實(shí)驗(yàn)室膠體磨，高剪切膠體磨，立式膠體磨，高剪切膠體磨，瀝青膠體磨，微晶纖維素膠體磨，BB霜膠體磨，上海膠體磨，IKN設(shè)備

 IKN實(shí)驗(yàn)室膠體磨的基本性能參數(shù)與IKN工業(yè)化的性能參數(shù)基本*，只是在產(chǎn)量上是IKN工業(yè)化設(shè)備的一個(gè)收縮。當(dāng)物料在IKN實(shí)驗(yàn)室膠體磨實(shí)驗(yàn)成功后，幾乎不需要再修改工業(yè)配方，可以直接用IKN工業(yè)化設(shè)備進(jìn)行大批量生產(chǎn)。并且IKN實(shí)驗(yàn)室高剪切膠體磨的轉(zhuǎn)速是普通國(guó)產(chǎn)膠體磨的3-4倍，定轉(zhuǎn)子采用了三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)，是剪切研磨效果更佳。

      實(shí)驗(yàn)室膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力，透過實(shí)驗(yàn)室膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
      CM2000/4實(shí)驗(yàn)室膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

      實(shí)驗(yàn)室膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。

影響研磨效果因素：

1 磨頭的形式（臥式和立式）

2 磨頭頭的剪切速率

3  磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（見磨頭結(jié)構(gòu)）

4 物料在磨頭墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間

5 循環(huán)次數(shù)

研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。 

研磨速率 （s-1） =      v  速率 （m/s）÷g 定-轉(zhuǎn)子 間距 （m）

由上可知，研磨速率取決于以下因素： 

– 磨頭的線速率

– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 （相對(duì)而言）

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

IKN磨頭結(jié)構(gòu)與國(guó)產(chǎn)的區(qū)別：

我們的磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨，而他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。