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NIE-4000 IBE/離子束刻蝕系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 那諾-馬斯特中國有限公司
  • 品牌
  • 型號 NIE-4000
  • 產(chǎn)地 美國
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2018/5/10 17:22:15
  • 訪問次數(shù) 371

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


NANO-MASTER(那諾-馬斯特)作為性的專業(yè)薄膜工藝系統(tǒng)的供應商,提供的產(chǎn)品涵蓋了沉積、刻蝕、生長、表面處理、清洗、空間仿真儀器測試等類別。

主要的設備包含有:

E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng),Thermal熱蒸發(fā)系統(tǒng);
PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng);
PLD脈沖激光沉積系統(tǒng),DLC類金剛石沉積系統(tǒng);
Sputering磁控濺射(DC&RF)系統(tǒng);
Ion Beam離子束濺射/清洗/刻蝕/研磨系統(tǒng);
RIE反應離子刻蝕系統(tǒng),DRIE深硅刻蝕系統(tǒng);
ICP電感耦合等離子系統(tǒng);
Plasma等離子清洗/改性/去膠系統(tǒng);
ALD原子層沉積系統(tǒng),PA-MOCVD系統(tǒng);
CNT生長系統(tǒng),石墨烯生長系統(tǒng);
PIII等離子注入系統(tǒng),RTP真空退火;
Megasonic兆聲清洗/刻蝕;
Device Testing Systems設備測試(空間仿真);
Heated Platens等離子樣品臺等。

NANO-MASTER(那諾-馬斯特)的設備廣泛應用于:LED領域,MEMS領域,納米技術領域,光電子學,光伏領域,研究開發(fā)、半導體領域,空間仿真學,新興技術等。

PECVD,PA-MOCVD,蒸發(fā)系統(tǒng),離子束,ALD,等離子源,濺射,刻蝕,熱真空,兆聲清洗機,雙系統(tǒng)

IBE/RIBE離子束刻蝕/反應離子束刻蝕

如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。

NANO-MASTER(那諾-馬斯特)技術已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)的同時,旋轉(zhuǎn)晶圓片以達到想要的均勻度。


產(chǎn)品特點:

  • 14.5”不銹鋼立體離子束腔體
  • 16cm DC離子槍1000eV,500mA, 氣動不銹鋼遮板
  • 離子束中和器
  • 氬氣MFC
  • 6”水冷樣品臺
  • 晶片旋轉(zhuǎn)速度3、10RPM,真空步進電機
  • 步進電機控制晶圓片傾斜
  • 手動或自動上下載晶圓片
  • 典型刻蝕速率:銅200 ?/min, 硅:500 ?/min
  • 6”范圍內(nèi),刻蝕均勻度+/-3%
  • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可達到10-6Torr級別(配套500 l/s渦輪分子泵)
  • 配套1000 l/s渦輪分子泵,極限真空可達8x10-8Torr
  • 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化
  • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
  • 菜單驅(qū)動,4級密碼訪問保護
  • 完整的安全聯(lián)鎖

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