技術(shù)參數(shù)
ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x技術(shù)指標(biāo)： 
測量范圍： ON 低氧0.0－300ppm OH 低氧0.0－300ppm 
高氧0.0－2% 高氧0.0－2% 
低氮0.0―300ppm 低氫0.0－50ppm 
高氮0.0－2% 高氫0.0－1000ppm 
靈敏度： 氧0.01ppm；氮0.1ppm；氫0.01ppm 
精密度： ON 低氧0.1ppm或1%（相對偏差） OH 低氧0.1ppm或1%（相對偏差） 
高氧2ppm或1%（相對偏差） 高氧2ppm或1%（相對偏差） 
低氮0.1ppm或1%（相對偏差） 低氫0.05ppm或1%（相對偏差） 
高氮 0.2ppm或1%（相對偏差） 高氫0.5ppm或1%（相對偏差） 
分析方法：氧：紅外吸收法；氮、氫：熱導(dǎo)法 
樣品稱量：一般約1g 
分析時(shí)間：約2分鐘 
化學(xué)試劑：高氯酸鎂；堿石棉；舒茨試劑；氧化銅 
爐子溫度：3000℃，8kw 
氣 體：氮?dú)猓?9.9995%；氦氣：99.995%，2－4 bar （0.2－0.4Mpa） 
壓縮空氣：4－6 bar （0.4－0.6Mpa） 
儀器接口：天平串口，計(jì)算機(jī)串口；打印機(jī)并口 
電 源：380VAC±10% 50/60Hz（3相） 
質(zhì) 量：140kg 
尺 寸：55×80×60cm（W×H×D） 
電子天平：0.1mg 
計(jì)算機(jī)、監(jiān)視器和打印機(jī)可根據(jù)分析器和用戶需要配置


主要特點(diǎn)
儀器特點(diǎn)： 
1．用同一臺儀器分析固體無機(jī)物中的氧、氮、氫。 
2．采用熱抽取分析技術(shù)，通過在低于熔點(diǎn)的溫度下加熱樣品，測定樣品中的殘留氫。 
3．脈沖加熱可達(dá)3000℃以上高溫，適用于金屬和陶瓷樣品分析。 
4．借助于新設(shè)計(jì)的進(jìn)樣裝置，粒狀和屑狀樣品可直接加入到脈沖爐中，無須用錫箔或鎳箔包裹。 
5．設(shè)有多種分析模式，可分別測定樣品中總氧量和總氮量以及其中各種氧化物分氧量和各種氮化物分氮量。


儀器介紹
ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是ELTRA公司在新世紀(jì)推出的當(dāng)今世界水平的高技術(shù) 
氧氮?dú)浞治鰞x。該儀器配置有16位微處理器和兩個(gè)獨(dú)立的分別檢測高氧和低氧的 
紅外檢測池。氮和氫通過雙重范圍的熱導(dǎo)檢測池測量。分析過程中可自動實(shí)現(xiàn)從 
低范圍到高范圍的切換。樣品在高功率脈沖爐的石墨坩堝中加熱可達(dá)3000℃以上 
高溫，脈沖爐采用循環(huán)水冷卻。該儀器具有靈敏度高、性能好、測量范圍寬和分 
析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等優(yōu)點(diǎn)。ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是為快速、準(zhǔn)確測定銅、鋼、鑄 
鐵、合金、鈦、鎳、鉬、鋯、陶瓷和其它無機(jī)材料中氧、氮、氫的含量而專門設(shè)計(jì) 
制造的。