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YZ-2030 宇正YZ-2030大功率水冷夾套不銹鋼腔體式微波等離子體化學氣相沉積裝置

具體成交價以合同協(xié)議為準

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    合肥宇正等離子體技術(shù)有限公司(宇正公司)是以微波等離子體應用技術(shù)及其相關(guān)裝置、工藝為研究開發(fā)對象的高科技公司,專業(yè)從事微波等離子體應用技術(shù)研究開發(fā)和生產(chǎn),致力于微波等離子體應用技術(shù)的科技成果轉(zhuǎn)化和產(chǎn)業(yè)化。宇正公司的主營業(yè)務為等離子體技術(shù)應用設備與制品,微波能應用技術(shù)設備與制品,以及科技咨詢與技術(shù)服務等。


    合肥宇正等離子體技術(shù)有限公司依托*合肥物質(zhì)科學研究院(包括等離子體物理研究所、智能機械研究所等單位)與中國科學技術(shù)大學的人才資源和技術(shù)優(yōu)勢,由部分*從事國家重大科學工程的科技研發(fā)人員創(chuàng)建,擁有一批微波等離子體應用技術(shù)方面的*專家和中堅骨干,形成一支經(jīng)驗豐富的集高頻,微波和等離子體技術(shù)、電氣自控技術(shù)、機械設計加工以及成套工程技術(shù)和高級管理相結(jié)合的精干團隊。宇正公司緊密追蹤微波等離子體應用技術(shù)的*水平,站在技術(shù)發(fā)展的前沿。宇正公司還擁有嚴格的質(zhì)量管理和*的顧客服務體系。宇正公司的宗旨是為用戶提供優(yōu)質(zhì)的微波等離子體應用技術(shù)產(chǎn)品和滿意的服務。


    宇正公司具有微波、真空、等離子體測試手段,計算機CAD系統(tǒng),多種微波和等離子體實驗研究系統(tǒng)以及必要的工藝和機械加工裝配手段,具備了從理論計算、數(shù)值模擬、工程設計、加工裝配、調(diào)試檢驗、批量生產(chǎn)和質(zhì)量控制等一整套研開發(fā)以及專業(yè)化生產(chǎn)的優(yōu)勢能力。公司具有可靠的材料,元器件供貨渠道和外協(xié)加工配套基地。宇正公司技術(shù)核心團隊成員從事微波等離子體應用技術(shù)研究開發(fā)二十余年,曾到*公司和大學研究機構(gòu)訪問合作,將*的技術(shù)和理念直接引進國內(nèi)。經(jīng)過多年堅持不懈的研究和開發(fā),已在微波等離子體*領(lǐng)域形成了一套具有自主知識產(chǎn)權(quán)的系列產(chǎn)品和技術(shù),在國內(nèi)居*地位。并已與國內(nèi)眾多家用戶有著密切的合作關(guān)系和良好的信譽。


    宇正公司曾經(jīng)為多個用戶制造過不銹鋼腔體式、石英管式、石英鐘罩式和水冷夾套不銹鋼腔體式微波等離子體化學氣相沉積制備金剛石膜裝置,微波等離子體余輝聚合有機薄膜裝置,微波等離子體小試樣紡織品處理裝置,微波等離子體高聚物表面活化裝置,微波等離子體清洗(去膠)裝置,通用型ECR等離子體裝置,ECR等離子體源離子注入(ECRPIII)裝置等等,宇正公司也是微波等離子體應用領(lǐng)域的高技術(shù)研究向產(chǎn)業(yè)化轉(zhuǎn)化的操作平臺,根據(jù)市場需要自行研制各種微波等離子體應用裝置,或者與有關(guān)大學(研究所或企業(yè)研發(fā)部門)合作研制特定用途的微波等離子體*設備與工藝,*國內(nèi)技術(shù)空白。

