VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
- 公司名稱 沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地 沈陽
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/7/16 10:47:49
- 訪問次數(shù) 2715
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切割機(jī),金剛石線切割機(jī),研磨拋光機(jī),提拉涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),真空鍍膜機(jī),管式爐,箱式爐,電池實(shí)驗(yàn)研究設(shè)備,清洗機(jī)
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦 |

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源,一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。

配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
體積小,操作簡便。

產(chǎn)品名稱 | VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 | |||
產(chǎn)品型號 | VTC-600-2HD | |||
安裝條件 | 1、工作臺需要:尺寸 L1300mm×W750mm×H700mm,承重 200kg 以上。 2、水:需求:隨機(jī)標(biāo)配 KJ-5000 自循環(huán)冷水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)。 3、氣:需氬氣(純度≥99.99%),自備氬氣瓶(自帶?6mm 雙卡套接頭)及減壓閥。 4、通風(fēng)裝置:使用現(xiàn)場需通風(fēng)(必要時可自行加裝換氣裝置)。 5、供電源:單相:AC220V 50Hz 國標(biāo) 10A 插座,必須有良好接地,前端需加裝 16A 空氣開關(guān)。 6、現(xiàn)場環(huán)境:要求:溫度 25℃±15℃,濕度 55%Rh±10%Rh 以下,干燥無塵,無易燃易爆氣體。 | |||
主要參數(shù) | 真 空 系 統(tǒng) | 真空室尺寸 | φ295×高265mm | 備注說明 |
真空泵組 | 分子泵:Hipace80 渦輪泵 前級泵:MVP015-2DC 隔膜泵 | 浦發(fā)(Pfeiffer) | ||
本底真空度 | 5.0E-3Pa(5.0E-5hPa) | 沉積前基礎(chǔ)真空要求 | ||
極限真空度 | 5.0E-4Pa(5.0E-6hPa) | 受現(xiàn)場環(huán)境等因素影響 | ||
工作壓力 | 0.1~5Pa(0.001~0.05hPa) | 氬氣為主,反應(yīng)氣體比例添加 | ||
抽速 | 前級泵:1m3/h 分子泵:67l/s | 影響抽真空時間 | ||
電 源 配 置 | 濺射電源 類型/數(shù)量 | DC(直流):1臺 RF(射頻):1臺 | DC:金屬靶 RF:絕緣靶 (搭配電源類型可選配) | |
輸出功率 范圍 | DC:0~500W RF:0~300W | 功率輸出模式 MAX輸出功率 | ||
匹配阻抗 | 50Ω | 確保功率傳輸效率 | ||
氣 體 控 制 | 工作氣體 | 標(biāo)配:氬氣(Ar) | 建議使用:Ar 純度 99.999% | |
氬氣流量 (2路輸入) | 1路:1~100sccm 1路:1~200sccm | 注:如需要通入其它類型保 護(hù)氣體可定制 | ||
流量計(jì)精度 | ±1%F.S. | / | ||
旋 轉(zhuǎn) 樣 品 臺 | 樣品臺尺寸 | Φ132mm | ≈5.2英寸 | |
樣品臺轉(zhuǎn)速 | 1~20rpm | 提升膜厚均勻性 | ||
加熱溫度 | RT~500℃ | 樣品臺表面溫度值 | ||
控溫精度 | ±1℃ | / | ||
磁 控 濺 射 靶 | 磁控靶數(shù)量 | 2個 | 可獨(dú)立、可同時使用 | |
靶材尺寸 | φ2寸 厚度0.1-5mm | 靶材材質(zhì)不同厚度有所不同 | ||
靶基距 | 85~115mm可調(diào) | 當(dāng)距離↑增大、→厚膜均勻 性↑增高,沉積速率↓下降。 | ||
冷卻方式 | 水冷 | 冷卻水循環(huán)靶頭降溫 | ||
沉 積 性 能 與 其 它 參 數(shù) | 厚膜均勻性 | ±5%(φ100mm基片) | 靶基距和轉(zhuǎn)速優(yōu)化關(guān)鍵 | |
極限膜厚 | 10nm~10um | 過厚易應(yīng)力開裂 | ||
輸入功率 | MAX:主機(jī) 500W/射頻電源 1100W/直流電源 750W | 注:主機(jī)、射頻電源、直流電 源及膜厚儀均為獨(dú)立供電! | ||
輸入電源 | 單相:AC220V 50/60Hz | |||
主機(jī)尺寸 | 600mm×750mm×900mm | 注:開蓋高度為1050mm | ||
整機(jī)尺寸 | 1300m×750mm×900mm | 注:開蓋高度為1050mm | ||
整機(jī)重量 | 160kg | 注:不含水冷機(jī)組 |

序號 | 名稱 | 數(shù)量 | 圖片鏈接 |
1 | 直流電源控制系統(tǒng) | 1套 | - |
2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | - |
3 | 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) | 1套 | - |
4 | 分子泵(德國進(jìn)口或者國產(chǎn)更大抽速) | 1臺 | - |
5 | 冷水機(jī) | 1臺 | - |
6 | 聚酯PU管(?6mm) | 4m | - |

序號 | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
1 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | (可選) | ![]() |
2 | 可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜 | (可選) | - |
3 | 雙層旋轉(zhuǎn)鍍膜夾具 | (可選) | ![]() |