KSV NIMA LS膜分析儀
- 公司名稱 瑞典百歐林科技有限公司
- 品牌
- 型號 KSV NIMA
- 產(chǎn)地 芬蘭
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/3/25 10:18:59
- 訪問次數(shù) 1998
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瑞典百歐林科技有限公司是一家*科研儀器生產(chǎn)商，在北歐的瑞典，丹麥和芬蘭都有主要產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)基地。我們?yōu)橛脩籼峁└呖萍?、高精度的科研設(shè)備，可用于表界面、材料科學、生物科學、藥物開發(fā)與診斷等研究領(lǐng)域。
我們同時專注于用戶的技術(shù)和應用支持，以及科技的發(fā)展與進步。我們的產(chǎn)品均基于*的測量技術(shù)，而這些技術(shù)，或為我們，或為我們*，或在*科研與發(fā)展中占主導地位。我們的核心戰(zhàn)略是，通過尋找具有廣闊商業(yè)前景的科研領(lǐng)域，來應用我們的產(chǎn)品與技術(shù)。我們的現(xiàn)階段包含三大產(chǎn)品線：
QSense：用于研究大分子界面以及相互作用的分析儀器
QSense Pro耗散型全自動八通道石英晶體微天平；
QSense Omni下一代全自動四通道石英晶體微天平；
QSense Analyzer四通道石英晶體微天平QCM-D；
QSense Explorer單通道擴展版QCM-D；
QSense Initiator單通道基礎(chǔ)版QCM-D；
KSV NIMA：單分子層薄膜的構(gòu)建與表征工具
LB（Langmuir-Blodgett）膜分析儀；
氣液、液液/氣固界面上有序單層和多層結(jié)構(gòu)的組裝和表征
布魯斯特顯微鏡；
無損實時監(jiān)測空氣/水界面處分子層的圖像
界面剪切流變儀；
高靈敏度測量液體界面處的流變性能
浸漬鍍膜機；
無振動，可程序控制的固體樣品浸漬方案
界面紅外反射吸收光譜儀
用于薄膜和漂浮的單分子層膜的*的表面光譜方法
Attension：界面科學與材料技術(shù)所用的表面張力測量設(shè)備
光學接觸角測量儀/表界面張力儀 Theta/Theta Lite/Theta QC光學接觸角測量儀
力學法表界面張力儀Sigma 700/701/702/702ET/703D表/界面張力儀
主要的客戶來自于學術(shù)機構(gòu)、科研單位以及企業(yè)研發(fā)部門。在科研領(lǐng)域，用戶使用我們的儀器作為分析工具，以更好地開展基礎(chǔ)或應用研究，獲取和發(fā)表優(yōu)異的科研結(jié)果。在工業(yè)應用領(lǐng)域，分析儀器同時用于基礎(chǔ)研究和質(zhì)量控制過程。我們的主要工業(yè)用戶均為各領(lǐng)域性的*。目前，百歐林的用戶已遍布70多個國家和地區(qū)。
中國代表處:
上海市浦東新區(qū)祖沖之路2290弄展想廣場1號樓1205室
電話 86 21 6837 0071/68370072
石英晶體微天平，耗散型石英晶體微天平，QCM-D，LB膜分析儀，布魯斯特角顯微鏡，界面剪切流變儀，光學接觸角測量儀，表面張力測量儀，薄膜制備與分析儀器
LS膜分析儀產(chǎn)品簡介
KSV NIMA為瑞典百歐林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要經(jīng)營方向為單分子層薄膜的構(gòu)建與表征工具。LS（Langmuir-Schaefer）膜分析儀為KSV NIMA自主研發(fā)的一款單分子層膜的制備和表征設(shè)備，是LS膜的沉積領(lǐng)域應用zui廣泛的一款設(shè)備。
LS膜分析儀基本組件與LB膜分析儀相同，但將原有垂直鍍膜頭更換為水平鍍膜頭組件，在所需的堆積密度下，鍍膜頭可以用來將Langmuir膜水平轉(zhuǎn)移到固體基材上，Langmuir膜的密度，厚度及均勻性等性質(zhì)將會保留，從而實現(xiàn)了制備不同組成的多分子層結(jié)構(gòu)的可能。
常規(guī)的包含三種型號的槽體：小型、中型、大型。
工作原理
位于氣-液或液-液界面處不可溶的功能性分子、納米顆粒、納米線或微粒所形成的單分子層可定義為Langmuir膜。這些分子能夠在界面處自由移動，具有較強的流動性，易于控制其堆積密度，研究單分子層的行為。將材料沉積在淺池（稱頂槽）中的水亞相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，單分子層可以被壓縮。表面壓力即堆積密度可以通過Langmuir膜分析儀的壓力傳感器進行控制。
在進行典型的等溫壓縮測試時，單分子層先從二維的氣相(G)轉(zhuǎn)變到液相(L)zui后形成有序的固相(S)。在氣相中，分子間的相互作用力比較弱；當表面積減小，分子間的堆積更為緊密，并開始發(fā)生相互作用；在固相時，分子的堆積是有序的，導致表面壓迅速增大。當表面壓達到zui大值即塌縮點后，單分子層的堆積不再可控。
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