YZ-2多功能微波等離子體裝置
金剛石膜制備裝置
紡織品處理裝置
高聚物表面活化裝置
微波等離子體清洗去膠裝置

概述
宇正YZ-2030大功率水冷夾套不銹鋼腔體式微波等離子體化學氣相沉積裝置由合肥宇正等離子體技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)。該裝置早在2000年就通過省*鑒定并在多所大學與科研院所等單位投入使用,效果良好。歷經(jīng)多年發(fā)展,該裝置技術(shù)*,性能穩(wěn)定,使用方便可靠。
宇正YZ-2030大功率水冷夾套不銹鋼腔體式微波等離子體化學氣相沉積裝置由微波系統(tǒng)、水冷諧振腔反應室、氣路系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、循環(huán)水冷卻系統(tǒng)和電子控制系統(tǒng)組成。裝置的主要工作原理是由微波源產(chǎn)生頻率為2450MHz的微波,沿波導管傳輸,zui后在水冷諧振腔反應室內(nèi)激勵氣體形成軸對稱的等離子體球,等離子體球的直徑大小取決于真空沉積室中的氣體壓力和微波功率?;瑴囟纫晕⒉ǖ入x子體的自加熱方式達到。
對于CH4-H2氣體系統(tǒng)而言,在高能量高密度等離子體和合適的工藝條件下,氣體發(fā)生離解而產(chǎn)生大量含碳基團和原子氫。含碳基團在基片表面進行結(jié)構(gòu)重組,由于原子氫對SP2鍵的刻蝕作用遠比對SP3鍵強烈,這樣重組后的碳-碳間具有金剛石結(jié)構(gòu)的SP3鍵得以保留,開始金剛石晶粒的優(yōu)先成核、生長階段,逐漸在基片表面上得到完整的金剛石薄膜。該裝置產(chǎn)生和維持微波等離子體球均為無電極放電,避免了電極的放電污染,可以獲得純凈的金剛石膜,能量轉(zhuǎn)換效率也較高,運行氣壓范圍寬,可產(chǎn)生大范圍高密度等離子體。該裝置可用于各種薄膜的沉積、等離子體清洗、微波燒結(jié)、金屬表面強化和高聚物表面改性等方面,特別適合制備大面積均勻無雜質(zhì)污染的高質(zhì)量金剛石膜(白色透明),廣泛應用于機械、光學、電子、航空航天、國防軍事等領(lǐng)域。
 
技術(shù)指標與特性
1)         微波功率源采用*的單片機控制,精度高,穩(wěn)定性好。微波源采用連鎖控制方式和可靠的保護系統(tǒng),能有效防止誤操作,保證了微波源正常安全地工作。該微波源工作頻率為2450MHz(正負15MHz),輸出功率為500~5000W連續(xù)可調(diào),反射功率為輸出功率的0~50%連續(xù)可調(diào)(要求三相電源不平衡zui大電壓差不超過3%)。電源電壓在265~410V變化且輸出功率為5KW時,輸出功率變化小于2%。功率顯示采用兩套6位數(shù)字分別顯示輸出功率和反射功率。
2)         微波傳輸系統(tǒng)帶三端環(huán)形器、電動三銷釘調(diào)配器、大功率負載,可保證等離子體終端負載的駐波系數(shù)(VSWR)在1.5-20大幅變化時仍能調(diào)配和穩(wěn)定工作。大功率負載上有反射檢波器,以檢測反射功率的大小。
3)         微波傳輸與模式轉(zhuǎn)換系統(tǒng)由環(huán)形器、水負載、定向耦合器、三螺釘阻抗調(diào)配器、微波模式轉(zhuǎn)換器(包括耦合天線)及BJ26銅波導。
4)         氣路系統(tǒng)由三路氣體自動質(zhì)量流量控制器組成,流量范圍0-1000sccm,0-50sccm,0-30sccm。響應時間10sec,準確度正負2%,工作壓差范圍0.05-0.3MPa。氣體直接由反應室頂部通過均流環(huán)進入沉積室,氣體流量大小由質(zhì)量流量控制器進行控制和測量及顯示。
5)         真空測量儀表采用電離規(guī)管復合真空計、熱偶真空計和壓敏真空計,可精確測量本底真空和工作氣體壓強。
6)         真空泵及閥門采用渦輪分子泵(極限真空為1x10^-5Pa)和旋片式機械真空泵(極限真空為6x10^-2Pa),裝置可調(diào)節(jié)高真空隔膜閥和并聯(lián)高真空微調(diào)閥控制沉積氣壓。
7)         沉積室由全金屬密封微波石英窗(直徑100mm)水冷不銹鋼腔室(直徑140mm)和水冷基片臺(可自由升降和旋轉(zhuǎn))組成。該沉積室采用反應氣體均流措施,石英窗口內(nèi)加有氣體均流環(huán),使反應室內(nèi)基片加熱以微波等離子體自加熱方式實現(xiàn)。
8)         裝置常規(guī)采用380V三相電源。
9)         自帶冷卻水循環(huán)系統(tǒng)形成冷卻水。 制冷系統(tǒng)可保證冷卻水溫度在30度以下, 無水源要求。水冷裝置除對微波系統(tǒng)和分子泵進行冷卻外,還對等離子體反應沉積室和基片臺進行冷卻,保證裝置能在高功率下*穩(wěn)定運行。
 
