FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積
2025-05-30
 |
FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積
隨著LCD面板和製造所需玻璃的尺寸的增加，其製造設(shè)備也變得更大，需要越來越大的設(shè)備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求開發(fā)串集的PECVD 設(shè)備，提供非晶矽（a-Si），氧化矽（SiOx），氮氧化矽（SiON），氮化矽（SiNx）和多層膜沉積。
FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | |
| |
| 配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
|
|
免責(zé)聲明：以上所展示的信息由企業(yè)自行提供，內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布企業(yè)負(fù)責(zé)，化工儀器網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
北京瑞科中儀科技有限公司
相關(guān)供應(yīng)
采購中心