技術(shù)原理

　　本公司的脫硝氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)的核心測量模塊采用的是目前的TDLAS技術(shù)測量氨氣。

　　TDLAS(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy)是可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)的簡稱，由于激光二極管采用半導(dǎo)體材料制成，通常又稱為可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光潛技術(shù)。

　　技術(shù)指標(biāo)

　　測量方法：激光吸收光譜( TDLAS)

　　測量組分及量程：NH3：0-10ppm (MIN ) 0-* ( MAX )

　　示值誤差：±2%F.S.

　　重復(fù)性：±2%F.S.

　　響應(yīng)時間：≤90S

　　零點漂移：2%F.S./7d

　　量程漂移：2%F.S./7d

　　防護(hù)等級：IP65

　　模擬接口：4路4-20mA輸出(可配置，zui大帶載能力<800歐)

　　2路4-20mA輸入(可靈活配置，100歐負(fù)載)

　　繼電器輸出：14路，可配置，DC30V2A

　　開關(guān)量輸入：6路，可靈活配置

　　通訊接口：l路RS232，l路RS485，支持Moddbus協(xié)議

　　電源：220±l5%VAC/2KW

　　樣氣流速：1.5±0.1 L/min

　　環(huán)境溫度：-20℃-50℃

　　環(huán)境濕度：0%-95%RH

　　氨逃逸形成：

　　在 大規(guī)模燃燒礦物燃料的領(lǐng)域，例如燃煤發(fā)電廠，都安裝了前燃(pre-combustion)或后燃(post combustion)NOX 控制技術(shù)的 脫硝裝置，后燃NOx 控制技術(shù)可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無論應(yīng)用哪種方法，基本原理都是一樣 的，即都是通過往反應(yīng)器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形 式，無論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應(yīng)區(qū)的空間分布便可以zui大化的降低NOX 排放。氨注入的過少，就會降低還原轉(zhuǎn)化效率，氨注入的過量，不但 不能減少NOX 排放，反而因為過量的氨導(dǎo)致NH3 逃逸出反應(yīng)區(qū)，逃逸的NH3 會與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應(yīng)生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨 鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預(yù)熱器扇面上，會造成嚴(yán)重的設(shè)備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護(hù)費用。在反應(yīng)區(qū)注入的氨分布 情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴(yán)重的問題。

　　氨逃逸的危害：

　　(1)逃逸掉的氨氣造成資金的浪費，環(huán)境污染;

　　(2)氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活(即失效)和堵塞，大大縮短催化劑壽命;

　　(3)逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽(具有腐蝕性和粘結(jié)性)使位于脫銷下游的空預(yù)器蓄熱原件堵塞與腐蝕;

　　(4)過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導(dǎo)致加氣塊(灰磚)無法銷售;