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UV光束分析儀/UV激光光束質(zhì)量分析儀可實(shí)現(xiàn)高分辨率實(shí)時(shí)空間光束的監(jiān)測(cè)、定量表征與強(qiáng)度分布。主用于所有脈沖或連續(xù)波激光器以及非相干光源,檢測(cè)器CCD芯片上量子轉(zhuǎn)換涂層保證了UV檢測(cè)的高靈敏度。
主要特點(diǎn)
UV光束分析儀/UV光束特性分析
‐ zhun分子激光器 @193nm, 248nm, 351nm
‐ 固體激光器 @355nm, 266nm, 213nm
‐ UV LEDs, UV/VUV lamps
寬光譜靈敏度:VUV ‐ DUV ‐ Vis ‐ NIR
實(shí)時(shí)光學(xué)調(diào)節(jié)
基于ISO光束參數(shù)測(cè)量
衰減單元(可選)
Homogenized KrF
excimer laser (248nm)
Mask projection of
excimer laser beam
主要技術(shù)規(guī)格
波長(zhǎng)范圍~100nm …1100nm
(<~320nm:高線(xiàn)性和穩(wěn)定性的量子轉(zhuǎn)換涂層;<190nm: N2/ Ar purging required)
視場(chǎng)尺寸:20mmX14mm(其他尺寸可選)
相機(jī):CMOS 4MPixel, 12 Bit, USB3.0
幀率:up to 15fps
曝光時(shí)間:20us to 1s
衰減單元:棱鏡衰減器(因子1000:1)
中性密度濾片
Near‐field and far‐field
profile of ArF excimer laser
(193nm), indicating 2nd
moment beam widths
Beam profile of
misaligned 355nm laser
Beam Analysis software
光束測(cè)試軟件
測(cè)試基于ISO標(biāo)準(zhǔn)
Parameter | Standard |
Beam diameter光束直徑 | ISO 11146 |
Divergence | ISO 11146 |
Beam profile光束剖面 | ISO 13694 |
Pointing 指向/ pos. Stability位置穩(wěn)定性 | ISO 11670 |
M2 質(zhì)量因子/ Focusability聚焦性 | ISO 11146 |
Wavefront 波前 / Phase distribution相位分布 | ISO 15367 |
Coherence 相干 | - |
Around 20 various camera types are supported |
巨力光電(北京)科技有限公司立足于北京市副中心通州區(qū),專(zhuān)門(mén)經(jīng)銷(xiāo)歐洲、美國(guó)、日本等國(guó)家制造的科學(xué)儀器設(shè)備,為客戶(hù)提供完備的售前咨詢(xún)和售后服務(wù)、技術(shù)支持。公司骨干在該行業(yè)有超過(guò)10年的經(jīng)驗(yàn),專(zhuān)業(yè)的服務(wù)水平、完善的售后服務(wù)體系。
目前主要產(chǎn)品涉及材料科學(xué)、微納米技術(shù)、表面測(cè)量和光電器件、光伏產(chǎn)品、半導(dǎo)體器件的檢測(cè)與研發(fā)等領(lǐng)域。公司本著以科技為導(dǎo)向、以客戶(hù)為中心、以服務(wù)為宗旨,竭誠(chéng)為新老客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)!
巨力光電(北京)科技有限公司
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