產(chǎn)品介紹

在半導(dǎo)體清洗工藝中，控制 NMP 濃度至關(guān)重要，而基于折光原理的CYR-E-NMP-在線NMP濃度檢測儀正是該領(lǐng)域的主流選擇之一，能有效助力半導(dǎo)體清洗提升良率。

半導(dǎo)體清洗需要控制 NMP濃度。NMP是高效的光刻膠剝離劑和清洗溶劑，濃度直接影響其溶解能力。濃度過低會導(dǎo)致清洗困難，出現(xiàn)光刻膠殘留；濃度過高則可能造成過度刻蝕或損傷敏感結(jié)構(gòu)。此外，濃度波動會使晶圓批次間的清洗效果出現(xiàn)差異，成為良率波動的潛在因素。

CYR-E-NMP-在線NMP濃度檢測儀檢測NMP濃度具有諸多優(yōu)勢。它能夠?qū)崟r連續(xù)監(jiān)測，提供每秒更新的濃度數(shù)據(jù)，及時反饋清洗槽或循環(huán)管路中 NMP 的實(shí)際狀態(tài)，快速響應(yīng)異常情況，避免整批晶圓報廢?，F(xiàn)代在線折光儀在 NMP 的典型工作濃度范圍內(nèi)精度高，測量基于物理光學(xué)原理，不受溶液顏色、氣泡、懸浮物等干擾，穩(wěn)定性優(yōu)于電導(dǎo)率或 pH 法。儀表設(shè)計(jì)良好，無耗材，減少長期運(yùn)營成本和維護(hù)頻次。

在半導(dǎo)體清洗中，NMP 濃度在線分析儀有多個典型應(yīng)用點(diǎn)，如光刻膠剝離槽主槽或循環(huán)管路中 NMP 工作液濃度的實(shí)時監(jiān)控與自動補(bǔ)液，清洗 / 漂洗槽監(jiān)控 NMP 殘留或回收液濃度，NMP 回收系統(tǒng)監(jiān)測蒸餾提純后 NMP 的純度，以及廢液處理前監(jiān)控確保廢液濃度符合處理裝置要求。

產(chǎn)品參數(shù)