • 反射式/透射式LED照明
  • 物鏡:標(biāo)配(40X, NA=0.75)   選配:多種倍率和超長(zhǎng)焦距物鏡
  • 透過率:>60% (360nm~1000nm)

掃描模塊

  • 掃描面積:200um×200um   (大)
  • 掃描精度: 小于0.02 um(分辨率), <0.1um(重復(fù)性)
  • 小步進(jìn):0.1um
  • 掃描速度:>20 譜/秒

探測(cè)器

  • 科學(xué)級(jí)TEC制冷ccd
  • 分辨率:1932×1452   Pixels

光譜范圍

  • 大 203750px-1
  • 低:250px-1(需額外加低波數(shù)模塊,通用型號(hào)1250px-1

光柵選擇

  • 300/600/1200/1800/2400  lpmm (可選)

其它附加選項(xiàng)

  •  
  • 偏振控制
  • 功率控制ND濾波片

 

使用Nanobase XperRam Compact系列拉曼成像光譜儀發(fā)表的部分文獻(xiàn):


1. Ising-Type Magnetic Ordering in Atomically Thin FePS3gnetic Ordering in Atomically Thin FePS3
影響因子: 12.08 期刊名稱: NANO Letters2016 , 作者單位: 首爾國(guó)立大學(xué)物理與天文學(xué)系, 通訊作者: Hyeonsik Cheong
2. Electrically conductive cement mortar: Incorporating rice husk-derived high-surface-area graphene
期刊名稱: Construction and Building Materials2016 , 作者單位: 全南國(guó)立大學(xué)高分子科學(xué)與工程學(xué)院, 通訊作者: Ji Hoon Kim
3. Wafer-Scale van der Waals Heterostructures with Ultraclean Interfaces via the Aid of Viscoelastic Polymer
影響因子: 8.097 期刊名稱: ACS Applied Materials and Interfaces2018  作者單位: 成均館大學(xué), 通訊作者: Young Hee Lee

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