產(chǎn)品介紹

氫氟酸（HF）是一種無色透明的液體，具有刺激性氣味，具備腐蝕性和毒性。氫氟酸能夠強烈腐蝕金屬、玻璃等多種材料，還易溶于水并形成溶液，具有揮發(fā)性，會釋放出氟化氫氣體。

在泛半導體制造中，氫氟酸被廣泛應用于晶圓清洗，用于去除表面污染物以提高潔凈度；在氧化層刻蝕中，它能精確控制刻蝕深度和均勻性，實現(xiàn)精細圖形的轉移，同時還參與表面處理和化學拋光等工藝。然而，氫氟酸的濃度控制至關重要，它直接影響刻蝕速率和均勻性，進而關系到芯片的性能和良率。濃度過高可能損傷精密設備，而濃度過低則無法達到理想的工藝效果。此外，控制氫氟酸濃度還能確保操作人員的安全，避免因接觸高濃度氫氟酸而造成傷害。

楚一測控CYR-E-HF-氫氟酸濃度在線監(jiān)測儀為泛半導體行業(yè)的氫氟酸濃度監(jiān)測提供了創(chuàng)新解決方案。傳統(tǒng)的離線分析方法不僅耗時、易出錯，更無法滿足行業(yè)對實時監(jiān)控的嚴苛要求。而該儀表專為泛半導體行業(yè)設計，能夠?qū)ιa(chǎn)過程中的氫氟酸濃度進行實時監(jiān)測，滿足行業(yè)對高精度、高可靠性的需求。它可以在線監(jiān)測晶圓清洗槽中的氫氟酸濃度，確保清洗效果穩(wěn)定；實時監(jiān)控刻蝕液中的氫氟酸濃度，實現(xiàn)對刻蝕工藝的精確控制；還能用于氫氟酸回收系統(tǒng)，優(yōu)化回收效率，降低生產(chǎn)成本。在線折光儀的實時監(jiān)控功能能夠快速響應，及時反映濃度變化，避免批次間的差異；其無損測量方式不接觸樣品，避免污染，保證工藝的純凈度；并且可以與控制系統(tǒng)集成，實現(xiàn)自動化調(diào)節(jié)，提高生產(chǎn)效率。

CYR-E-HF-氫氟酸濃度在線監(jiān)測儀基于折光原理進行測量。光線從棱鏡射入氫氟酸溶液時會發(fā)生折射現(xiàn)象，折射角的大小與氫氟酸的濃度有關，濃度越高，折射角越大。通過測量折射角并結合溫度補償，儀表可以精準計算出氫氟酸的濃度。這種測量方式具有諸多優(yōu)勢：折射率測量精度高，能夠準確反映濃度變化；抗干擾能力強，受樣品顏色和濁度的影響?。唤Y構簡單，維護成本低。

選擇CYR-E-HF-氫氟酸濃度在線監(jiān)測儀，您將獲得專為泛半導體行業(yè)優(yōu)化的高性能設備。我們采用特種耐氫氟酸腐蝕材質(zhì)（超純PTFE、PFA），確保儀表在苛刻的化學環(huán)境中長期穩(wěn)定運行，避免腐蝕造成的測量誤差。高精度光學傳感器和能夠?qū)崿F(xiàn)對氫氟酸濃度的準確測量，滿足泛半導體行業(yè)對高精度的需求。內(nèi)置高精度溫度傳感器可實現(xiàn)自動溫度補償，消除溫度變化對測量結果的影響，保證測量精度。同時，我們還提供定制化服務，可根據(jù)客戶的具體工藝需求，提供個性化的解決方案。

技術參數(shù)