*性
1)         在微波耦合技術(shù)和模式轉(zhuǎn)換技術(shù)方面成功實現(xiàn)了微波與等離子體的軸對稱耦合,提高了微波功率的輸入水平,改善反應沉積室對微波傳輸線的阻抗匹配,形成了軸對稱球狀大面積的等離子體球。
2)         采用有效的氣體均流措施,在微波石英窗下的不銹鋼反應腔內(nèi)加有氣體均流環(huán),使進入反應室內(nèi)氣相化合物的氣流分布比較均勻且分解充分,有利于形成高質(zhì)量大面積均勻薄膜特別是金剛石薄膜?;_可水冷且電動控制升降,還能手動旋轉(zhuǎn)。
3)         微波輸入石英窗口是全金屬封閉。裝置配備循環(huán)水冷卻系統(tǒng),可對微波系統(tǒng)(磁控管、水負載、模式轉(zhuǎn)換器)、等離子體反應腔、微波輸入窗口和基片臺進行冷卻,保證裝置能長時間在高微波功率下穩(wěn)定運行,增加了裝置使用壽命和功能。
4)         微波扼流快捷裝卸門可保證基體和產(chǎn)品的快捷裝卸,并能有效防止微波泄露。
5)         電動升降的微波扼流式水冷基片臺可使等離子體球覆蓋表面并能調(diào)控基片溫度。
6)         反應腔室設置多個法蘭窗口,便于直接觀察等離子體反應過程。根據(jù)用戶需求可另外加入光學測溫和等離子體原位診斷以及基片偏壓和熱電偶測溫。
7)         反應室除了快捷裝卸門的密封外,其他均采用金屬密封,提高了反應室的功率容量,大大提高了反應室的本底真空。在整體水冷的條件下可大大減少等離子體中的雜質(zhì)污染,為高純度產(chǎn)品制備提供保證。
8)         整個裝置采用*的PLC(可編程邏輯控制器)控制,通過控制面板設置運行參數(shù)后,裝置運行控制全部由PLC完成,控制精確穩(wěn)定性強,使用簡單方便。該裝置配有標準的RS-232串行接口,方便與計算機連接并提供計算機控制軟件,亦可由計算機控制裝置運行。該裝置配備完善的保護系統(tǒng),對電源、冷卻水、內(nèi)部打火等異常情況能自動保護,磁控管各參數(shù)自動檢測和連鎖保護,確保工作安全可靠。提供外接連鎖保護接口,含220V/1A交流控制輸出和門開關(guān)保護接口。當水電氣出現(xiàn)故障裝置會自動報警并切斷電源,可實現(xiàn)長時間無人值守自動運行。


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