產(chǎn)品特點：

1.快速掃描測量
通過提升微小區(qū)域的測量靈敏度以及配合了高速電動平臺，可快速獲得二維元素掃描圖像。特別是強化了對線路板中鉛的掃描測量能力，配備了鉛掃描的濾波器?？蓲呙铏z測出無鉛焊錫中1,000ppm以下的鉛。
2. 寬視野高清晰度的光學系統(tǒng)
可獲得250mm×250mm的20μm以下的高清晰度光學影像。從該光學影像可以精確測量位置，儀器的操作性得到了飛躍般的提升。此外，該光學影響還能和掃描后獲得的影像進行重疊，從而實現(xiàn)了高精度的圖像解析。
3. 快速測量微小區(qū)域的微量金屬
通過所配備的高密度微小X射線束和高計數(shù)率檢測器，以及充分考慮到X射線熒光檢測效率的設計，實現(xiàn)了測量的高靈敏度。可短時間測量微小區(qū)域的微量金屬或薄膜。僅需100秒左右的時間就可檢測出1mm×1mm微小區(qū)域中的有害物質
4.  無需液氮的高計數(shù)率檢測器
標準配備了精工納米獨自研發(fā)設計無需液氮的高計數(shù)率檢測器Vortex。免去了繁瑣的液氮補給過程。開機時間也僅為短短數(shù)分鐘，電子冷卻系統(tǒng)更是值得信賴。減少了液氮在制造、運輸時產(chǎn)生的二氧化碳的排放，同時因為高效率的檢測速度而減少了電力的消耗，是一款環(huán)保型的儀器的因為可以在真空環(huán)境下測量，所以測量范圍擴大為Na～U。（選配）
5. 連續(xù)測量
從所取得的寬視野樣品觀察畫面到樣品臺上的樣品可zui多記錄500個樣品位置，可對不同測量條件的樣品進行連續(xù)測量。
6. 微小區(qū)域的鍍層厚度測量

只需10秒左右的時間，便可對0.2mm×0.2mm大小的Au/Ni/Cu（金/鎳/銅）等薄膜多層鍍層的鍍層厚度進行高精度測量。同時也可以對無鉛焊錫鍍層或化學鎳鍍層中含有的微量鉛進行分析測量。

產(chǎn)品參數(shù)：

可測量元素　　　　　　原子序數(shù)11(Na)～92(U)

樣品形態(tài)　　　　　　　固體、粉末、液體

X射線源(W靶)    　 　 　管電壓：15kV 、30kV、40kV、50kV    管電流：1mA

檢測器　　　　　　　　Vortex? Si半導體檢測器(無需液氮)

準直器　　　　　　　　□0.2、0.5、1.2、3.0mm(自動切換)

樣品觀察　　　　　　　彩色CCD攝像頭

濾波器　　　　　　　　6種模式自動切換

樣品室　　　　　　　　580(W) ×450(D) ×150(H)mm

　　                               可對250(X)×200(Y)mm范圍內進行全面的點分析以及掃描分析

重量（主機）                 160kg(不含電腦)

定性分析功能　　　　　能譜測量、自動辨別，比較表示， KLM標示表示，差異表示

定量分析功能　　　　　塊體FP法，塊體檢量線法(標準曲線法)

統(tǒng)計處理功能　　　　　Microsoft-EXCEL

報告制作　　　　　　　Microsoft-WORD

安裝環(huán)境　　　　　　　溫度：10℃～35℃(±)5℃     濕度：35%～80%

使用電源　　　　　　　AC100~120V、200~240V±10%、10A