保護(hù)氣氛用高純?nèi)饾蓺錃鈨艋瘷C(jī)

1.保護(hù)氣氛用高純?nèi)饾蓺錃鈨艋瘷C(jī)裝置要求：

 工藝要求：

   額定處理氣量：30~3000Nm³/h

   氫氣經(jīng)干燥后雜質(zhì)含量應(yīng)控制為：

H₂≥99.99% 

水氣（H₂O）≦-65℃

粉塵：氫氣干燥后，要求加絲網(wǎng)目≦0.1μ的過濾器。

所有電器元件防爆等級為EXDII CT4 ，采用正壓防爆柜。                                                                                                                      3.原理：

氫氣干燥裝置以普氫氣為原料（含飽和水），冷采用卻冷凝法和13X分子篩吸附干燥法兩級去濕除水和除二氧化碳，經(jīng)精密過濾器高效除塵，獲得高純度氫氣。

 4.工藝流程

原料氫→冷凝→吸附干燥→過濾→純氫

原料氫氣進(jìn)入冷凝器，利用冷凝器將游離水排放出來，其余的水將隨氫氣進(jìn)入吸附干燥器，被分子篩吸附掉，同時吸附掉二氧化碳。經(jīng)過純化處理后的干燥氫氣通過精密過濾器高效除塵，從而獲得純度較高的氫氣。

1.  用途

    氫氣是主要的工業(yè)原料，是重要的工業(yè)氣體和特種氣體，本公司凈化設(shè)備能把工業(yè)瓶裝氫氣凈化得到高純氫、超高純氫。高純氫氣廣泛應(yīng)用于石油化工、電子工業(yè)、電子半導(dǎo)體、冶金工業(yè)、機(jī)械、食品加工、浮法玻璃、高純材料和光電材料等產(chǎn)業(yè)部門和科學(xué)研究中、生產(chǎn)部門亦可作為熱處理保護(hù)氣體以及精細(xì)有機(jī)合成、航空航天等方面有著廣泛的應(yīng)用。例如本機(jī)已在精密合金熱處理、航天航空、半導(dǎo)體硅材料、硅外延、化合物半導(dǎo)體等的生產(chǎn)中的應(yīng)用，效果都很好。

    歡迎新老用戶選擇我公司產(chǎn)品：氫氣干燥裝置，氣體干燥裝置，氫氣干燥機(jī)，無熱再生氣體干燥裝置，吸附式氫氣干燥裝置，常壓氫氣干燥裝置，中壓氫氣干燥裝置。