拋光液拋光綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì)：

單純的化學(xué)拋光：拋光速率較快、表面光潔度高、損傷低，但表面平整度和平行度差，拋光后表面*性差；

單純的機(jī)械拋光：表面*性好、表面平整度和平行度高，但表面光潔度差、損傷層深。拋光液拋光可以獲得較為*的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高，是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的有效方法。

拋光膏和拋光粉的差別在于：拋光膏除開(kāi)本身含有該粒度的優(yōu)質(zhì)拋光粉作為磨料以外，還含有濕潤(rùn)劑、表面活性劑、分散穩(wěn)定劑和調(diào)整劑等配置而成。拋光膏集物理和化學(xué)原理于一身，效能比拋光粉相對(duì)更優(yōu)異。

拋光膏和拋光液的差別在于：拋光膏是粘度類(lèi)似于牙膏狀的膏體，而拋光液是粘度類(lèi)似于植物油狀的液體。拋光液相比拋光膏的流動(dòng)性更好！

拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類(lèi)：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液）、氧化鋁拋光液、氧化鈰拋光液、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鉻拋光液和碳化硅拋光液等幾類(lèi)。

氧化鋁拋光液的特性如下:

我司氧化鋁拋光液是以微米或納米級(jí)氧化鋁為磨料，再配以濕潤(rùn)劑、表面活性劑、分散穩(wěn)定劑和調(diào)整劑生產(chǎn)的一種研磨拋光材料。該拋光液具有硬度高、磨削力強(qiáng)、適用范圍廣、懸浮穩(wěn)定性好、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。

氧化鋁拋光液廣泛應(yīng)用于：

玻璃、金屬、單晶硅片等半導(dǎo)體、塑料、壓電晶學(xué)、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料、顯像玻殼 、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、光學(xué)鏡頭、高檔石材、各種金屬裝飾材料、非金屬、陶瓷加工、不銹鋼材、銅、鋁材、水晶、人造或天然寶石等行業(yè)的高精度表面處理。

產(chǎn)品粒度有W0.05、W0.3、W0.5、W1.0、W2.0、W3.0、W5.0、W7.0、W10等。

產(chǎn)品包裝：200毫升/瓶和500毫升/瓶。