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NIE-4000 IBE/離子束刻蝕系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 那諾-馬斯特中國有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) NIE-4000
  • 產(chǎn)地 美國
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2018/5/10 17:22:15
  • 訪問次數(shù) 372

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NANO-MASTER(那諾-馬斯特)作為性的專業(yè)薄膜工藝系統(tǒng)的供應(yīng)商,提供的產(chǎn)品涵蓋了沉積、刻蝕、生長(zhǎng)、表面處理、清洗、空間仿真儀器測(cè)試等類別。

主要的設(shè)備包含有:

E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng),Thermal熱蒸發(fā)系統(tǒng);
PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng);
PLD脈沖激光沉積系統(tǒng),DLC類金剛石沉積系統(tǒng);
Sputering磁控濺射(DC&RF)系統(tǒng);
Ion Beam離子束濺射/清洗/刻蝕/研磨系統(tǒng);
RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),DRIE深硅刻蝕系統(tǒng);
ICP電感耦合等離子系統(tǒng);
Plasma等離子清洗/改性/去膠系統(tǒng);
ALD原子層沉積系統(tǒng),PA-MOCVD系統(tǒng);
CNT生長(zhǎng)系統(tǒng),石墨烯生長(zhǎng)系統(tǒng);
PIII等離子注入系統(tǒng),RTP真空退火;
Megasonic兆聲清洗/刻蝕;
Device Testing Systems設(shè)備測(cè)試(空間仿真);
Heated Platens等離子樣品臺(tái)等。

NANO-MASTER(那諾-馬斯特)的設(shè)備廣泛應(yīng)用于:LED領(lǐng)域,MEMS領(lǐng)域,納米技術(shù)領(lǐng)域,光電子學(xué),光伏領(lǐng)域,研究開發(fā)、半導(dǎo)體領(lǐng)域,空間仿真學(xué),新興技術(shù)等。

PECVD,PA-MOCVD,蒸發(fā)系統(tǒng),離子束,ALD,等離子源,濺射,刻蝕,熱真空,兆聲清洗機(jī),雙系統(tǒng)

IBE/RIBE離子束刻蝕/反應(yīng)離子束刻蝕

如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會(huì)使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。

NANO-MASTER(那諾-馬斯特)技術(shù)已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)的同時(shí),旋轉(zhuǎn)晶圓片以達(dá)到想要的均勻度。


產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 14.5”不銹鋼立體離子束腔體
  • 16cm DC離子槍1000eV,500mA, 氣動(dòng)不銹鋼遮板
  • 離子束中和器
  • 氬氣MFC
  • 6”水冷樣品臺(tái)
  • 晶片旋轉(zhuǎn)速度3、10RPM,真空步進(jìn)電機(jī)
  • 步進(jìn)電機(jī)控制晶圓片傾斜
  • 手動(dòng)或自動(dòng)上下載晶圓片
  • 典型刻蝕速率:銅200 ?/min, 硅:500 ?/min
  • 6”范圍內(nèi),刻蝕均勻度+/-3%
  • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可達(dá)到10-6Torr級(jí)別(配套500 l/s渦輪分子泵)
  • 配套1000 l/s渦輪分子泵,極限真空可達(dá)8x10-8Torr
  • 磁控濺射Si3N4以保護(hù)被刻蝕金屬表面被氧化
  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
  • 菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問保護(hù)
  • 完整的安全聯(lián)鎖


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