本設(shè)備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺與靶面的角度可調(diào)，可用于制作特定生長角度的薄膜。設(shè)備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源，可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。設(shè)備真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊功能完善便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗。
傾斜樣品臺式單靶磁控技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱 | 傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSZ180-60Q-I-DC-Q | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ60mm |
加熱溫度 | ≦500℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ180mm X215mm |
觀察窗口 | 全向透明 | |
腔體材料 | 高純石英 | |
開啟方式 | 上蓋拆卸式 | |
真空系統(tǒng) | 前級泵 | 低噪音雙極旋片泵 |
分子泵 | 低噪音大抽速渦輪分子泵 | |
真空測量 | 復(fù)合真空計，量程:10-5~105Pa | |
抽氣接口 | KF16 | |
抽氣接口 | KF40 | |
排氣接口 | KF16 | |
系統(tǒng)真空 | 1.0×10-4Pa | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s | |
電源配置 | 電源數(shù)量 | 直流電源一套 |
輸出功率 | 500W | |
其他參數(shù) | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機功率 | 2kW | |
整機尺寸 | 550mm X 350mm X400mm | |
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