CVD系統(tǒng)
- 公司名稱 天津中環(huán)實(shí)驗(yàn)電爐有限公司
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2017/6/18 11:04:22
- 訪問次數(shù) 442
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CVD系統(tǒng),石墨烯制備系統(tǒng),真空氣氛管式爐,旋轉(zhuǎn)管式爐,多工位回轉(zhuǎn)爐,箱式馬弗爐,快速退火爐,立式管式爐,干燥箱,高溫氣氛箱式爐,半導(dǎo)體CVD
CVD系統(tǒng)設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn),CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外,現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域
CVD成長系統(tǒng)是利用氣態(tài)化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而在基體表面上生成不揮發(fā)涂層的一種薄膜材料制備系統(tǒng)
CVD系統(tǒng)產(chǎn)品的特點(diǎn):
1 CVD系統(tǒng)兼容、常壓、微正壓多種主流的生長模式
2 CVD系統(tǒng)可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長
3 CVD系統(tǒng)使用計算機(jī)控制,可以設(shè)置多種生長參數(shù)
4 CVD系統(tǒng)可以制備高質(zhì)量,大面積石墨烯等碳材料,尺寸可達(dá)數(shù)厘米,研究動力學(xué)過程
5 CVD系統(tǒng)沉積效率高;薄膜的成分精確可控,配比范圍大;厚度范圍廣,由幾百埃至數(shù)毫米,可以實(shí)現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)
產(chǎn)品名稱 | 高真空CVD系統(tǒng) | |
產(chǎn)品型號 | ZX-03A(擴(kuò)散泵) | ZX-04A(分子泵) |
使用真空范圍 | 1X10^-2Pa-1X10^1Pa | 1X10^-3Pa-1X10^1Pa |
真空規(guī)管 | 熱偶規(guī)管、電離規(guī)管 | |
控制方式 | 自動控制 | |
載重量 | 150Kg | |
工作電源 | AC220V±5% 50Hz | |
真空泵參數(shù) | 雙極真空泵理論極限真空度 0.6Pa(6X10^-1Pa ),抽氣速率4L/S,額定電壓220V 功率0.55KW | |
分子真空泵理論極限真空度 0.0000006Pa(6X10^-7Pa),抽氣速率160L/S,額定電壓220V 功率2KW | ||
擴(kuò)散真空泵理論極限真空度 0.0000006Pa(6X10^-3Pa),抽氣速率160L/S,額定電壓220V 功率2KW | ||
外形尺寸(深x寬x高) | 600x6500x1080mm | 600x6500x1050mm |
重量 | 170Kg | 150Kg |
標(biāo)準(zhǔn)配置 | 真空規(guī)管2支,波紋管1支,KF卡箍4個,四通1個,高真空手動擋板閥1個 | |
質(zhì)量保證 | 整機(jī)保修1年,不包含真空規(guī)管 | |
配套產(chǎn)品 | SK系列真空/氣氛管式電爐、SX系列真空/氣氛箱式電爐、真空規(guī)管、氣體流量控制柜 |