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痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion

2025-05-27

產(chǎn)      地:
暫無
所在地區(qū):
上海上海市
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痕量和超痕量分析在科研、工業(yè)和檢測等各個領域發(fā)揮著越來越重要的作用,這些*靈敏度的分析技術對分析過程中的污染風險零容忍。純水在其中,參與清洗部件、冷卻、標準曲線繪制、樣品制備等諸多環(huán)節(jié)。水的純度,必須滿足嚴苛的要求。


痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion是樂楓專門設計,與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統(tǒng)配合使用的純化、取水終端,提供超低元素水平的分析級超純水,離子含量低至ppt 甚至亞ppt 水平,使用者可通過Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開關控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)、石墨爐原子吸收(GF-AAS)等各種痕量/ 超痕量元素分析技術。


Genie De-ion.jpg


痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion優(yōu)勢特點:

● 裝有 ICP 型超純化柱,對超純水進行深度純化進一步去除痕量離子,持續(xù)提供ppt 或亞ppt 離子水平的超純水。

· 優(yōu)化水路設計,提高過水量,水質穩(wěn)定。

· 柱體耐壓強,接口雙重密封,漏水風險低。

· 帶智能識別碼(RFID),智能化管理,工作狀態(tài)實時監(jiān)控,隨時追溯水質歷史數(shù)據(jù)、使用參數(shù)等。

· 安裝更換簡單,可以單手操作。

● 終端自帶彩色觸摸屏

· 2.4 英寸,實時顯示水質/ 流速等常用信息。

· 可戴手套和帶水操作。

· 設置手動或定量取水,調節(jié)流速。

● 布局靈活,安裝便利,節(jié)省實驗室空間


布局靈活Genie De-ion.jpg


典型應用

· ICP-MS 分析

· 石墨爐原子吸收光譜分析

· 痕量和超痕量元素分析

· 關鍵儀器清洗等

應用領域/ 行業(yè)

· 電子、芯片、半導體

· 食品、農業(yè)、藥品、醫(yī)學

· 環(huán)保、地質

· 核工業(yè)、能源、法醫(yī)、

· 化學化工等


性能指標

超純水技術指標

取水流速

0 - 1.5 L/min

電阻率 ( @ 25℃ )

18.2 MΩ·cm

TOC

< 5 ppb

尺寸及重量

寬 × 深 ×高

21 cm × 29 cm × 53 cm

重量

21 kg


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