批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學(xué)氣相沉積技術(shù)，可為沉積反應(yīng)提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質(zhì)量。
此系統(tǒng)為專對派瑞林(Parylene)所設(shè)計，其腔體內(nèi)部具有公自轉(zhuǎn)知特性，並批量式生產(chǎn)。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性。可應(yīng)用於光電元件封裝、電路板絕緣…等。
批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備參數(shù)：
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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| 配置和優(yōu)點 | 選件 |
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