RZ-TYAC 瑞澤氣站配置5-1500Nm3/h氬氣純化裝置
- 公司名稱(chēng) 瑞澤氣體凈化湖北有限公司
- 品牌
- 型號(hào) RZ-TYAC
- 產(chǎn)地 湖北咸寧
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2018/4/3 9:07:17
- 訪問(wèn)次數(shù) 398
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瑞澤氣站配置5-1500Nm3/h氬氣純化裝置
裝置說(shuō)明:
原料氬為工業(yè)普氬時(shí),其純化工藝為,采用非蒸散型吸氣劑為凈化劑,在一定溫度下,吸氣劑可將普氬氣中的O2、N2、H2、CO、CO2、CH4等雜質(zhì)形成穩(wěn)定的化合物或固溶體,從而達(dá)到對(duì)氬氣精制的目的。本裝置凈化器采用特殊結(jié)構(gòu),具有接觸面積大、阻力小、凈化效率高、熱功率損耗小等優(yōu)點(diǎn)。本裝置吸附干燥器對(duì)氬氣進(jìn)行深度脫水,可與區(qū)熔硅晶爐配套使用可用于激光器、濺射、半導(dǎo)體生產(chǎn),氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。
一、瑞澤氣站配置5-1500Nm3/h氬氣純化裝置技術(shù)參數(shù):
1、處理氣量: 5~500Nm³/h
2、純化后氬氣純度 99.9995%
純氬技術(shù)要求應(yīng)符合下表的規(guī)定符合:GB/T4842-2006
項(xiàng)目 | 原料氣指標(biāo) | 純氬指標(biāo) | 純化后指標(biāo) |
氬氣純度(體積分?jǐn)?shù))/10-2 | 99.99% | 99.999% | 99.9995% |
氫氣含量(體積分?jǐn)?shù)) ≤ ppm | 5 | 1.0 | 0.5 |
氧氣含量(體積分?jǐn)?shù))≤ ppm | 10 | 1.5 | 1.0 |
氮含量(體積分?jǐn)?shù))≤ ppm | 50 | 4 | 2 |
烴類(lèi)含量(體積分?jǐn)?shù))≤ ppm | 20 | 1 | 0.5 |
水份含量(體積分?jǐn)?shù))≤ ppm | 15 | 3 | 2.0 |
裝置特點(diǎn):
1. 凈化則采用了*的凈化材料。其特點(diǎn)有吸附深度好,吸收雜質(zhì)氣體量大的特點(diǎn),zui高純度可達(dá)99.9999%以上。
2. 并在zui后安裝了小于0.1μ的金屬過(guò)濾器。保證了氣體粉末的要求。
3. 本裝置的閥門(mén)采用國(guó)內(nèi)外專(zhuān)業(yè)閥門(mén)公司的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品,保證了產(chǎn)品的高純度無(wú)滲透及安全可靠性。
4. 設(shè)備中全部容器、管道、閥門(mén)均為不銹鋼材質(zhì)。
5. 設(shè)備中全部選用我公司跟蹤*水平而研制的凈化材料,具有凈化深度好、安全可靠、可反復(fù)再生的特點(diǎn)。
6. 設(shè)備中的主要控制儀表全部采用國(guó)內(nèi)外*產(chǎn)品。
7. 接頭采用*的高純接頭,保證了無(wú)滲透。
8. 外觀設(shè)計(jì)采用流行顏色及形式,使產(chǎn)品更美觀。
9. 設(shè)備可以在線加裝微氧分析儀和微量水分析儀使凈化后氣體得到監(jiān)測(cè)。避免了因設(shè)備問(wèn)題的損失。
10. 本設(shè)備具有體積小,操作簡(jiǎn)便,能耗小,安全可靠的特點(diǎn)。無(wú)須頻繁再生及再生無(wú)須加氫的特點(diǎn)。
11. 本設(shè)備在金屬保護(hù)行業(yè)、電子、電光源、科研、氣體、分析、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學(xué)儀器等的配套使用設(shè)備,得到了廣泛的應(yīng)用。
12. 另外,我公司還可以根據(jù)用戶(hù)的不同需求,定制5 m3/h~500 m3/h的大凈化流量高純氣體凈化器。詳情請(qǐng)來(lái)電垂詢(xún),歡迎訂購(gòu)。
13. 可根據(jù)用戶(hù)的要求對(duì)設(shè)備進(jìn)行再設(shè)計(jì),如加裝水分儀和全自動(dòng)設(shè)備(價(jià)格另議) 設(shè)備加裝微氧分析儀使凈化后氣體得到監(jiān)測(cè)。避免了因設(shè)備問(wèn)題的損失。本設(shè)備具有體積小,操作簡(jiǎn)便,能耗小,安全可靠的特點(diǎn)。無(wú)需頻繁再生及再生無(wú)須加氫的特點(diǎn)。
- :本公司也可根據(jù)客戶(hù)要求,直接做高壓的,這樣就可省掉使用模壓機(jī)增壓工序。
高純氬氣主要用途:用于焊接、不銹鋼制造、冶煉,還用于半導(dǎo)體制造工藝中的化學(xué)氣相淀積、晶體生長(zhǎng)、熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護(hù)氣,為了提高硅晶體的質(zhì)量,如何選用較高純度的氬氣,是制作硅晶體的一個(gè)議題。 氬氣純化裝置是針對(duì)需要使用超高純度氬氣的客戶(hù)而設(shè)計(jì)的。
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