石墨烯研磨分散機,石墨烯研磨分散設備,石墨烯溶液研磨分散機,石墨烯分散機是分散散懸浮是指將不溶固體顆粒分散到液體中在液體介質中的分散體系。在分散過程中,往往需要減小固體顆粒,
石墨烯
石墨烯(Graphene)是一種二維碳材料,是單層石墨烯、雙層石墨烯和少層石墨烯的統(tǒng)稱。石墨烯一直被認為是假設性的結構,無法單獨穩(wěn)定存在,直至2004年,英國曼徹斯特大學物理學家安德烈·海姆(Andre Geim)和康斯坦丁·諾沃肖洛夫(Konstantin Novoselov),成功地在實驗中從石墨中分離出石墨烯,而證實它可以單獨存在,兩人也因“在二維石墨烯材料的開創(chuàng)性實驗”,共同獲得2010年諾貝爾物理學獎。并且,石墨烯在自然界也有產出,它體現(xiàn)為高能物理狀態(tài)下的圈量子的粒子態(tài)相。
石墨烯是已知的世上zui薄、zui堅硬的納米材料,它幾乎是*透明的,只吸收2.3%的光;導熱系數(shù)高達5300 W/m·K,高于碳納米管和金剛石,常溫下其電子遷移率超過15000 cm2/V·s,又比納米碳管或硅晶體高,而電阻率只約10-8 Ω·m,比銅或銀更低,為世上電阻率zui小的材料。因其電阻率極低,電子遷移的速度極快,因此被期待可用來發(fā)展更薄、導電速度更快的新一代電子元件或晶體管。由于石墨烯實質上是一種透明、良好的導體,也適合用來制造透明觸控屏幕、光板、甚至是太陽能電池。
石墨烯研磨分散在NMP 等溶劑中
石墨烯研磨分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產品,在石墨烯的應用上逐步成熟,從小試到中試都有使用。IKN采用德國*的高速研磨分散技術,通過超高轉速(zui高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉子(通常配CM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質,從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。
上海依肯機械設備有限公司 李佩佩
在生產石墨烯的過程中,如何將石墨更好的細化,以及細化后團聚問題的解決,成為的zui大的難點。
上海依肯CMD2000系列研磨分散機,可以很好的解決這兩個問題。CMD2000系列的膠體磨(錐體磨)+分散頭的組合,可以先將石墨混合物(配入溶劑和分散劑)研磨細化,然后再經過分散頭,進行分散。這樣既可以細化又可以避免團聚的現(xiàn)象,為石墨烯行業(yè)提供了強有力的設備力量。
CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
在設計上的突出特點:
1、轉速14000rpm相較其它廠家2900轉左右高出約4-5倍:
2、磨頭結構更精密并有*設計,使之研磨作用力更大,效果更好。
3、德國進口雙端面機械密封擁有*結構和特殊材質保證高速運轉和長使用壽命。
4、CMD2000/5中試型研磨機與大型工業(yè)管線式量產機型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應線速度相同,中試過程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調整,從而將機器型號升級到工業(yè)化的過程中的風險降到zui低。
石墨烯研磨分散機的技術參數(shù):
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。
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