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TF1200-PECVD PECVD石墨烯生長制備爐

參考價 1688
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 昆山艾科迅機械有限公司
  • 品牌
  • 型號 TF1200-PECVD
  • 產(chǎn)地 江蘇蘇州
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2017/5/6 13:55:27
  • 訪問次數(shù) 597

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昆山艾科迅機械有限公司是上海同濟大學(xué)在高溫爐方面潛行研究數(shù)十載,應(yīng)昆山市委市政府號召及廣大客戶強烈要求于昆山市經(jīng)濟開發(fā)區(qū)創(chuàng)立。公司專注于電爐生產(chǎn)與銷售,公司擁有面積10000余平方米的專業(yè)化標(biāo)準(zhǔn)作業(yè)車間及辦公場地,年生產(chǎn)量1000余臺,擁有一批具有材料、機械、電子、自動化等方面有著高水平的專業(yè)知識和豐富的經(jīng)驗,為我司優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品提供了Z有力的技術(shù)保障。其中高級顧問團6人,專業(yè)技術(shù)團隊16人,技術(shù)工人30人的電爐事業(yè)精英團隊。

以*的科學(xué)設(shè)計、*的制作工藝、和強大的科研團體為廣大科研院所、大學(xué)院校及工礦企業(yè)實驗室提供專業(yè)的儀器設(shè)備和高品質(zhì)的服務(wù)。我們本著“為人類創(chuàng)造較好的科學(xué)實驗設(shè)備”為使命;堅持誠信、責(zé)任、健康、科學(xué)發(fā)展、創(chuàng)造客戶價值并有效滿足客戶需求為基本準(zhǔn)則;以品德和能力贏得信任,以貢獻贏得回報的客戶價值觀;以人為本、理性追求、變革創(chuàng)新、*經(jīng)營、協(xié)作共享的核心價值觀。致力于成為高溫電爐設(shè)備領(lǐng)域的“科技創(chuàng)新”,堅持“創(chuàng)新科技、服務(wù)未來”的經(jīng)營理念,實施“以技術(shù)合作為基礎(chǔ),強化自主創(chuàng)新,樹立技術(shù)優(yōu)勢”的技術(shù)發(fā)展戰(zhàn)略;我們的口號是“愛科學(xué)、愛生活”。

     公司自主研發(fā)生產(chǎn)上百款不同規(guī)格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產(chǎn)品,其中包括:箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、球磨機及新能源鋰離子電池研發(fā)等相關(guān)實驗室設(shè)備。也可根據(jù)客戶需求定制各式爐型,以滿足高校、科研院所和工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、氣氛還原和質(zhì)量檢測之用,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于材料、物理、化學(xué)、冶金、化工、新型能源開發(fā)等領(lǐng)域。產(chǎn)品從原材料采購、生產(chǎn)制作、包裝檢驗,嚴(yán)格的按質(zhì)量安全體系,確保品質(zhì)。另外,我公司還提供完善的售后服務(wù)體系,您在購買產(chǎn)品后遇到疑難問題時,我們將*時間為您排憂解難,竭力為科學(xué)進步和社會發(fā)展做出貢獻。

高溫爐,馬弗爐,氣氛爐,管式爐,真空爐

PECVD石墨烯生長制備爐,滑軌式設(shè)計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處,使樣品能得到一個快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下,得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)裝置,可準(zhǔn)確的控制反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力,帶刻度的調(diào)節(jié)閥對于做低壓CVD非常簡單實用,工藝重復(fù)性好,對于石墨烯生長工藝非常合適,也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。

PECVD石墨烯生長制備爐特征描述 

此款設(shè)備配有Plasma實現(xiàn)等離子增強,滑軌式設(shè)計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處,使樣品能得到一個快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下,得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)裝置,可準(zhǔn)確的控制反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力,帶刻度的調(diào)節(jié)閥對于做低壓CVD非常簡單實用,工藝重復(fù)性好,對于石墨烯生長工藝非常合適,也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。

 

功能及特點

1、利用輝光放電產(chǎn)生等離子體電子激活氣相;

2、提高了氣相反應(yīng)的沉積速率、成膜質(zhì)量;

3、可通過調(diào)整射頻電源頻率來控制沉積速率;

4、能廣泛用于:石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。

 

技術(shù)參數(shù)

 



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