化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>濕法工藝設(shè)備>濕法腐蝕/刻蝕設(shè)備>WS-1000M Laurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列
WS-1000M Laurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列
- 公司名稱 邁可諾技術(shù)有限公司
- 品牌 Laurell
- 型號(hào) WS-1000M
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/7/1 12:31:38
- 訪問次數(shù) 4840
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勻膠機(jī)，光刻機(jī)，顯影機(jī)，等離子清洗機(jī)，紫外臭氧清洗機(jī)，紫外固化箱，壓片機(jī)，等離子去膠機(jī)，刻蝕機(jī)，加熱板
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,能源,電子/電池,包裝/造紙/印刷 |
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WS-1000M Laurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī)，排放簡(jiǎn)便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng)，可選擇WS-1000濕法刻蝕設(shè)備，WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以被配置成測(cè)試模塊構(gòu)造，安裝簡(jiǎn)便，易于拆卸，更便于操作者控制。
一、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備功能：
● 涂敷Coating
● 刻蝕Etching
● 顯影Developing - Aqueous / Solvent
● 清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
● 可選配, Sulfuric硫化物 / Peroxide雙氧水，溶液處理(insitu mixing)
● 可選配, HBr溶液處理
● 帶溫控的顯影功能
● 沖洗甩干
二、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備特點(diǎn)：
● 全PP材質(zhì)構(gòu)造
● 可集成Laurell勻膠旋涂系統(tǒng)
● 有排孔的濕站操作臺(tái) (易清潔)
● 特殊設(shè)計(jì)的濕站壓力系統(tǒng)Wet plenum
● 帶流量計(jì)的排液管道
● 各類組件的隔離設(shè)計(jì)（散熱原件，泵浦和壓力容器等）
三、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備材料選擇：
可以根據(jù)應(yīng)用選擇更高級(jí)的材料；
● WS-1000-CP5 符合SEMI S93標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用在消防安全和潔凈空間等領(lǐng)域。CP5符合UL94 V-O 火災(zāi)分類標(biāo)準(zhǔn)。它具有優(yōu)良的平衡的物理性能，耐化學(xué)藥品性和耐火性。
● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合嚴(yán)格的FMRC 4910測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)，滿足多方面條件下的難燃性，自熄特點(diǎn)和*燃燒。這種*材料也達(dá)到或超過產(chǎn)生低煙和小毒副產(chǎn)品的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)。
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