TF1200-PECVD PECVD石墨烯生長制備爐
參考價 | ¥ 1688 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 昆山艾科迅機械有限公司
- 品牌
- 型號 TF1200-PECVD
- 產(chǎn)地 江蘇蘇州
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2017/5/6 13:55:27
- 訪問次數(shù) 597
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PECVD石墨烯生長制備爐,滑軌式設(shè)計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處,使樣品能得到一個快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下,得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)裝置,可準(zhǔn)確的控制反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力,帶刻度的調(diào)節(jié)閥對于做低壓CVD非常簡單實用,工藝重復(fù)性好,對于石墨烯生長工藝非常合適,也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
PECVD石墨烯生長制備爐特征描述
此款設(shè)備配有Plasma實現(xiàn)等離子增強,滑軌式設(shè)計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處,使樣品能得到一個快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下,得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)裝置,可準(zhǔn)確的控制反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力,帶刻度的調(diào)節(jié)閥對于做低壓CVD非常簡單實用,工藝重復(fù)性好,對于石墨烯生長工藝非常合適,也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
功能及特點
1、利用輝光放電產(chǎn)生等離子體電子激活氣相;
2、提高了氣相反應(yīng)的沉積速率、成膜質(zhì)量;
3、可通過調(diào)整射頻電源頻率來控制沉積速率;
4、能廣泛用于:石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。
技術(shù)參數(shù)